[發(fā)明專利]基于斜入射光反射差方法的CT裝置和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510982145.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105424607A | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙昆;王金;詹洪磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)石油大學(xué)(北京) |
| 主分類號(hào): | G01N21/21 | 分類號(hào): | G01N21/21;G01B11/24 |
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| 地址: | 102249*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 入射 反射 方法 ct 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學(xué)儀器,尤其涉及一種基于斜入射光反射差方法的CT裝置和方法。
背景技術(shù)
斜入射光反射差法是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種非接觸、無(wú)損傷的高靈敏度探測(cè)新方法,利用在樣品表面反射的光,不僅可同時(shí)獲得實(shí)部和虛部?jī)陕沸盘?hào),具有很高的靈敏度,而且具有很高的空間分辨率和時(shí)間分辨率。但是由于傳統(tǒng)斜入射光反射差方法是用反射光只能探測(cè)樣品的表面信息,不能探測(cè)到樣品的內(nèi)部信息,這使得斜入射光反射差法在實(shí)際應(yīng)用中受到了一定的限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有斜入射光反射差測(cè)量技術(shù)的缺陷,從而提供一種基于斜入射光反射差方法的CT裝置和方法,該方法具有操作簡(jiǎn)單、系統(tǒng)噪聲低、能定性、定量分析巖心三維結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)。
本發(fā)明提供的基于斜入射光反射差方法的CT裝置,包括殼體、入射光路、樣品臺(tái)、出射光路、信號(hào)放大裝置、數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)和去材料裝置,所述入射光路、樣品臺(tái)、出射光路、信號(hào)放大裝置、數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)和去材料裝置固定在殼體上;所述入射光路包括激光器、起偏器、光彈調(diào)制器和移相器,其中在激光器輸出光前方光路上順序設(shè)置所述起偏器、光彈調(diào)制器和移相器;所述出射光路包括檢偏器和光電信號(hào)轉(zhuǎn)換器,經(jīng)樣品臺(tái)上的樣品反射后的出射光束前方順序設(shè)置所述檢偏器和光電信號(hào)轉(zhuǎn)換器;所述光電信號(hào)轉(zhuǎn)換器通過信號(hào)放大裝置連接到所述數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng);所述入射光路中還包括設(shè)置于移相器和樣品臺(tái)之間的聚焦裝置。
在上述的技術(shù)方案中,所述樣品臺(tái)為高精密三維平移臺(tái)。
在上述的技術(shù)方案中,所述去材料裝置為磨削裝置或飛切裝置,固定在樣品臺(tái)上方。
在上述的技術(shù)方案中,所述數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)包括,BNC適配器、數(shù)據(jù)采集卡和數(shù)據(jù)處理裝置;其中所述數(shù)據(jù)采集卡采集BNC適配器輸出的數(shù)據(jù),并傳送給數(shù)據(jù)處理裝置;其中所述數(shù)據(jù)處理裝置為電子計(jì)算機(jī)或微處理器,對(duì)數(shù)據(jù)采集卡發(fā)送來(lái)的數(shù)據(jù)進(jìn)行存儲(chǔ)、分析和處理。
在上述的技術(shù)方案中,所述殼體上還存在一個(gè)操作窗口,可以通過操作窗口對(duì)巖心樣品進(jìn)行操作。
在上述的技術(shù)方案中,所述殼體上還存在一個(gè)顯示裝置,與數(shù)據(jù)處理裝置相連接,用于顯示測(cè)量結(jié)果以及設(shè)備狀態(tài);所述殼體上還存在一個(gè)操作裝置,與數(shù)據(jù)處理裝置連接,用于對(duì)設(shè)備運(yùn)行進(jìn)行操作。
本發(fā)明利用上述裝置進(jìn)行巖心三維結(jié)構(gòu)的檢測(cè)方法,包括如下步驟:
1.用砂紙或磨輪將巖心端面磨平,將巖心放在基于斜入射光反射差方法的CT裝置的樣品臺(tái)上,磨平的端面向下;
2.打開激光器,輸出的激光入射到起偏器,調(diào)節(jié)起偏器的透光軸方向,使其平行于基片入射平面的P偏振方向,從起偏器出射的偏振光通過前方的光彈調(diào)制器,光彈調(diào)制器的頻率設(shè)為50kHz,調(diào)節(jié)相移器,將基頻信號(hào)調(diào)零,調(diào)節(jié)樣品臺(tái),使光路通過樣品,調(diào)節(jié)聚焦裝置,使得光匯聚在樣品表面處,用光電二極管做探測(cè)器,用電子計(jì)算機(jī)或微處理器對(duì)檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)采集和處理;
3.使用去材料裝置去除一層樣品,重復(fù)步驟1-2;
4.重復(fù)步驟1-3,測(cè)量完成后關(guān)機(jī)。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:本發(fā)明提供的基于斜入射光反射差的CT裝置突破了傳統(tǒng)斜入射光反射差方法只能探測(cè)物體表面二維信息的局限性,可以獲得巖心樣品的三維信息,并且可以通過調(diào)節(jié)三維位移平臺(tái)的豎向位移步進(jìn)來(lái)調(diào)節(jié)設(shè)備豎向空間分辨率,使其在油氣領(lǐng)域上得到更為廣泛的應(yīng)用。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中:
圖1是本發(fā)明實(shí)施例中基于斜入射光反射差方法的CT裝置組成示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例中基于斜入射光反射差方法的CT裝置組成示意側(cè)視圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例中基于斜入射光反射差方法的CT裝置使用流程圖;
圖中:
101----激光器102----起偏器103----光彈調(diào)制器104----移相器
105----聚焦裝置106----樣品臺(tái)107----巖心樣品108----檢偏器
109----光電信號(hào)轉(zhuǎn)換器110----信號(hào)放大裝置111----數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)
112----去材料裝置113----殼體
201----操作窗口202----顯示裝置203----操作裝置
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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