[發明專利]溶劑促進的四氫異喹啉類化合物選擇性脫氫的方法

有效

• 申請號: 201510779089.0
• 申請日: 2015-11-13
• 公開（公告）號: CN106699657B
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發明（設計）人: 周永貴;時磊;馮廣收;姬悅
• 申請（專利權）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 主分類號: C07D217/02
• 分類號: C07D217/02;C07D217/14;C07D217/16
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 馬馳

1.一種溶劑促進的四氫異喹啉類化合物選擇性脫氫的方法，具體為1-取代-1,2,3,4-四氫異喹啉化合物選擇性部分脫氫合成1-取代-3,4-二氫異喹啉的方法，其特征在于：

以DMF或DMSO作為溶劑，加熱條件下，四氫異喹啉類化合物選擇性脫氫；

反應式為：

式中：

所述R¹、R²分別為H，C₁-C₁₀烷基，C₁-C₁₀烷氧基，F，Cl，Br，I中的一種，R¹和R²相同或不同；

所述R選自芳基或雜環基，其中，雜環基包含至少一個選自N,O或S的雜原子；C5或C6環烷基中的一種；所述芳基、雜環基、C5或C6環烷基上均連有1-3個相同或不同的取代基，所述取代基選自F、Cl、Br、I、CF₃、C₁-C₁₀的烷基、C₁-C₁₀的烷氧基。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

R¹選自F、Cl、Br、I、H、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基中的一種，R²選自F、Cl、Br、I、H，C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基中的一種；

R選自被1-3個相同或不同取代基取代的苯基、萘基、蒽基、菲基、含氮的雜環基中的一種，所述取代基選自F、Cl、Br、I、H、CF₃、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

反應溫度選自80-120℃，反應時間選自12-24小時。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

反應底物與溶劑的摩爾體積比選自0.1-2.0mol/L。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

反應結束后用減壓除掉溶劑，柱層析得相應的部分脫氫產物，其中柱層析洗脫劑：石油醚和乙酸乙酯的體積比為5:1～1:1。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于：選擇含有手性中心的四氫異喹啉類化合物中對應的單一對映體中的一種，通過下述步驟對對映體進行消旋化，將單一對映體的化合物與DMF或DMSO在80-120℃下反應12-48小時后，通過減壓蒸餾除掉體系中的溶劑,再用硼氫化鈉在室溫條件下還原為消旋體四氫異喹啉。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于：所述手性四氫異喹啉類化合物的1位取代基R，R選自芳基或雜環基，其中，雜環基包含至少一個選自N,O或S的雜原子；所述芳基、雜環基上均連有1-3個相同或不同的取代基，所述取代基為F、Cl、Br、I、H、CF₃,C₁-C₁₀烷基，C₁-C₁₀烷氧基。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于：所述手性四氫異喹啉類化合物的1位取代基為R，R選自苯基、萘基、蒽基、菲基及雜原子為氮的雜環基中的一種，所述取代基選自F、Cl、Br、I、H、CF₃、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基。