[發(fā)明專利]用于清洗質(zhì)譜儀中截取錐的裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510947296.2
• 申請日: 2015-12-16
• 公開（公告）號: CN105344648A
• 公開（公告）日: 2016-02-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 辛娟娟;徐泱;黃紅偉
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B13/00;B08B11/02
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 張亞利;吳敏

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及儀器的清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于清洗質(zhì)譜儀中截取錐的裝置。

背景技術(shù)

電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)技術(shù)是20世紀(jì)70年代迅速發(fā)展起來的分析測試技術(shù)，其原理是利用電感耦合等離子體將分析樣品中所含的元素離子化為帶電離子，通過將帶電離子引入質(zhì)量分析器中，按不同質(zhì)荷比分開，經(jīng)檢測器將離子電流放大后，由測控系統(tǒng)處理給出分析結(jié)果。與其它分析技術(shù)相比，電感耦合等離子體質(zhì)譜技術(shù)已發(fā)展成本領(lǐng)域的一種常規(guī)分析測試技術(shù)。

采用電感耦合等離子體質(zhì)譜技術(shù)的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀包括截取錐和離子透鏡。其中，如圖1所示，截取錐1包括底座3、固定在底座3的上表面的錐頭2以及固定在底座3的下表面的螺紋接口4，所述上、下表面背對設(shè)置。螺紋接口4的外壁5設(shè)有螺紋(未圖示)，螺紋接口4用于與離子透鏡螺紋配合，錐頭2設(shè)有錐孔6。樣品經(jīng)離子化所產(chǎn)生的離子通過截取錐1的錐孔6后在離子透鏡的電場作用下聚焦成離子束并進(jìn)入離子分離系統(tǒng)。

使用一段時間之后，截取錐1的錐頭2因暴露在等離子體環(huán)境中因而表面會形成一層沉積物，需對錐頭2定期進(jìn)行清洗以去除該沉積物。現(xiàn)有清洗錐頭2的方法是：如圖2所示，在一容器7中倒入清洗液(未標(biāo)識，圖中用虛線所示)，將整個截取錐1浸泡在清洗液中，該清洗液一般為酸液。

然而，在上述清洗過程中，截取錐1的螺紋接口4也會浸泡在清洗液中，清洗液會腐蝕螺紋接口4，造成螺紋接口4無法繼續(xù)與離子透鏡配合使用，進(jìn)而導(dǎo)致整個截取錐1報廢。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題是：現(xiàn)有電感耦合等離子體質(zhì)譜儀中截取錐的錐頭的清洗方法會腐蝕截取錐的螺紋接口，導(dǎo)致整個截取錐報廢。

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種用于清洗質(zhì)譜儀中截取錐的裝置，所述截取錐包括底座和固定在所述底座的上表面的錐頭，所述裝置包括：

本體；

設(shè)置在所述本體的表面上的至少一個清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容納所述截取錐的錐頭，且所述錐頭伸入所述清洗槽內(nèi)時，所述底座的上表面能與本體接觸以使所述本體將底座支撐住。

可選地，所述清洗槽的開口大小設(shè)置為：所述錐頭伸入所述清洗槽內(nèi)時，所述清洗槽的開口所在的表面將所述底座的上表面支撐住。

可選地，所述清洗槽包括沿深度方向依次設(shè)置并連通的第一、二段槽，所述清洗槽的開口設(shè)置在所述第一段槽上；

所述第一段槽能容納所述截取錐的底座，所述第二段槽能容納所述截取錐的錐頭，所述第一段槽的開口口徑大于所述第二段槽的開口口徑，且第二段槽的開口大小設(shè)置為：所述錐頭伸入所述第二段槽內(nèi)時，所述第二段槽的開口所在的表面將所述底座的上表面支撐住

可選地，還包括：設(shè)置在所述本體的表面上的導(dǎo)液槽，所述導(dǎo)液槽的開口與清洗槽的開口位于同一表面上，所述導(dǎo)液槽與所述清洗槽連通；

所述導(dǎo)液槽具有入液口和出液口，所述清洗槽內(nèi)的清洗液適于自所述入液口流向所述導(dǎo)液槽內(nèi)，最后從所述出液口倒出，所述出液口貫穿所述本體。

可選地，自所述入液口指向所述出液口的方向上，所述導(dǎo)液槽的深度逐漸減小。

可選地，還包括：設(shè)置在所述本體的側(cè)面上的手持部，所述手持部供人手持拿所述本體。

可選地，所述手持部為兩個背對設(shè)置的凹槽。

可選地，所述本體的材質(zhì)為PFA。

可選地，所述清洗槽的大小適于同時容納至少兩個所述錐頭。

可選地，所述質(zhì)譜儀為電感耦合等離子體質(zhì)譜儀。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：

在清洗截取錐的錐頭時，向清洗槽內(nèi)倒入所需量的清洗液，然后，手動將錐頭伸入清洗槽內(nèi)，當(dāng)錐頭伸入至底座的上表面與本體接觸時，本體將底座支撐住。通過控制清洗槽內(nèi)清洗液的量，能夠?qū)崿F(xiàn)截取錐中僅有錐頭浸泡在清洗液中，而截取錐的螺紋接口未浸泡在清洗液中。浸泡一段時間之后，即可以將錐頭清洗干凈。這樣一來，利用本發(fā)明所提供的用于清洗質(zhì)譜儀中截取錐的裝置可以實現(xiàn)在對截取錐的錐頭進(jìn)行清洗的同時，不讓螺紋接口受清洗液的腐蝕，整個截取錐不會報廢，延長了截取錐的使用壽命。另外，在清洗過程中，當(dāng)本體將底座支撐住時，人手即可以釋放截取錐，使得清洗操作非常方便。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有電感耦合等離子體質(zhì)譜儀中截取錐的剖面圖；

圖2是圖1所示截取錐的清洗方法示意圖；

圖3是本發(fā)明的第一實施例中用于清洗質(zhì)譜儀中截取錐的裝置的立體圖；

圖4是圖3所示裝置沿AA方向的剖面圖；