[發(fā)明專利]DLC自清潔衛(wèi)生潔具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510818088.2 | 申請日: | 2015-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN105349963A | 公開(公告)日: | 2016-02-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉南林 | 申請(專利權(quán))人: | 劉南林 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 421800 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | dlc 清潔 衛(wèi)生潔具 | ||
1、技術(shù)領(lǐng)域
DLC自清潔衛(wèi)生潔具是采用真空等離子體化學(xué)沉積類金剛石薄膜(簡稱DLC)技術(shù)和磁控濺射技術(shù)生產(chǎn)的具有自清潔功能的衛(wèi)生潔具。其技術(shù)領(lǐng)域是新材料應(yīng)用。
2、背景技術(shù)
類金剛石薄膜是具有金剛石性能的功能材料。真空等離子體氣相化學(xué)沉積生成的類金剛石薄膜具有高硬度,耐磨損、耐腐蝕、抗霉菌、疏水、疏油的特性,并且可以在陶瓷、玻璃、金屬及塑料表面沉積形成牢固的保護(hù)膜層。無論無機(jī)物污垢還是有機(jī)物污垢都難以附著在類金剛石薄膜表面,在紫外光照射時類金剛石薄膜還能夠分解有機(jī)物,因而類金剛石薄膜不僅具有自清潔功能,還能夠抗磨損、抗霉菌。所以類金剛石薄膜適用于制造陶瓷、玻璃、金屬及塑料材質(zhì)的自清潔衛(wèi)生潔具。由于普通衛(wèi)生潔具殼體形狀不規(guī)則、且有一定的厚度,放到發(fā)生真空等離子體氣相化學(xué)沉積反應(yīng)的平行平板電極之間或相似異形電極之間的電場中,導(dǎo)致電極之間距離過大,難以形成等離子體,所以使用現(xiàn)有技術(shù)難以解決在衛(wèi)生潔具表面沉積類金剛石薄膜問題。采用磁控濺射技術(shù)在衛(wèi)生潔具表面鍍一層導(dǎo)電膜,作為構(gòu)成真空等離子體氣相化學(xué)沉積的等離子體電場的異形電極,可以解決電極之間距離過大,難以形成等離子體氣相化學(xué)沉積反應(yīng)的難題。利用衛(wèi)生潔具表面鍍的導(dǎo)電膜與表面形狀相同的衛(wèi)生潔具模具電極之間構(gòu)成的均勻等離子電場就可以順利進(jìn)行類金剛石薄膜沉積。
3、發(fā)明內(nèi)容
DLC自清潔衛(wèi)生潔具由陶瓷、玻璃、金屬及塑料材質(zhì)的衛(wèi)生潔具、濺射在衛(wèi)生潔具表面的導(dǎo)電膜、及沉積在導(dǎo)電膜表面的類金剛石薄膜構(gòu)成。
采用磁控濺射技術(shù)在普通衛(wèi)生潔具表面形成厚度約0.5微米的導(dǎo)電膜,既作為等離子體電場的電極又作為氣相沉積類金剛石薄膜的襯底。
采用由真空室、真空泵、含碳?xì)怏w、高頻偏壓電源及位于真空室內(nèi)的模具電極與衛(wèi)生潔具表面的導(dǎo)電膜構(gòu)成的等離子電場構(gòu)成的真空等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備,在導(dǎo)電膜襯底表面沉積厚度約0.2微米的類金剛石薄膜,使普通衛(wèi)生潔具成為具有自清潔功能的衛(wèi)生潔具。
將高頻偏壓電源的負(fù)極連接衛(wèi)生潔具表層的導(dǎo)電膜,將高頻偏壓電源的正極與模具電極連接,導(dǎo)電膜與模具電極共同構(gòu)成用于氣相化學(xué)沉積類金剛石薄膜反應(yīng)的等離子體電場。解決了在體積較大且形狀不規(guī)則的衛(wèi)生潔具表面沉積類金剛石薄膜必備的等離子體電場問題。
4、附圖說明
圖1是DLC自清潔衛(wèi)生潔具(1)及其垂直剖面圖。DLC自清潔衛(wèi)生潔具由位于外表面的類金剛石薄膜(2)、位于類金剛石薄膜(2)之下的導(dǎo)電膜(3)、及位于導(dǎo)電膜(3)之下衛(wèi)生潔具(4)構(gòu)成。
圖2是在已濺射導(dǎo)電膜(3)的衛(wèi)生潔具(4)表面進(jìn)行真空等離子體氣相化學(xué)沉積類金剛石薄膜(2)的設(shè)備結(jié)構(gòu)圖。該設(shè)備由真空室(6)、真空泵(7)、含碳?xì)怏w(8)、高頻偏壓電源(9)及位于真空室(6)內(nèi)的模具電極(5)與衛(wèi)生潔具(4)表面的導(dǎo)電膜(3)構(gòu)成的等離子電場構(gòu)成。
5、具體實施方式
優(yōu)化方案是采用磁控濺射技術(shù)在衛(wèi)生潔具(4)表面鍍一層厚度約0.5微米的金屬鋁膜(3)、然后將衛(wèi)生潔具(4)裝入真空等離子體氣相化學(xué)沉積類金剛石薄膜(2)設(shè)備真空室(6)內(nèi)的異形電極(5)的正下方,將高頻偏壓電源的負(fù)極與衛(wèi)生潔具(4)表面的金屬鋁膜(3)連接,異形電極(5)與衛(wèi)生潔具(4)表層的導(dǎo)電膜(3)共同構(gòu)成等離子體電場。啟動真空等離子體氣相化學(xué)沉積類金剛石薄膜(2)設(shè)備,將類金剛石薄膜(2)沉積在衛(wèi)生潔具(4)表層的導(dǎo)電膜(3)表面。即可獲得DLC自清潔衛(wèi)生潔具。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





