[實用新型]用于與溫控浴槽一起使用的支架

有效

• 申請號: 201520046525.9
• 申請日: 2015-01-23
• 公開（公告）號: CN204911558U
• 公開（公告）日: 2015-12-30
• 發明（設計）人: R·D·迪金森;M·J·埃斯特雷拉;N·N·朗
• 申請（專利權）人: 賽默飛世爾科技（阿什維爾）有限責任公司
• 主分類號: B01L7/00
• 分類號: B01L7/00;B01L9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李隆濤

1.一種用于與溫控浴槽一起使用的支架，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包括供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口，其特征在于，所述支架包括：

支架本體；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本體支承并以支承至少一個器皿的方式被構造；以及

支承足組件，其中所述支承足組件由所述支架本體支承并包括多個支承足，每個支承足以適于在收回位置與展開位置之間移動的方式被構造。

2.根據權利要求1所述的支架，其特征在于，還包括調整機構，所述調整結構適于使得至少一個支承足從所述展開位置移動至所述收回位置。

3.根據權利要求2所述的支架，其特征在于，所述調整機構包括手指致動的杠桿件以及將所述杠桿件與所述至少一個支承足操作性相連的連桿。

4.根據權利要求3所述的支架，其特征在于，還包括把手，所述手指致動的杠桿件位于所述把手附近。

5.根據權利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，每個支承足以適于自動地移動至所述展開位置的方式被構造。

6.根據權利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，每個支承足包括上表面、與所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。

7.根據權利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，所述支承足組件包括四個支承足。

8.根據權利要求7所述的支架，其特征在于，每個支承足大體上位于所述支架的下角部附近。

9.根據權利要求1至4任一所述的支架，其特征在于，所述支架本體包括底座、第一側壁、以及第二側壁，所述第一側壁和第二側壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每個支承足在移動至所述展開位置時自所述第一側壁和第二側壁之一向外延伸。

10.根據權利要求9所述的支架，其特征在于，所述支承足組件包括與所述第一側壁相關聯的兩個支承足以及與所述第二側壁相關聯的兩個支承足。

11.一種組件，其特征在于，所述組件包括：

溫控浴槽，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包括供應有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口；以及

用于與所述溫控浴槽一起使用的支架，所述支架包括：

支架本體；

器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本體支承并以支承至少一個器皿的方式被構造；以及

支承足組件，其中所述支承足組件由所述支架本體支承并包括多個支承足，每個支承足以適于在收回位置與展開位置之間移動的方式被構造。

12.根據權利要求11所述的組件，其特征在于，在所述支承足移動至所述收回位置時，所述支架適于降低到所述儲存器內的工作流體中；并且在所述支承足移動至所述展開位置時，所述支架被禁止降低到所述儲存器內的工作流體中。

13.根據權利要求11或12所述的組件，其特征在于，所述殼體具有上表面，并且每個支承足包括底表面，所述底表面以當所述支承足移動至所述展開位置時安坐在所述上表面上的方式被構造，所述底表面在所述展開位置處于大體水平的朝向并且在所述收回位置處于傾斜的朝向。

14.根據權利要求11或12所述的組件，其特征在于，所述支架被限定為根據權利要求1至10任一所述的支架。

15.根據權利要求13所述的組件，其特征在于，所述支架被限定為根據權利要求1至10任一所述的支架。