[發(fā)明專利]一種過濾藍(lán)光防輻射的耐磨手機蓋板及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201511029257.0 | 申請日: | 2015-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN105671495A | 公開(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳曉彤;方俊勇 | 申請(專利權(quán))人: | 奧特路(漳州)光學(xué)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/20;H04M1/02 |
| 代理公司: | 福州君誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
| 地址: | 360000 福建省漳*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 過濾 防輻射 耐磨 手機 蓋板 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種過濾藍(lán)光防輻射的耐磨手機蓋板及其制造方法。
背景技術(shù)
隨著現(xiàn)代生活手機的普遍使用,而且人們的生活越來越離不開手機,有很多人經(jīng)常性的使用手機帶來的結(jié)果是眼睛出現(xiàn)酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀,更嚴(yán)重的出現(xiàn)視力下降,這些不舒服的癥狀是因為眼睛長時間對手機屏幕,由手機屏幕所散發(fā)出來的有害光線所致,手機屏幕發(fā)出的光是眼睛的大敵,普遍手機屏幕供應(yīng)商為了體現(xiàn)手機屏幕的色彩對比度及飽和度,會提高手機屏幕背后的燈光亮度,這樣會使屏幕表面像裝了一片玻璃一樣顯得有質(zhì)感,提高了清晰度,同樣它也會像玻璃一樣反射光線,但光線照向屏幕時會增加光線反射,尤其是晚上的時候消費者在使用手機時,LED燈光照向手機屏幕會增加光線反射,這樣很容易被這些光線傷害到眼睛,并產(chǎn)生視覺疲勞的癥狀,慢慢的會引起視力下降和頭痛的健康問題,手機屏幕產(chǎn)生的“不舒服的光”持續(xù)照射我們的眼睛還會引起視覺系統(tǒng)失調(diào),手機屏幕發(fā)出的光讓我們眼睛不舒服是因為這些光線里面含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍(lán)光,這些短波藍(lán)光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達(dá)視網(wǎng)膜,短波藍(lán)光持續(xù)照射視網(wǎng)膜會產(chǎn)生大量自由基離子,這些自由基離子會使得視網(wǎng)膜的色素上皮細(xì)胞衰亡,上皮細(xì)胞的衰會使感光細(xì)胞缺少養(yǎng)分而引起視力損傷;這些短波藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要起因,我們每天長時間面對手機屏幕產(chǎn)生的藍(lán)光刺激,殊不知藍(lán)光波長短能量高,易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。藍(lán)光約占可見光的50~60%,而藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要原因之一,嚴(yán)重可能導(dǎo)致失明。藍(lán)光會刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子,使得視網(wǎng)膜色素上皮的萎縮,再引起光敏感細(xì)胞的衰亡,這是因為我們所處的是信息時代,人們的工作與學(xué)習(xí)都離不開手機,面對手機屏幕的時間越來越長,用眼的頻率也越來越高。眼睛開始酸澀、疼痛、流淚,它凄切的告訴我們:我們的眼睛已經(jīng)受到了傷害,需要在使用手機時得到保護。現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了,用于過濾部分有害光線的手機屏幕蓋板,然而其效果較差,不能滿足用戶的需求。
此外手機屏幕在使用過程中還會不斷產(chǎn)生對人體有害的電子輻射、紫外線及遠(yuǎn)紅外線,隨著人民健康意識的提高,如何有效的減低或防止輻射傷害越來越受到重視了。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種過濾藍(lán)光防輻射的耐磨手機蓋板及其制造方法,該方法制造出來的手機蓋板具有防止有害藍(lán)光和電子輻射等對人體的傷害,而且具有高耐磨性。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種過濾藍(lán)光防輻射的耐磨手機蓋板,包括基板,所述基板的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層和第五膜層,所述第一膜層為五氧化三鈦層,第一膜層的厚度為10-100nm;所述第二膜層為二氧化硅層,第二膜層的厚度為50-100nm;第三膜層為金屬層,第三膜層的厚度為5-20nm;所述第四膜層為ITO層,第四膜層的厚度為10-100nm;所述第五膜層為高硬度層,該第五膜層的厚度為10-50mm。
所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳,并由電子槍蒸鍍成型。
所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金,并由電子槍蒸鍍成型。
所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體,并由電子槍蒸鍍成型。
所述基板為樹脂或玻璃成型。
本發(fā)明公開了所述手機蓋板的基板為樹脂成型時,所述手機蓋板的制造方法,具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進行清洗;
2)對基板的外表面進行鍍膜;
?、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0×10-3帕,并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70℃,采用電子槍轟擊第一膜層的膜材,第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面,同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5?/S,第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm,其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦,形成五氧化三鈦層;
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70℃,采用電子槍轟擊第二膜層的膜材,第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟?中第一膜層的表面,同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7?/S,第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm,其中第二膜層的膜材為二氧化硅,形成二氧化硅層;
C、鍍第三膜層:
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





