[發(fā)明專利]一種紫外防護(hù)鏡片及制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510813567.5
• 申請(qǐng)日: 2015-11-23
• 公開（公告）號(hào): CN105293953A
• 公開（公告）日: 2016-02-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 訾云海;楊勇;鞠云祥;訾云旭;李莉;句紅兵;荀濤;張寶福
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 云南匯恒光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C03C17/34
• 分類號(hào): C03C17/34
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種紫外防護(hù)鏡片，包括玻璃基片，其特征在于玻璃基片上由玻璃基片向外交替鍍有高折射率膜及低折射率膜，高折射膜層厚為10～30nm、低折射率膜層厚為25～50nm，高折射率膜及低折射率膜交替10～25次。

2.如權(quán)利要求1所述一種紫外防護(hù)鏡片，其特征在于所述高折射率膜為二氧化鈦膜、二氧化鋯膜、二氧化鈰膜中的一種或幾種。

3.如權(quán)利要求1所述一種紫外防護(hù)鏡片，其特征在于所述低折射率膜為氟化鎂膜、二氧化硅膜、三氧化二鋁膜中的一種或幾種。

4.如權(quán)利要求1所述的一種紫外防護(hù)鏡片，其特征在于制備方法包括如下步驟:

(1)待鍍膜玻璃基片通過(guò)超聲波清洗除去污漬并烘干；

(2)將待鍍膜玻璃基片置于真空鍍膜機(jī)真空艙內(nèi)，在2.8×10-3～3.2×10-3Pa真空度下用離子槍轟擊玻璃基片；

(3)在2.8×10-3～3.2×10-3Pa真空度、玻璃基片溫度280～320℃下，用離子槍依次轟擊鍍膜材料，由玻璃基片向外交替鍍制高折射率膜及低折射率膜，用真空鍍膜機(jī)中的膜厚控制儀控制高折射膜層厚為10～30nm、低折射率膜層厚為25～50nm，交替鍍膜8～25次。