[發明專利]濾光片、其制備方法與具有其的成像設備

有效

• 申請號: 201510945531.2
• 申請日: 2015-12-16
• 公開（公告）號: CN106886068B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 丁慧娟
• 申請（專利權）人: 張家港康得新石墨烯應用科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B5/22
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 趙囡囡;吳貴明

1.一種濾光片，其特征在于，所述濾光片包括：

第一折射率匹配單元（2），設置在透明基材層（1）的至少一個表面上，所述第一折射率匹配單元（2）包括吸收物質，所述吸收物質的最大吸收波長在500~800nm之間；所述第一折射率匹配單元（2）包括m個非吸收層（21）與包括所述吸收物質的n個吸收層（22），所述透明基材層（1）為COP透明基材層；

所述濾光片還包括第二折射率匹配單元（3），所述第二折射率匹配單元（3）設置在所述第一折射率匹配單元（2）的遠離所述透明基材層（1）的表面上，所述第二折射率匹配單元（3）包括交替設置的第一非吸收層（31）與第二非吸收層（32）；

形成所述非吸收層（21）、所述第一非吸收層（31）和所述第二非吸收層（32）的材料包括ZnS、TiO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅和ZnO，所述吸收物質為卟啉銅、萘酞菁鋁、酞菁鈷、8-羥基喹啉鋁、四苯基卟啉鎘和四羧甲基酞菁銅，且所述非吸收層（21）、所述吸收層（22）、所述第一非吸收層（31）和所述第二非吸收層（32）的種類及堆疊方式為在所述COP透明基材層上依次層疊設置的ZnS層、卟啉銅層、TiO₂層、萘酞菁鋁層、Nb₂O₅層、酞菁鈷層、Ta₂O₅層、8-羥基喹啉鋁層、ZnO層、四苯基卟啉鎘層、ZnS層、四羧甲基酞菁銅層、TiO₂層與8-羥基喹啉鋁層；其中

所述ZnS層的折射率為2.35，厚度為10nm；所述卟啉銅層的折射率為1.6，厚度為30nm；所述TiO₂層的折射率為2.36，厚度為200nm；所述萘酞菁鋁層的折射率為1,62，厚度為40nm；所述Nb₂O₅層的折射率為2.3，厚度為500nm；所述酞菁鈷層的折射率為1.61，厚度為80nm；所述Ta₂O₅層的折射率為2.29，厚度為200nm；所述8-羥基喹啉鋁層的折射率為1.58，厚度為40nm；所述ZnO層的折射率為2.1，厚度為200nm；所述四苯基卟啉鎘層的折射率為1.56，厚度為40nm；所述四羧甲基酞菁銅的折射率為1.57，厚度為40nm；所述TiO₂層的折射率為2.36，厚度為200nm；所述8-羥基喹啉鋁層的折射率為1.58，厚度為40 nm。

2.一種權利要求1所述的濾光片的制備方法，其特征在于，所述第一折射率匹配單元與所述第二折射率匹配單元通過物理氣相沉積、化學氣相沉積或涂布而形成。

3.一種成像設備，包括濾光片，其特征在于，所述濾光片為權利要求1所述的濾光片。