[實用新型]表面清潔設(shè)備及其承載裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520048946.5 | 申請日: | 2015-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN204564674U | 公開(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王水泉;黃俊智;劉修銘 | 申請(專利權(quán))人: | 位元奈米科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B7/04 | 分類號: | B08B7/04;B08B5/02;B08B7/02;B08B13/00;B08B11/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;李靜 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面 清潔 設(shè)備 及其 承載 裝置 | ||
1.一種表面清潔設(shè)備,用以清除一軟質(zhì)膠片表面上所粘附的至少一粒子,其特征在于,所述表面清潔設(shè)備包括:
一承載裝置,所述承載裝置包含:
一承載基座,所述承載基座具有一多孔質(zhì)臺面;
一多孔質(zhì)緩沖片,所述多孔質(zhì)緩沖片固定于所述多孔質(zhì)臺面上,并且所述多孔質(zhì)緩沖片的孔隙密度大于所述多孔質(zhì)臺面的孔隙密度,所述軟質(zhì)膠片設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上;及
一吸氣定位模塊,所述吸氣定位模塊設(shè)置于所述承載基座,并且所述吸氣定位模塊位于與所述多孔質(zhì)臺面的設(shè)有所述多孔質(zhì)緩沖片的一側(cè)相對的相對側(cè)上,用以在吸氣時能經(jīng)由所述多孔質(zhì)臺面的孔隙與所述多孔質(zhì)緩沖片的孔隙而將所述軟質(zhì)膠片平整地吸附定位于所述多孔質(zhì)緩沖片上;以及
一清潔裝置,設(shè)置于所述承載裝置,并且所述清潔裝置包含:
一清潔模塊,所述清潔模塊位于所述多孔質(zhì)緩沖片的上方并且包含有一吹氣單元及鄰設(shè)于所述吹氣單元的一集塵單元,所述清潔模塊用以在所述軟質(zhì)膠片設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上時,能通過所述吹氣單元在所述軟質(zhì)膠片上吹氣而使所述粒子脫離所述軟質(zhì)膠片表面,并通過所述集塵單元的吸氣而使脫離所述軟質(zhì)膠片的粒子被吸入于所述集塵單元內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述清潔模塊包含有一對應(yīng)于所述吹氣單元而設(shè)置的去靜電單元,并且所述去靜電單元能對所述吹氣單元所吹出的氣體進行去靜電。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述清潔模塊包含有一對應(yīng)于所述集塵單元而設(shè)置的超音波單元,并且所述超音波單元用以在所述軟質(zhì)膠片設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上時使所述軟質(zhì)膠片的粘附有所述粒子的表面震動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述清潔模塊所能清潔的范圍為距離所述吹氣單元的吹氣處與所述集塵單元的吸氣處0.5~5厘米的范圍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述清潔裝置進一步包含有一位移模塊,并且所述位移模塊設(shè)置于所述承載基座上,而所述清潔模塊裝設(shè)于所述位移模塊并面向所述多孔質(zhì)緩沖片;所述位移模塊能驅(qū)使所述清潔模塊相對于所述多孔質(zhì)緩沖片移動,以使在所述軟質(zhì)膠片設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上時,所述清潔模塊所能清潔的范圍完全覆蓋所述軟質(zhì)膠片表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述清潔模塊的所述集塵單元圍繞地設(shè)置于所述吹氣單元的外側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述承載裝置包含有一壓條,并且所述壓條能選擇性地設(shè)置于所述多孔質(zhì)臺面上,用以在所述軟質(zhì)膠片設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上時壓抵于所述軟質(zhì)膠片的至少一邊緣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述多孔質(zhì)緩沖片為一能避免粘附所述粒子的鐵氟龍編織布。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的表面清潔設(shè)備,其特征在于,所述承載裝置進一步包含有一黏合層,并且所述黏合層位于所述多孔質(zhì)臺面與所述多孔質(zhì)緩沖片之間,以使所述多孔質(zhì)緩沖片被黏貼于所述多孔質(zhì)臺面。
10.一種表面清潔設(shè)備的承載裝置,其特征在于,所述承載裝置包括:
一承載基座,所述承載基座具有一多孔質(zhì)臺面;
一多孔質(zhì)緩沖片,所述多孔質(zhì)緩沖片固定于所述多孔質(zhì)臺面上,并且所述多孔質(zhì)緩沖片的孔隙密度大于所述多孔質(zhì)臺面的孔隙密度,其中,軟質(zhì)膠片能設(shè)置于所述多孔質(zhì)緩沖片上;以及
一吸氣定位模塊,所述吸氣定位模塊設(shè)置于所述承載基座上,并且所述吸氣定位模塊位于與所述多孔質(zhì)臺面的設(shè)有所述多孔質(zhì)緩沖片的一側(cè)相對的相對側(cè),用以在吸氣時能經(jīng)由所述多孔質(zhì)臺面的孔隙與所述多孔質(zhì)緩沖片的孔隙而將所述軟質(zhì)膠片平整地吸附定位于所述多孔質(zhì)緩沖片上。
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