[發(fā)明專利]一種支架的電化學(xué)拋光裝置和拋光方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510821195.0
• 申請(qǐng)日: 2015-11-24
• 公開（公告）號(hào): CN105386117A
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程興寶;向勇剛;包紅峰;張林飛;羅永春
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 常州樂奧醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號(hào): C25F3/16
• 分類號(hào): C25F3/16;C25F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及微創(chuàng)介入醫(yī)用金屬支架領(lǐng)域，尤其涉及一種支架的電化學(xué)拋光裝置和拋光方法，屬于醫(yī)療器械領(lǐng)域。

背景技術(shù)

醫(yī)用金屬支架可由不銹鋼、鈦合金、鎳鈦合金、鈷鉻合金等金屬組成，通過激光切割或編織方式制備而成。醫(yī)用金屬支架主要用于體內(nèi)組織腔或血管腔內(nèi)，用于擴(kuò)張組織腔或血管腔，達(dá)到治療組織腔體或血管腔體狹窄及堵塞的病癥。電化學(xué)拋光，是利用電化學(xué)的方法使用電化學(xué)拋光液對(duì)醫(yī)用金屬支架進(jìn)行拋光，可以使金屬支架表面光滑、光亮，達(dá)到鏡面效果。電化學(xué)拋光可以提高金屬支架的生物相容性及耐腐蝕性能，使金屬支架的應(yīng)用性能得到改善。醫(yī)用金屬支架經(jīng)過前期加工后，一般表面會(huì)有殘留熔渣、毛刺、及氧化膜，必須先對(duì)金屬支架進(jìn)行預(yù)處理，預(yù)處理包括研磨或酸洗等操作。

目前針對(duì)金屬支架的電化學(xué)拋光裝置及工藝，支架內(nèi)表面拋光效果不良好，會(huì)出現(xiàn)表面不平整、突起或凹坑、不光亮等缺陷，而且容易出現(xiàn)支架頭端去除量大的問題。本發(fā)明提供一種支架的電化學(xué)拋光裝置和拋光方法，能夠使支架的內(nèi)表面與外表面都能達(dá)到良好的鏡面效果，有效改善支架頭端去除量大的問題，提高支架拋光的均勻性，使支架獲得光滑光亮的金屬表面，改善金屬支架的生物相容性及耐腐蝕性能。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種支架的電化學(xué)拋光裝置和拋光方法，能夠使支架的內(nèi)表面與外表面都能達(dá)到良好的鏡面效果，有效改善支架頭端去除量大的問題，提高支架拋光的均勻性，使支架獲得光滑光亮的金屬表面。

本發(fā)明的目的具體通過以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

一種支架的電化學(xué)拋光裝置，包括圓筒狀的金屬陰極、金屬陽(yáng)極及電化學(xué)拋光槽。

所述的金屬陰極為一圓筒狀結(jié)構(gòu)，內(nèi)徑：20mm-200mm，壁厚：0.01mm-30mm，高度：20mm-400mm。金屬陰極的材質(zhì)可以是黃銅、紫銅、不銹鋼、鈦合金及鉛等金屬，但要保證導(dǎo)電性良好，并且不能與電化學(xué)拋光液發(fā)生反應(yīng)。金屬陰極通過連接部分與直流電源負(fù)極連接。

所述的金屬陽(yáng)極為用鎳鈦合金、鈷鉻合金、不銹鋼合金、鈦合金等制備成的支架，包括編織支架及激光切割支架。金屬陽(yáng)極通過連接部分與直流電源正極連接。

所述的電化學(xué)拋光槽用于盛放電化學(xué)拋光液，可以為金屬、陶瓷或塑料容器，例如不銹鋼、紫銅、黃銅、鉛、玻璃鋼及聚四氟乙烯等，但要保證電化學(xué)拋光槽所選的材料不能與拋光液反應(yīng)，并能承受電化學(xué)拋光試驗(yàn)的相應(yīng)溫度。

進(jìn)一步的，電化學(xué)拋光槽內(nèi)應(yīng)放置攪拌裝置，用于加快電化學(xué)拋光液的流動(dòng)，使電化學(xué)拋光液的溫度均勻，并能加快陽(yáng)極溶解產(chǎn)物的擴(kuò)散。

進(jìn)一步的，電化學(xué)拋光裝置應(yīng)包含溫控裝置及測(cè)溫裝置，將測(cè)溫裝置放于拋光槽內(nèi)，根據(jù)不同金屬支架的電化學(xué)拋光要求對(duì)電解液進(jìn)行加熱或冷卻，使電解液達(dá)到合適的電化學(xué)拋光溫度。

一種支架的電化學(xué)拋光方法，包括拋光前需要對(duì)支架進(jìn)行預(yù)處理，也包括運(yùn)用本發(fā)明中的電化學(xué)拋光裝置，在電化學(xué)拋光開始之前及拋光過程中，調(diào)整金屬陽(yáng)極/支架與金屬陰極的相對(duì)位置，對(duì)支架進(jìn)行拋光。

所述的一種支架的電化學(xué)拋光方法，其中：進(jìn)行電化學(xué)拋光之前，應(yīng)對(duì)金屬陽(yáng)極/待拋光支架進(jìn)行研磨或酸洗等預(yù)處理。

所述的一種支架的電化學(xué)拋光方法，其中：電化學(xué)拋光開始前，應(yīng)先將圓筒狀金屬陰極放置于盛有拋光液的拋光槽中，避免金屬陰極下端及四周接觸到拋光槽。拋光開始前，金屬陽(yáng)極支架應(yīng)放置于電化學(xué)拋光液上方，距離液面5-50mm。

所述的一種支架的電化學(xué)拋光方法，其中：進(jìn)行電化學(xué)拋光時(shí)，金屬陽(yáng)極支架與金屬陰極都應(yīng)浸沒在電化學(xué)拋光液內(nèi)，金屬陽(yáng)極支架放置于圓筒狀金屬陰極內(nèi)部，金屬陽(yáng)極支架與圓筒狀金屬陰極都應(yīng)豎直放置，金屬陽(yáng)極支架的軸線應(yīng)與金屬陰極的軸線共線，并使金屬陽(yáng)極支架的長(zhǎng)度及直徑分別小于金屬陰極的高度及直徑，金屬陽(yáng)極支架上端不應(yīng)高于金屬陰極上端，金屬陽(yáng)極支架下端不應(yīng)低于金屬陰極下端。這種圓筒狀陰極結(jié)構(gòu)及陰極與陽(yáng)極支架的相對(duì)位置，可使電流均勻分配到支架的各個(gè)部位。在支架表面突起處電流密度高，溶解較快；在支架低凹處電流密度低，溶解較慢。在設(shè)定的時(shí)間，支架表面達(dá)到平整、光滑、光亮。實(shí)際應(yīng)用時(shí)應(yīng)根據(jù)金屬陽(yáng)極的尺寸、電化學(xué)拋光液的成分選擇合適的金屬陰極。