[實(shí)用新型]一種薄片的制備設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520083962.8 | 申請(qǐng)日: | 2015-02-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204738021U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-11-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 毛科;李學(xué)英 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 李學(xué)英 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/458 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/458;C23C16/01 |
| 代理公司: | 廣州番禺容大專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44326 | 代理人: | 劉新年 |
| 地址: | 713800 陜西省咸*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄片 制備 設(shè)備 | ||
1.一種薄片的制備設(shè)備,其特征在于:其包括:
真空光學(xué)鍍膜系統(tǒng),其包括具有抽真空的內(nèi)腔和設(shè)置于所述內(nèi)腔底部的粒子發(fā)射源;
設(shè)置于所述內(nèi)腔內(nèi)所述粒子發(fā)射源的正上方的至少一個(gè)大面積接收基材,每一所述大面積接收基材的內(nèi)表面均朝向所述粒子發(fā)射源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述至少一個(gè)大面積接收基材的個(gè)數(shù)為一個(gè),其為球冠狀;或者,所述至少一個(gè)大面積接收基材的個(gè)數(shù)為多個(gè),形狀為球冠狀,其規(guī)則排列成球冠狀或行星狀,設(shè)置于所述粒子發(fā)射源的正上方,并沿其共有的豎直中軸線公轉(zhuǎn),或者,該多個(gè)大面積接收基材在公轉(zhuǎn)的同時(shí)還沿自身的豎直軸線自轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)要求2所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述至少一個(gè)大面積接收基材的材質(zhì)為剛性或柔性。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述設(shè)備還包括工件架和用于控制所述工件架的控制系統(tǒng);當(dāng)所述至少一個(gè)大面積接收基材的個(gè)數(shù)為一個(gè)時(shí),所述工件架包括一個(gè)夾具,所述夾具固定設(shè)置于所述粒子發(fā)射源的正上方,所述大面積接收基材以可拆卸的方式被所述夾具固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述夾具的形狀和所述大面積接收基材的形狀相同,所述大面積接收基材與所述夾具全面貼合。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述設(shè)備還包括工件架和用于控制所述工件架的控制系統(tǒng);當(dāng)所述至少一個(gè)大面積接收基材的個(gè)數(shù)為多個(gè)時(shí),所述工件架包括一個(gè)公轉(zhuǎn)夾具,所述公轉(zhuǎn)夾具的頂部固定設(shè)置于所述粒子發(fā)射源的正上方,所述公轉(zhuǎn)夾具的下端呈環(huán)狀均勻設(shè)有多個(gè)夾持部,每一大面積接收基材均以可?拆卸的方式由一個(gè)所述夾持部對(duì)應(yīng)固定,所述公轉(zhuǎn)夾具由所述控制系統(tǒng)控制轉(zhuǎn)動(dòng),從而帶動(dòng)所述多個(gè)夾持部公轉(zhuǎn),所述多個(gè)大面積接收基材由所述多個(gè)夾持部帶動(dòng)公轉(zhuǎn);或者,所述多個(gè)夾持部同時(shí)還由所述控制系統(tǒng)控制各自自轉(zhuǎn),從而帶動(dòng)所述多個(gè)大面積接收基材自轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述夾持部的形狀和所述大面積接收基材的形狀相同,所述大面積接收基材與所述夾持部全面貼合。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄片的制備設(shè)備,其特征在于:所述大面積接收基材為玻璃、金屬、硬質(zhì)塑膠或柔性纖維膜、柔性塑膠膜。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





