[發(fā)明專利]一種鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510875249.1 | 申請日: | 2015-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN105363499A | 公開(公告)日: | 2016-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王志明;王聰;趙敏偉;劉林林;呂威鵬;王憲;梁軍湘;李榮;楊克儉;王亮;袁海朋;張沫;張二濤;龍瀅;李黎峰;霍朝飛;李成義 | 申請(專利權(quán))人: | 中國天辰工程有限公司;天津天辰綠色能源工程技術(shù)研發(fā)有限公司 |
| 主分類號: | B01J38/52 | 分類號: | B01J38/52;B01J38/66;B01J38/06;B01J38/12;C07D301/12;C07D303/04 |
| 代理公司: | 天津濱海科緯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211 | 代理人: | 李納 |
| 地址: | 300400*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 分子篩 催化劑 原位 再生 方法 | ||
1.一種鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:包括下列步驟:(1)熱溶劑沖洗(2)氧化劑氧化處理(3)熱溶劑洗滌;
所述的步驟(1)中的熱溶劑為pH為7~12的堿性熱溶劑,以除去堵塞催化劑孔道的有機物;
所述的步驟(2)中的采用氧化性氣體與惰性氣體的混合氣或雙氧水中的至少一種對催化劑進行氧化處理,除去催化劑上和孔道內(nèi)附著的有機物、低聚物;
所述的步驟(3)使用熱溶劑對經(jīng)過氧化深度處理的催化劑進行洗滌,脫除氧化深度處理的殘留物。
2.權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述步驟(2)中使用pH為4.5~10的雙氧水作為氧化劑,雙氧水質(zhì)量分數(shù)為0.1~10%,同時,雙氧水中含有添加劑,所述添加劑為硅溶膠、硅酸乙酯、硅酸鈉中的一種或多種的混合物。
3.權(quán)利要求2所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述添加劑的含量是質(zhì)量分數(shù)為0.1%~10%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述步驟(1)中的pH為7~12的堿性熱溶劑和所述步驟(2)中的pH為4.5~10的雙氧水均是通過向溶劑中加入堿性調(diào)節(jié)劑得到的,所述堿性調(diào)節(jié)劑為金屬氫氧化物或氨氣、氨水中的一種或多種的混合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述熱溶劑為甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇或叔丁醇類液態(tài)醇溶劑中的一種或多種的混合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述步驟(2)中使用臭氧或氧氣與惰性氣體的混合氣作為氧化劑,其中,所述氧氣或臭氧的體積分數(shù)≤30%,所述惰性氣體為空氣、氮氣、氬氣、氦氣、二氧化碳中的一種或多種的混合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述熱溶劑的溫度為80~150℃,沖洗過程中操作壓力≥對應(yīng)溫度下該溶劑的飽和壓力。
8.權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述氧化處理步驟中,氧化處理壓力為0~0.3MPa,氧化溫度70~150℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所述方法還包括氣提步驟,所述氣提步驟位于步驟(1)以后,使用氮氣或水蒸氣對催化劑進行氣提,以去除催化劑中夾帶的有機物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鈦硅分子篩催化劑的原位再生方法,其特征在于:所用氣提步驟的氣體壓力為0~0.3MPa,氣體溫度為80~150℃,氣提進行到氣體出口有機物含量低于0.1~1000ppm時結(jié)束。
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