[發(fā)明專利]雙放雙收卷繞鍍膜裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510791301.5
• 申請(qǐng)日: 2015-11-17
• 公開（公告）號(hào): CN105239052A
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱文廓;朱剛勁;朱剛毅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東騰勝真空技術(shù)工程有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56;C23C14/35;C23C14/58
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245
• 代理人: 謝靜娜;裘暉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及卷材表面鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種雙放雙收卷繞鍍膜裝置及方法。

背景技術(shù)

電磁屏蔽薄膜是一種新型的電磁波屏蔽材料，它能有效阻隔電場(chǎng)、磁場(chǎng)，確保線路不被干擾，也防止線路干擾外界設(shè)備。目前常用于線路板、數(shù)據(jù)線等產(chǎn)品的屏蔽用途，是一種市場(chǎng)需求量較大的產(chǎn)品。

對(duì)于電磁屏蔽膜的加工，目前普遍采用涂布的方式進(jìn)行加工，但是這種傳統(tǒng)的工藝制程不環(huán)保、成本高、產(chǎn)品品質(zhì)不理想。新型的方法是采用真空卷繞鍍膜的物理方法進(jìn)行干法加工，但傳統(tǒng)的的卷繞鍍膜機(jī)一次只能鍍制一卷繞材料，導(dǎo)致生產(chǎn)效率低，成本較高，產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力不強(qiáng)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種生產(chǎn)效率高、設(shè)備結(jié)構(gòu)集成度高的雙放雙收卷繞鍍膜裝置。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種通過上述裝置實(shí)現(xiàn)的雙放雙收卷繞鍍膜方法。

本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種雙放雙收卷繞鍍膜裝置，包括真空室和兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)，真空室為橫置的圓筒狀或方形箱狀的結(jié)構(gòu)，真空室內(nèi)的中部設(shè)置鍍膜區(qū)域和離子處理區(qū)域，鍍膜區(qū)域位于離子處理區(qū)域上方，兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)分別設(shè)于真空室內(nèi)的左右兩側(cè)，各收放輥卷繞機(jī)構(gòu)上的卷材依次經(jīng)過離子處理區(qū)域和鍍膜區(qū)域相應(yīng)的外側(cè)面。

所述真空室的前后兩端分別設(shè)有靶車和卷繞車，靶車和卷繞車底部分別設(shè)置導(dǎo)軌；靶車上設(shè)置濺射靶組件和離子處理組件，卷繞車上設(shè)置兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)；靶車沿著導(dǎo)軌運(yùn)行，帶動(dòng)濺射靶組件相應(yīng)進(jìn)入或退出鍍膜區(qū)域，同時(shí)帶動(dòng)離子處理組件進(jìn)入或退出離子處理區(qū)域；卷繞車沿著導(dǎo)軌運(yùn)行，帶動(dòng)兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)同時(shí)進(jìn)入或退出真空室。由于在真空室內(nèi)設(shè)置兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)，所以真空室內(nèi)各組成部件的集成度高，操作和維護(hù)都相當(dāng)復(fù)雜、難度較大，為此，在真空室外設(shè)置靶車和卷繞車，通過靶車安裝濺射靶組件和離子處理組件，通過卷繞車安裝兩組收放輥卷繞機(jī)構(gòu)，使用或需要維護(hù)時(shí)，通過靶車和卷繞車帶動(dòng)濺射靶組件、離子處理組件和卷繞機(jī)構(gòu)進(jìn)入或退出真空室，從而進(jìn)行安裝或維護(hù)，其操作方便，也可降低維護(hù)難度，對(duì)在同一真空室內(nèi)實(shí)現(xiàn)雙放雙收的卷繞鍍膜方式能否實(shí)現(xiàn)起著關(guān)鍵性的作用。其中，離子處理組件可根據(jù)鍍膜工藝的實(shí)際需要確定是否安裝并使用。

所述靶車包括濺射靶安裝架、離子源安裝架、底座、支撐連桿和支撐側(cè)板，支撐側(cè)板通過支撐連桿與底座相連接，支撐側(cè)板上由上至下依次設(shè)置濺射靶安裝架和離子源安裝架，底座底部設(shè)有與軌道相配合的靶車滾輪。其中，支撐連桿有多個(gè)，各支撐連桿均與底座鉸接，由于濺射靶組件中磁控濺射靶的數(shù)量和離子處理組件中離子源的數(shù)量均可根據(jù)實(shí)際鍍膜工藝的需要進(jìn)行調(diào)整，因此通過該鉸接方式，結(jié)合外置的氣缸或其它動(dòng)力機(jī)構(gòu)，可調(diào)節(jié)濺射靶安裝架和離子源安裝架相對(duì)于底座的高度以及垂直度，從而使濺射靶組件和離子處理組件在真空室內(nèi)處于最佳位置。

所述卷繞車包括卷繞安裝架、支撐板和后座，支撐板固定于后座上，支撐板上設(shè)置兩套卷繞安裝架，兩套卷繞安裝架位于支撐板上的左右兩側(cè)，后座一側(cè)設(shè)有與軌道相配合的卷繞車滾輪，卷繞車滾輪位于支撐板下方。

所述鍍膜區(qū)域包括左鍍膜區(qū)和右鍍膜區(qū)，離子處理區(qū)域包括左離子處理區(qū)和右離子處理區(qū)，鍍膜區(qū)域的上端設(shè)有第一隔板，鍍膜區(qū)域與離子處理區(qū)域之間設(shè)有第二隔板，離子處理區(qū)域的下端設(shè)有第三隔板，左鍍膜區(qū)與右鍍膜區(qū)之間設(shè)有第四隔板，且第四隔板的下部延伸至左離子處理區(qū)和右離子處理區(qū)之間。第一隔板、第二隔板、第三隔板和第四隔板的設(shè)置，使左鍍膜區(qū)、右鍍膜區(qū)、左離子處理區(qū)和右離子處理區(qū)分別形成獨(dú)立的區(qū)域，可有效避免串氣現(xiàn)象，防止交叉污染，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。

所述濺射靶組件包括至少一個(gè)左磁控濺射靶和至少一個(gè)右磁控濺射靶，左磁控濺射靶設(shè)于左鍍膜區(qū)內(nèi)，右磁控濺射靶設(shè)于右鍍膜區(qū)內(nèi)；離子處理組件包括至少一個(gè)左離子源和至少一個(gè)右離子源，左離子源設(shè)于左離子處理區(qū)內(nèi)，右離子源設(shè)于右離子處理區(qū)內(nèi)。其中，磁控濺射靶的數(shù)量和離子處理組件中離子源的數(shù)量均可根據(jù)實(shí)際鍍膜工藝的需要進(jìn)行調(diào)節(jié)。

所述左磁控濺射靶和右磁控濺射靶均為平面靶材或圓柱靶材中的一種。

所述收放輥卷繞機(jī)構(gòu)包括放卷輥、收卷輥、導(dǎo)向輥、張力檢測(cè)輥和主動(dòng)輥，放卷輥和收卷輥呈上下方式放置，放卷輥和收卷輥之間分布有多個(gè)導(dǎo)向輥和張力檢測(cè)輥，鍍膜區(qū)域上端外側(cè)和離子處理區(qū)域下端外側(cè)分別設(shè)有主動(dòng)輥，通過張力控制來拉直卷材，卷材的待處理面平行于離子處理區(qū)域和鍍膜區(qū)域。其中，各種輥的數(shù)量和安裝方式可靈活配置。

通過上述裝置實(shí)現(xiàn)一種雙放雙收卷繞鍍膜方法，包括以下步驟：