[發(fā)明專利]一種基于非對(duì)稱天線效應(yīng)的CMOS片上恒穩(wěn)定ID產(chǎn)生電路在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510808575.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105404739A | 公開(公告)日: | 2016-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐枋;李世平;周喜川;胡盛東;甘平;葉楷;舒洲;陳卓;殷鵬;陳銀暉;譚躍;王忠杰;黃莎琳;李明東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 重慶大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F17/50 | 分類號(hào): | G06F17/50 |
| 代理公司: | 北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275 | 代理人: | 趙榮之 |
| 地址: | 400044 重*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 對(duì)稱 天線 效應(yīng) cmos 片上恒 穩(wěn)定 id 產(chǎn)生 電路 | ||
本發(fā)明公開了一種基于非對(duì)稱天線效應(yīng)的CMOS片上恒穩(wěn)定ID產(chǎn)生電路,包括NMOS管M1、NMOS管、PMOS管M2和反相器,所述PMOS管M2的源極和柵極、反相器的電源端分別與電源VDD連接,PMOS管M2的漏極與反相器的輸入端連接并同時(shí)接輸入信號(hào);所述反相器的輸出端作為整個(gè)電路的輸出端,所述PMOS管M2的漏極分別與NMOS管M1的源極、NMOS管M1的漏極連接,所述NMOS管M1的柵極與NMOS管M5的柵極分別接地,所述NMOS管M5的源極與漏極連接并懸空。本發(fā)明具有良好的物理唯一性和物理不可復(fù)制性,由于ID產(chǎn)生電路使用的晶體管的減少,從而進(jìn)一步降低了芯片的面積。其內(nèi)部節(jié)點(diǎn)不需要周期性翻轉(zhuǎn),因此,僅在讀取數(shù)據(jù)的時(shí)候消耗極小的能量,使得此發(fā)明滿足低功耗的要求,具有恒穩(wěn)定性、功耗低、面積小的優(yōu)點(diǎn),從而也降低了成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路設(shè)計(jì)領(lǐng)域,應(yīng)用于芯片識(shí)別或防偽領(lǐng)域,涉及一種對(duì)芯片中半導(dǎo)體器件進(jìn)行保護(hù)加密的技術(shù),更具體的涉及一種基于非對(duì)稱天線效應(yīng)的CMOS片上恒穩(wěn)定ID產(chǎn)生電路。
背景技術(shù)
芯片級(jí)的物理不可復(fù)制功能主要有兩個(gè)部分組成:CMOS片上指紋電路和COMS挑戰(zhàn)響應(yīng)算法。對(duì)物理不可復(fù)制功能的已有研究也主要是從這兩方面入手。
現(xiàn)有應(yīng)用于芯片設(shè)計(jì)的CMOS片上指紋電路主要是基于以下五種原理:(1)基于可編程存儲(chǔ)器的片上指紋電路;(2)基于環(huán)形振蕩器的片上指紋電路;(3)利用電流鏡構(gòu)建片上指紋電路;(4)基于SRAM的片上指紋電路;(5)基于DRAM的片上指紋電路。(6)基于對(duì)稱天線效應(yīng)的八個(gè)場(chǎng)效應(yīng)晶體管ID產(chǎn)生電路的指紋電路。
但是(1)~(5)種片上物理不可復(fù)制指紋技術(shù)的共通缺陷均為無法保證輸出響應(yīng)的恒穩(wěn)定性。在工作溫度、電源電壓或噪聲等環(huán)境變化時(shí),片上指紋所表征的信息將發(fā)生一定的變化,這種非穩(wěn)定性的片上指紋電路極大地?fù)p害了所實(shí)現(xiàn)的物理不可復(fù)制功能的有效性和安全性。此外,現(xiàn)有的幾種片上指紋方案還存在著各自的一些問題。例如:基于振蕩器的片上指紋電路由于需要持續(xù)處于動(dòng)態(tài)工作狀態(tài),其功耗遠(yuǎn)超基于靜態(tài)電路的片上指紋。而基于SRAM的片上指紋上電之后一直處于靜態(tài)工作點(diǎn),因此功耗明顯低于基于振蕩器的片上指紋電路。然而基于SRAM的片上指紋在面對(duì)暴力破解時(shí)卻更加脆弱,其安全等級(jí)遠(yuǎn)不如基于振蕩器的片上指紋。第(6)種指紋電路有意地增大多晶硅與金屬層之間過孔的面積,使之遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于與之相連接的兩個(gè)場(chǎng)效應(yīng)管的柵極尺寸。所以其最重要的缺點(diǎn)是使芯片的面積增大,這成為了使該技術(shù)商業(yè)化的瓶頸。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于此,本發(fā)明的目的是提供一種基于非對(duì)稱天線效應(yīng)片上恒穩(wěn)定指紋電路。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的,一種基于非對(duì)稱天線效應(yīng)的CMOS片上恒穩(wěn)定ID產(chǎn)生電路,包括NMOS管M1、NMOS管、PMOS管M2和反相器,所述PMOS管M2的源極和柵極、反相器的電源端分別與電源VDD連接,PMOS管M2的漏極與反相器的輸入端連接并同時(shí)接輸入信號(hào);所述反相器的輸出端作為整個(gè)電路的輸出端,所述PMOS管M2的漏極分別與NMOS管M1的源極、NMOS管M1的漏極連接,所述NMOS管M1的柵極與NMOS管M5的柵極分別接地,所述NMOS管M5的源極與漏極連接并懸空。
進(jìn)一步,所述反相器包括PMOS管M4和NMOS管M3,所述PMOS管M3的源極與電源VDD連接,PMOS管M3的柵極與NMOS管M3的柵極連接并接輸入信號(hào),PMOS管M4的漏極與NMOS管M3的漏極連接并作為整個(gè)電路的輸出端,NMOS管M3的源極接地。
由于采用了上述技術(shù)方案,本發(fā)明具有如下的優(yōu)點(diǎn):
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于重慶大學(xué),未經(jīng)重慶大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510808575.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G06F 電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理
G06F17-00 特別適用于特定功能的數(shù)字計(jì)算設(shè)備或數(shù)據(jù)處理設(shè)備或數(shù)據(jù)處理方法
G06F17-10 .復(fù)雜數(shù)學(xué)運(yùn)算的
G06F17-20 .處理自然語言數(shù)據(jù)的
G06F17-30 .信息檢索;及其數(shù)據(jù)庫(kù)結(jié)構(gòu)
G06F17-40 .數(shù)據(jù)的獲取和記錄
G06F17-50 .計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)





