[發明專利]一種通過快速熱處理調控二氧化釩相變溫度的方法

在審

• 申請號: 201510824576.4
• 申請日: 2015-11-24
• 公開（公告）號: CN105256280A
• 公開（公告）日: 2016-01-20
• 發明（設計）人: 梁繼然;李景朋;侯露輝;劉星
• 申請（專利權）人: 天津大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/18;C23C14/58
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 宋潔瑾

1.一種通過快速熱處理調控二氧化釩相變溫度的方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)藍寶石基底的清洗：

將藍寶石片依次放入去離子水、丙酮以及無水乙醇中分別超聲清洗，除去表面的有機雜質；再用去離子水洗凈，最后將藍寶石基片放入無水乙醇中備用；

(2)制備釩薄膜：

將洗凈并烘干的藍寶石基片置于超高真空對靶磁控濺射設備的真空室進行濺射，在表面沉積釩薄膜；

(3)二氧化釩薄膜的制備：

將步驟(2)制得的釩薄膜放于快速退火爐中進行快速氧化熱退火；爐內溫度的改變規律分為為升溫、保溫、降溫三個階段，熱氧化時通入的氣體為高純氧氣，升溫和保溫時氣體流量為3-7slpm，降溫階段氣體流量固定為10slpm，保溫溫度為300-700℃，升溫速率通過設定保溫溫度和升溫時間來確定，例如保溫溫度為450℃,升溫時間9s，升溫速率則為50℃/s，保溫時間70s-170s，降溫時間90s。

2.根據權利要求1所述通過快速熱處理調控二氧化釩相變溫度的方法，其特征在于，所述步驟(1)所用藍寶石為0001晶面的雙拋光的藍寶石基底，厚度為0.45mm。

3.根據權利要求1所述通過快速熱處理調控二氧化釩相變溫度的方法，其特征在于，所述步驟(2)采用超高真空對靶磁控濺射設備的真空室進行濺射的條件為：DPS-Ⅲ型超高真空對靶磁控濺射設備的真空室，采用質量純度為99.99％的金屬釩作為靶材，以質量純度為99.99％的氬氣作為工作氣體，本體真空度4×10^-4Pa，基片溫度為室溫，氬氣氣體流量為48mL/min，濺射工作氣壓為2Pa，濺射功率75W，濺射時間10min-25min。

4.根據權利要求1所述通過快速熱處理調控二氧化釩相變溫度的方法，其特征在于，所述步驟(3)的快速退火爐為AccuThermoAW610型快速退火爐。

5.一種權利要求1所述方法制備的二氧化釩薄膜在制備智能窗中的應用。