[發明專利]一種掃描電鏡用金相樣品的制備方法有效
| 申請號： | 201510801343.2 | 申請日： | 2015-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN105486566B | 公開（公告）日： | 2019-08-06 |
| 發明（設計）人： | 陳煜達;潘睿;陳春煥;任瑞銘 | 申請（專利權）人： | 大連交通大學 |
| 主分類號： | G01N1/32 | 分類號： | G01N1/32;G01N1/28 |
| 代理公司： | 大連東方專利代理有限責任公司 21212 | 代理人： | 趙淑梅;李馨 |
| 地址： | 116028 遼寧*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掃描電鏡 金相 樣品 制備 方法 | ||
1.一種掃描電鏡用CL60鋼金相樣品的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：
粗磨細磨：將CL60鋼試樣分別采用400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#、2000#和3000#碳化硅金相砂紙磨光，去離子水清洗；
機械拋光：將粗磨細磨步驟所得產品置于去離子水濕潤的磨砂革拋光盤上加入拋光劑拋光30min，去離子水清洗，乙醇脫水，吹干，所述拋光劑包括堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水、洗滌劑，所述堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水與洗滌劑的體積比為100：10：100：1；所述堿性硅溶膠中二氧化硅的含量為30wt％，pH值為10；所述氫氧化鈉溶液的pH值為10。
2.一種掃描電鏡用U71Mn鋼金相樣品的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：
粗磨細磨：將U71Mn鋼試樣分別采用400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#、2000#和3000#碳化硅金相砂紙磨光，去離子水清洗；
機械拋光：將粗磨細磨步驟所得產品置于去離子水濕潤的磨砂革拋光盤上加入拋光劑拋光30min，去離子水清洗，乙醇脫水，吹干，所述拋光劑包括堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水、洗滌劑，所述堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水與洗滌劑的體積比為100：10：100：1；所述堿性硅溶膠中二氧化硅的含量為30wt％，pH值為10；所述氫氧化鈉溶液的pH值為10。
3.一種掃描電鏡用16MnR鋼金相樣品的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：
粗磨細磨：將16MnR鋼試樣分別采用400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#、2000#和3000#碳化硅金相砂紙磨光，去離子水清洗；
機械拋光：將粗磨細磨步驟所得產品置于去離子水濕潤的磨砂革拋光盤上加入拋光劑拋光30min，去離子水清洗，乙醇脫水，吹干，所述拋光劑包括堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水、洗滌劑，所述堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水與洗滌劑的體積比為100：10：100：1；所述堿性硅溶膠中二氧化硅的含量為30wt％，pH值為10；所述氫氧化鈉溶液的pH值為10。
4.一種掃描電鏡用CL65鋼金相樣品的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：
粗磨細磨：將CL65鋼試樣分別采用400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#、2000#和3000#碳化硅金相砂紙磨光，去離子水清洗；
機械拋光：將粗磨細磨步驟所得產品置于去離子水濕潤的磨砂革拋光盤上加入拋光劑拋光30min，去離子水清洗，乙醇脫水，吹干，所述拋光劑包括堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水、洗滌劑，所述堿性硅溶膠、氫氧化鈉溶液、去離子水與洗滌劑的體積比為100：10：100：1；所述堿性硅溶膠中二氧化硅的含量為30wt％，pH值為10；所述氫氧化鈉溶液的pH值為10。
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