[發明專利]用于清洗質譜儀中截取錐的裝置

在審

• 申請號: 201510947296.2
• 申請日: 2015-12-16
• 公開（公告）號: CN105344648A
• 公開（公告）日: 2016-02-24
• 發明（設計）人: 辛娟娟;徐泱;黃紅偉
• 申請（專利權）人: 上海華虹宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B13/00;B08B11/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張亞利;吳敏

1.一種用于清洗質譜儀中截取錐的裝置，所述截取錐包括底座和固定在所述底座的上表面的錐頭，其特征在于，所述裝置包括：

本體；

設置在所述本體的表面上的至少一個清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容納所述截取錐的錐頭，且所述錐頭伸入所述清洗槽內時，所述底座的上表面能與本體接觸以使所述本體將底座支撐住。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述清洗槽的開口大小設置為：所述錐頭伸入所述清洗槽內時，所述清洗槽的開口所在的表面將所述底座的上表面支撐住。

3.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述清洗槽包括沿深度方向依次設置并連通的第一、二段槽，所述清洗槽的開口設置在所述第一段槽上；

所述第一段槽能容納所述截取錐的底座，所述第二段槽能容納所述截取錐的錐頭，所述第一段槽的開口口徑大于所述第二段槽的開口口徑，且第二段槽的開口大小設置為：所述錐頭伸入所述第二段槽內時，所述第二段槽的開口所在的表面將所述底座的上表面支撐住。

4.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：設置在所述本體的表面上的導液槽，所述導液槽的開口與清洗槽的開口位于同一表面上，所述導液槽與所述清洗槽連通；

所述導液槽具有入液口和出液口，所述清洗槽內的清洗液適于自所述入液口流向所述導液槽內，最后從所述出液口倒出，所述出液口貫穿所述本體。

5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，自所述入液口指向所述出液口的方向上，所述導液槽的深度逐漸減小。

6.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：設置在所述本體的側面上的手持部，所述手持部供人手持拿所述本體。

7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述手持部為兩個背對設置的凹槽。

8.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述本體的材質為PFA。

9.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述清洗槽的大小適于同時容納至少兩個所述錐頭。

10.如權利要求1至9任一項所述的裝置，其特征在于，所述質譜儀為電感耦合等離子體質譜儀。