[實用新型]用于與溫控浴槽一起使用的支架

有效

• 申請號: 201520046525.9
• 申請日: 2015-01-23
• 公開（公告）號: CN204911558U
• 公開（公告）日: 2015-12-30
• 發明（設計）人: R·D·迪金森;M·J·埃斯特雷拉;N·N·朗
• 申請（專利權）人: 賽默飛世爾科技（阿什維爾）有限責任公司
• 主分類號: B01L7/00
• 分類號: B01L7/00;B01L9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李隆濤

技術領域

本實用新型大體上涉及溫控浴槽并且更具體地講涉及用于在溫控浴槽中支承器皿的支架。

背景技術

諸如循環浴槽的溫控浴槽在實驗室環境中采用，以便將溫控的諸如水的工作流體提供在儲存器中。使用者可以通過將實驗室環境的材料試樣放置在儲存器中或者通過使得工作流體在儲存器與外界應用裝置之間循環來利用所述溫控浴槽。傳統的溫控浴槽應用包括將材料試樣放置到藥瓶、試管、燒杯等器皿中，并且然后將所述器皿放置在儲存器內。器皿周圍的工作流體的溫度由溫控浴槽控制，以控制材料試樣的溫度。例如，溫控浴槽可以使得工作流體移動經過加熱或冷卻元件，從實現工作流體的期望的溫度，并因而控制材料試樣的溫度。

支架有時被用于保持放置到溫控浴槽內的器皿。例如，使用者可以將器皿置于支架中，并然后將支架放入到溫控浴槽內以使得器皿與工作流體接觸。當使用者期望取用容納在器皿內的材料試樣時，使用者將支架從溫控浴槽取出。由于支架與器皿的一些部分已經與工作流體接觸，所以使用者通常會將支架放到一容器內、或一托盤上、或一種吸收材料上，從而防止工作流體掉出支架和/或器皿并且防止工作流體污染實驗室環境。另外，當支架從溫控浴槽被取出后從儲存器帶出的工作流體會使得儲存器內的工作流體的量減少。因而，工作流體必須被定期地添加至儲存器從而替代被帶走的工作流體。

因而，存在與溫控浴槽及其一起使用的支架有關的改進需求。

實用新型內容

本實用新型克服了前述的問題以及針對溫控浴槽的支架的其它不足、缺陷、以及挑戰。盡管本實用新型將結合特定的實施例予以描述，但是應當理解本實用新型并不限于那些實施例。相反，本實用新型包括可以在本實用新型的精神和范圍內包含的所有替代、改型以及等價物。

在本實用新型的一個實施例中，提供了一種用于與溫控浴槽一起使用的支架，所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包含供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架包括支架本體以及由支架本體支承的器皿支承件，所述器皿支承件被構造成支承至少一個器皿。支架還包括支承足組件，其由支架本體支承并包括多個支承足。每個支承足被構造成在收回位置與展開位置之間移動。

在本實用新型的另一個實施例中，溫控浴槽與支架結合地被設置。溫控浴槽包括殼體，所述殼體包含供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架包括支架本體以及由所述支架本體支承的器皿支承件，所述器皿支承件被構造成支承至少一個器皿。支架還包括支承足組件，其由支架本體支承并包括多個支承足。每個支承足被構造成在收回位置與展開位置之間移動。

在本實用新型的另一個實施例中，提供了將支架與溫控浴槽一起使用的方法，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包含供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架支承至少一個器皿并且包括支承足組件，所述支承足組件包括多個支承足，各支承足能夠在收回位置與展開位置之間移動。該方法包括使得支承足移動至收回位置，并且將支架降低到儲存器內的工作流體中。

具體地講，根據本實用新型的一個方面，提供了一種用于與溫控浴槽一起使用的支架，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包括供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口，其特征在于，所述支架包括：

支架本體；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本體支承并以支承至少一個器皿的方式被構造；以及

支承足組件，其中所述支承足組件由所述支架本體支承并包括多個支承足，每個支承足以適于在收回位置與展開位置之間移動的方式被構造。

優選地，所述支架還包括調整機構，所述調整結構適于使得至少一個支承足從所述展開位置移動至所述收回位置。

優選地，所述調整機構包括手指致動的杠桿件以及將所述杠桿件與所述至少一個支承足操作性相連的連桿。

優選地，所述支架還包括把手，所述手指致動的杠桿件位于所述把手附近。

優選地，每個支承足以適于自動地移動至所述展開位置的方式被構造。

優選地，每個支承足包括上表面、與所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。

優選地，所述支承足組件包括四個支承足。

優選地，每個支承足大體上位于所述支架的下角部附近。

優選地，所述支架本體包括底座、第一側壁、以及第二側壁，所述第一側壁和第二側壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每個支承足在移動至所述展開位置時自所述第一側壁和第二側壁之一向外延伸。