[發(fā)明專利]一種防水有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510979630.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105470394B | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 董旭;袁寧一;丁建寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 海安常州大學(xué)高新技術(shù)研發(fā)中心 |
| 主分類號(hào): | H01L51/42 | 分類號(hào): | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48 |
| 代理公司: | 北京一格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
| 地址: | 226601 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防水 有機(jī) 無機(jī) 雜化鈣鈦礦 太陽能電池 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種防水有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:包括玻璃襯底和依次層疊于該襯底上的致密層、鈣鈦礦層、致密氧化鋁層、空穴傳輸層和金屬電極層。將隔水的致密氧化鋁層添加進(jìn)傳統(tǒng)的FTO/TiO2/CH3NH3PbI3/spiro?OMeTAD/Au的結(jié)構(gòu)中,大幅度的提高了鈣鈦礦電池在不封裝的情況下在空氣中的穩(wěn)定性。同時(shí)本發(fā)明通過先進(jìn)的原子層沉積技術(shù),準(zhǔn)確的將氧化鋁致密的厚度控制在亞納米級(jí)別,可以有效的保證鈣鈦礦電池的性能不受影響。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池領(lǐng)域,尤其涉及一種防水有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池的制備方法。
背景技術(shù)
近年來,有機(jī)無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池展現(xiàn)出優(yōu)異的光電性能和巨大的潛力。隨著鈣鈦礦太陽電池技術(shù)的發(fā)展,基于這種吸光材料的電池器件光電轉(zhuǎn)換效率高達(dá)19.3%。
基于CH3NH3PbI3的有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池由于迅速提升的效率在世界范圍內(nèi)備受關(guān)注。目前有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池目前報(bào)道的結(jié)構(gòu)主要是FTO/TiO2/CH3NH3PbI3/spiro-OMeTAD/Au,其電池效率現(xiàn)已達(dá)到20.1%;但這種結(jié)構(gòu),主要存在以下缺點(diǎn):有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦材料在潮濕的環(huán)境中會(huì)迅速的分解成碘化鉛和甲胺,所以基于有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦材料的太陽能電池在空氣中的穩(wěn)定下較差,鈣鈦礦材料的迅速分解導(dǎo)致電池性能迅速下降。CH3NH3PbI3上的沉積層只能在一定層度上阻止空氣中的水分子與CH3NH3PbI3的接觸,并不能解決有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池在空氣中分解。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種防水有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池,能夠很好的隔絕水,且不影響電池的效率。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的技術(shù)方案為:
一種防水有機(jī)/無機(jī)雜化鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述方法具體步驟如下:
(1) 制備致密層: 在沉積了摻氟氧化錫的玻璃襯底上,用勻膠機(jī)旋涂摩爾濃度為0.15mol/L的鈦酸異丙酯的乙醇溶液,通過控制勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速沉積厚度為30nm的TiO2致密層,然后在450℃的條件下退火30min;
(2) 制備鈣鈦礦層:在充滿氬氣的手套箱中,將摩爾質(zhì)量比為3:1的CH3NH3I和PbCI2及含量為40wt%的丁內(nèi)酯和二甲基亞砜的混合溶液通過兩個(gè)連續(xù)不斷的旋涂過程旋涂到TiO2致密層上;在第二階段過程中,將1ml的甲苯逐滴滴到基底上,隨后放置加熱板上100℃加熱10min;
(3)制備氧化鋁致密層:器件冷卻后,取出放到原子層沉積設(shè)備中,沉積5循環(huán)的Al2O3致密層;ALD沉積過程中,分別以二三甲基鋁和臭氧作為鋁和氧的前驅(qū)體,純度為99.999%的氮?dú)庾鳛檩d氣和清洗氣體,每一個(gè)沉積循環(huán)包括四個(gè)步驟:通入TMA反應(yīng)物90ms,N2吹掃1.5s,通入O3 150ms,N2吹掃2s;
(4)制備空穴傳輸層:將事先配好的Spiro-OMeTAD HTM溶液旋涂到鈣鈦礦層,通過控制勻膠機(jī)的旋速與HTM的滴加量,將HTM層控制在100nm左右;然后70℃的環(huán)境中烘30min后,放在無水有氧的環(huán)境中過夜氧化;
(5)制備金屬電極層:將器件放到高電阻真空鍍膜儀中,腔室真空度達(dá)到10-4pa后,將電極加熱電流調(diào)為52A,在上述樣品上熱蒸發(fā)沉積100nm 厚的Au層度。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
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