[實(shí)用新型]一種飛點(diǎn)形成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520096965.5 | 申請日: | 2015-02-11 | 
| 公開(公告)號: | CN204495745U | 公開(公告)日: | 2015-07-22 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王彥華;曹艷鋒;王少鋒;劉錚 | 申請(專利權(quán))人: | 北京君和信達(dá)科技有限公司 | 
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04;G01V5/00 | 
| 代理公司: | 北京邦信陽專利商標(biāo)代理有限公司 11012 | 代理人: | 黃澤雄;金璽 | 
| 地址: | 100011 北京市西城區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 | 
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 形成 裝置 | ||
1.一種飛點(diǎn)形成裝置,包括輻射源和屏蔽體,屏蔽體為中空圓柱體,屏蔽體側(cè)壁上具有成對設(shè)置的螺旋槽,每對螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽,其特征在于,具有兩對螺旋槽,其中,
第一入射槽的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)分別對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角和最大下張角,第二入射槽的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)也分別對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角和最大下張角;
在屏蔽體圓周方向上,第一入射槽和第二入射槽共同占0-180°的范圍;
第一出射槽和第二出射槽分別與第一入射槽和第二入射槽相對應(yīng)。
2.一種飛點(diǎn)形成裝置,包括輻射源和屏蔽體,屏蔽體為中空圓柱體,屏蔽體側(cè)壁上具有成對設(shè)置的螺旋槽,每對螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽,其特征在于,具有三對螺旋槽,其中,
第一入射槽的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)分別對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角和最大下張角;
第二入射槽和第三入射槽在豎直方向上連續(xù),且在水平方向上不連續(xù);
第二入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,第三入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
在屏蔽體圓周方向上,第一、第二和第三入射槽共同占0-360°的范圍;
第一、第二和第三出射槽分別與第一、第二和第三入射槽相對應(yīng)。
3.一種飛點(diǎn)形成裝置,包括輻射源和屏蔽體,屏蔽體為中空圓柱體,屏蔽體側(cè)壁上具有成對設(shè)置的螺旋槽,每對螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽,其特征在于,具有四對螺旋槽,其中,
第一入射槽和第二入射槽在豎直方向上連續(xù),且在水平方向上不連續(xù);
第一入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,第二入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
第三入射槽和第四入射槽在豎直方向上連續(xù),且在水平方向上不連續(xù);
第三入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,第四入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
在屏蔽體圓周方向上,第一、第二、第三和第四入射槽共同占0-360°的范圍;
第一、第二、第三和第四出射槽分別與第一、第二、第三和第四入射槽相對應(yīng)。
4.如權(quán)利要求3所述的飛點(diǎn)形成裝置,其特征在于,其中第一入射槽和第二入射槽的分界面為第一分界面,第三入射槽和第四入射槽的分界面為第二分界面,第一分界面和第二分界面重合。
5.如權(quán)利要求3所述的飛點(diǎn)形成裝置,其特征在于,其中第一入射槽和第二入射槽的分界面為第一分界面,第三入射槽和第四入射槽的分界面為第二分界面,第一分界面和第二分界面不重合。
6.一種飛點(diǎn)形成裝置,包括輻射源和屏蔽體,屏蔽體為中空圓柱體,屏蔽體側(cè)壁上具有成對設(shè)置的螺旋槽,每對螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽,其特征在于,具有五對螺旋槽,其中,
第一入射槽和第二入射槽在豎直方向上連續(xù),且在水平方向上不連續(xù);
第一入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,第二入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
第三、第四和第五入射槽在豎直方向上兩兩連續(xù),且在水平方向上兩兩不連續(xù);
第三入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,第五入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
在屏蔽體圓周方向上,第一、第二、第三、第四和第五入射槽共同占0-360°的范圍;
第一、第二、第三、第四和第五出射槽分別與第一、第二、第三、第四和第五入射槽相對應(yīng)。
7.一種飛點(diǎn)形成裝置,包括輻射源和屏蔽體,屏蔽體為中空圓柱體,屏蔽體側(cè)壁上具有成對設(shè)置的螺旋槽,每對螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽,其特征在于,具有至少三對螺旋槽,用于生成至少兩列飛點(diǎn),其中,
所述至少三對螺旋槽中的M個(gè)入射槽和M個(gè)出射槽用于生成一列飛點(diǎn),M≥2;并且,
所述M個(gè)入射槽在豎直方向上兩兩連續(xù),且在水平方向上兩兩不連續(xù);
所述M個(gè)入射槽中的第1個(gè)入射槽的最高點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大上張角,所述M個(gè)入射槽中的第M個(gè)入射槽的最低點(diǎn)對應(yīng)輻射源射線束的最大下張角;
在屏蔽體圓周方向上,所述M個(gè)入射槽共同占據(jù)的范圍小于360°;
所述M個(gè)出射槽分別與所述M個(gè)入射槽相對應(yīng)。
8.如權(quán)利要求7所述的飛點(diǎn)形成裝置,其特征在于,其中,在屏蔽體圓周方向上,所述M個(gè)入射槽共同占據(jù)的范圍小于等于180°。
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