[發(fā)明專利]濾光片、其制備方法與具有其的成像設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510945531.2
• 申請日: 2015-12-16
• 公開（公告）號: CN106886068B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 丁慧娟
• 申請（專利權(quán)）人: 張家港康得新石墨烯應(yīng)用科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B5/22
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 趙囡囡;吳貴明

本發(fā)明提供了一種濾光片、其制備方法與具有其的成像設(shè)備。該濾光片包括透明基材層與第一折射率匹配單元，其中，第一折射率匹配單元設(shè)置在透明基材層的至少一個表面上，第一折射率匹配單元包括吸收物質(zhì)，吸收物質(zhì)的最大吸收波長在500～800nm之間。本申請的濾光片中的吸收物質(zhì)的最大吸收波長在500～800nm之間，可以消除或者緩解過渡區(qū)的半值波長偏移效應(yīng)，形成圖像色彩更加均勻與效果較好的圖像。并且，該濾光片的作用與藍光玻璃的相似，當其成本較低，且其厚度較薄，不會出現(xiàn)藍玻璃中較嚴重的成像誤差問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及濾光片領(lǐng)域，具體而言，涉及一種濾光片、其制備方法與具有其的成像設(shè)備。

背景技術(shù)

隨著社會的不斷進步發(fā)展，人們物質(zhì)生活的不斷提高，相機、手機、平板電腦等成像電子設(shè)備的普及，人們對于拍攝畫面清晰度的要求不斷提高。

為了改善圖像質(zhì)量，需要將圖像感光芯片的感光范圍與人眼相匹配，但現(xiàn)有的感光芯片的感光范圍在可見光波段至1100nm的近紅外光，其感光范圍不能與人眼相匹配。

并且，當入射到感光芯片的光線的入射角度發(fā)生變化時，出射光線的半值波長會發(fā)生偏移，導(dǎo)致半值波長(透射率T＝50％對應(yīng)的波長值)偏移效應(yīng)，進而造成感光芯片成像質(zhì)量的下降。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提供一種濾光片、其制備方法與具有其的成像設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的感光芯片的成像質(zhì)量較低的問題。

為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種濾光片，該濾光片包括透明基材層與第一折射率匹配單元，其中，第一折射率匹配單元設(shè)置在上述透明基材層的至少一個表面上，上述第一折射率匹配單元包括吸收物質(zhì)，上述吸收物質(zhì)的最大吸收波長在500～800nm之間。

進一步地，上述第一折射率匹配單元包括m個非吸收層與包括上述吸收物質(zhì)的n個吸收層，上述非吸收層與上述吸收層堆疊設(shè)置，或者多個上述吸收層堆疊設(shè)置，上述第一折射率匹配單元至少包括折射率不同且接觸設(shè)置的一個上述非吸收層與一個上述吸收層，或者上述第一折射率匹配單元至少包括折射率不同且接觸設(shè)置的兩個上述吸收層，其中，上述m與上述n均為整數(shù)，m≥0，n≥1，且m＝0時，n≠1。

進一步地，上述吸收物質(zhì)為無機染色材料或有機染色材料；優(yōu)選上述無機染色材料為鈷藍、磷酸銅和/或孔雀石；優(yōu)選上述有機染色材料為卟啉金屬螯合物、萘酞菁金屬螯合物、酞菁金屬螯合物、喹啉金屬螯合物與各自的衍生物的金屬螯合物中的一種或多種；進一步優(yōu)選上述有機染色材料為卟啉銅、萘酞菁鋁、酞菁鈷、8-羥基喹啉鋁、四苯基卟啉鎘、四羧甲基酞菁銅與8-羥基喹啉鋁中的一種或多種。

進一步地，上述非吸收層的材料為ZnS、TiO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅和/或ZnO、冰晶石、SiO₂和/或MgF₂；上述吸收層的材料的折射率在1.38～1.8之間；優(yōu)選上述吸收層的厚度在2～100nm之間。

進一步地，上述濾光片還包括第二折射率匹配單元，上述第二折射率匹配單元設(shè)置在上述透明基材層上，上述第二折射率匹配單元包括依次層疊的p個非吸收層，且上述第二折射率匹配單元至少包括兩個折射率不相同的接觸設(shè)置的上述非吸收層，其中，上述p為整數(shù)，p≥2。

進一步地，上述第二折射率匹配單元包括交替設(shè)置的第一非吸收層與第二非吸收層，優(yōu)選上述第一非吸收層的材料為ZnS、TiO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅和/或ZnO，上述第二非吸收層的材料為冰晶石、SiO₂和/或MgF₂；優(yōu)選上述第一非吸收層的折射率n₁≥1.9；上述第二非吸收層的折射率n₂≤1.6；優(yōu)選上述第一非吸收層的厚度與上述第二非吸收層的厚度均在10～500nm之間。