[發(fā)明專利]一種制造多層復(fù)合電極薄膜的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510931566.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106876171A | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李春花 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 青島祥智電子技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01G11/86 | 分類號(hào): | H01G11/86 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 266100 山東省青島*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制造 多層 復(fù)合 電極 薄膜 方法 | ||
1.一種制造多層復(fù)合電極薄膜的方法,其特征在于,包括:
將第一導(dǎo)電離子鹽、氧化石墨烯和第一導(dǎo)電聚合物單體溶于去離子水中,獲得第一電解液;
將基片置于所述第一電解液中,在所述基片上電化學(xué)沉積形成導(dǎo)電聚合物/石墨烯復(fù)合薄膜;
將第二導(dǎo)電離子鹽和第二導(dǎo)電聚合物單體溶于去離子水中,獲得第二電解液;
將形成了所述導(dǎo)電聚合物/石墨烯復(fù)合薄膜的基片置于所述第二電解液中進(jìn)行電化學(xué)聚合,在所述導(dǎo)電聚合物/石墨烯復(fù)合薄膜上形成導(dǎo)電聚合物層,獲得導(dǎo)電聚合物/石墨烯/導(dǎo)電聚合物復(fù)合薄膜;
將氧化石墨烯分散于緩沖劑溶液中,獲得第三電解液;
將形成了所述導(dǎo)電聚合物/石墨烯/導(dǎo)電聚合物復(fù)合薄膜的基片置于所述第三電解液中進(jìn)行電化學(xué)還原,在所述導(dǎo)電聚合物/石墨烯/導(dǎo)電聚合物復(fù)合薄膜上形成石墨烯層,獲得導(dǎo)電聚合物/石墨烯/導(dǎo)電聚合物/石墨烯多層復(fù)合薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述第一導(dǎo)電離子鹽是高氯酸鹽、氯化鈉或者磷酸鹽,所述第一導(dǎo)電聚合物單體是苯胺、噻吩或者吡咯。
3.如權(quán)利要求1或者2所述的方法,其特征在于:所述第二導(dǎo)電離子鹽是高氯酸鹽、氯化鈉或者磷酸鹽,所述第二導(dǎo)電聚合物單體是苯胺、噻吩或者吡咯。
4.如權(quán)利要求1或者2所述的方法,其特征在于:所述第一電解液中,氧化石墨烯的濃度為0.1至2毫克/毫升,第一導(dǎo)電離子鹽的濃度為0.2至1摩爾/升,第一導(dǎo)電離子鹽與第一導(dǎo)電聚合物單體的摩爾比為1:0.5至1:1。
5.如權(quán)利要求1或者4所述的方法,其特征在于,在所述基片上電化學(xué)沉積形成導(dǎo)電聚合物/石墨烯復(fù)合薄膜包括:使用循環(huán)伏安法在所述基片上電化學(xué)沉積形成導(dǎo)電聚合物/石墨烯復(fù)合薄膜,其中聚合電位為-1至1.6伏特,掃描速率為0.05-0.1伏特/秒。
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