[發明專利]印刷型發光顯示器及其制備方法

在審

• 申請號: 201511003469.1
• 申請日: 2015-12-25
• 公開（公告）號: CN105552103A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 陳亞文
• 申請（專利權）人: TCL集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L21/77
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種印刷型發光顯示器，包括TFT陣列基板，所述TFT陣列基板包括從 下往上依次設置的基板、TFT陣列、鈍化層和平坦層，所述TFT陣列包括多個 TFT，所述TFT包括源/漏極和柵極，其特征在于，所述平坦層為疏水性平坦層， 所述疏水性平坦層上開設有子像素坑，且所述子像素坑的深度小于所述疏水性 平坦層的厚度；

所述子像素坑區域下方開設有與所述源/漏極相通的通孔；

所述子像素坑中依次設置有像素電極和發光層，所述發光層上設置有頂電 極，其中，所述像素電極通過所述通孔與所述源/漏極相連。

2.如權利要求1所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述子像素坑的 深度為1-3μm。

3.如權利要求1所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述疏水性平坦 層的厚度為2-5μm。

4.如權利要求1-3任一所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述發光 層包括有機發光層或量子點發光層。

5.如權利要求4所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述發光層還包 括電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層和空穴注入層中的至少一層。

6.如權利要求1-3任一所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述TFT 為非晶硅TFT、多晶硅TFT或金屬氧化物TFT中的一種。

7.如權利要求1-3任一所述的印刷型發光顯示器，其特征在于，所述像素 電極為透明電極或金屬電極，其中，所述透明電極包括導電金屬氧化物。

8.一種印刷型發光顯示器的制備方法，包括以下步驟：

提供TFT陣列基板，所述TFT陣列基板包括從下往上依次設置的基板、TFT 陣列、以及沉積在所述TFT陣列上的鈍化層和疏水性平坦層，其中，所述TFT 陣列包括多個TFT，所述TFT包括源/漏極和柵極；

在所述疏水性平坦層上沉積光阻；

采用掩膜板對所述光阻進行曝光處理，所述曝光處理包括對用于制作子像 素坑的區域進行半曝光、對所述源/漏極上方用于制作連通所述源/漏極和所述 子像素坑的通孔區域進行全曝光；

對所述光阻的曝光區域進行顯影處理，使得所述全曝光區域的光阻完全去 除、所述半曝光區域形成殘留光阻層；

對所述顯影處理的區域進行干法刻蝕，使得所述疏水性平坦層在半曝光區 域開口形成子像素坑、所述疏水性平坦層和所述鈍化層在全曝光區域開口形成 通孔；

在所述子像素坑中沉積像素電極后，去除未經曝光顯影處理的所述光阻；

在所述像素電極上制作發光器件。