[發(fā)明專利]基于斜入射光反射差方法的CT裝置和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510982145.0
• 申請日: 2015-12-25
• 公開（公告）號: CN105424607A
• 公開（公告）日: 2016-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙昆;王金;詹洪磊
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油大學(xué)(北京)
• 主分類號: G01N21/21
• 分類號: G01N21/21;G01B11/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于斜入射光反射差方法的CT裝置，其特征在于，包括：殼體、入射光路、樣品臺、出射光路、信號放大裝置、數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)和去材料裝置，所述入射光路、樣品臺、出射光路、信號放大裝置、數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)和去材料裝置固定在殼體上；所述入射光路包括激光器、起偏器、光彈調(diào)制器和移相器，其中在激光器輸出光前方光路上順序設(shè)置所述起偏器、光彈調(diào)制器和移相器；所述出射光路包括檢偏器和光電信號轉(zhuǎn)換器，經(jīng)樣品臺上的樣品反射后的出射光束前方順序設(shè)置所述檢偏器和光電信號轉(zhuǎn)換器；所述光電信號轉(zhuǎn)換器通過信號放大裝置連接到所述數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)；所述入射光路中還包括設(shè)置于移相器和樣品臺之間的聚焦裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述樣品臺為高精密三維平移臺。

3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述去材料裝置為磨削裝置或飛切裝置，固定在樣品臺上方。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)包括，BNC適配器、數(shù)據(jù)采集卡和數(shù)據(jù)處理裝置；其中所述數(shù)據(jù)采集卡采集BNC適配器輸出的數(shù)據(jù)，并傳送給數(shù)據(jù)處理裝置；其中所述數(shù)據(jù)處理裝置為電子計(jì)算機(jī)或微處理器，對數(shù)據(jù)采集卡發(fā)送來的數(shù)據(jù)進(jìn)行存儲(chǔ)、分析和處理。

5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述殼體上還存在一個(gè)操作窗口，可以通過操作窗口對巖心樣品進(jìn)行操作。

6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述殼體上還存在一個(gè)顯示裝置，與數(shù)據(jù)處理裝置相連接，用于顯示測量結(jié)果以及設(shè)備狀態(tài)；所述殼體上還存在一個(gè)操作裝置，與數(shù)據(jù)處理裝置連接，用于對設(shè)備運(yùn)行進(jìn)行操作。

7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述的基于斜入射光反射差方法的CT裝置進(jìn)行巖心三維結(jié)構(gòu)檢測時(shí)包括以下步驟：

(1)用砂紙或磨輪將巖心端面磨平，將巖心放在基于斜入射光反射差方法的CT裝置的樣品臺上，磨平的端面向下；

(2)打開激光器，輸出的激光入射到起偏器，調(diào)節(jié)起偏器的透光軸方向，使其平行于基片入射平面的P偏振方向，從起偏器出射的偏振光通過前方的光彈調(diào)制器，光彈調(diào)制器的頻率設(shè)為50kHz，調(diào)節(jié)相移器，將基頻信號調(diào)零，調(diào)節(jié)樣品臺，使光路通過樣品，調(diào)節(jié)聚焦裝置，使得光匯聚在樣品表面處，用光電二極管做探測器，用電子計(jì)算機(jī)或微處理器對檢測結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)采集和處理；

(3)使用去材料裝置去除一層樣品，重復(fù)步驟1-2；

(4)重復(fù)步驟1-3，測量完成后關(guān)機(jī)。