[發明專利]表面檢查設備及方法

在審

• 申請號: 201510766110.3
• 申請日: 2015-11-11
• 公開（公告）號: CN105588839A
• 公開（公告）日: 2016-05-18
• 發明（設計）人: 權五葰;柳敏虎;金敏貞;姜泰旭;宋升勇;劉正根
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;H01L21/66
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王新華

技術領域

所描述的技術總地涉及表面檢查設備及方法。

背景技術

CRT顯示器近來已經被便攜式薄的平板顯示器替代。有機發光二極管 (OLED)顯示器是自發光的，并能夠由低電壓驅動。OLED顯示器還重量 輕并且薄，并具有寬視角、高對比度和快響應速度，從而被認為是下一代顯 示技術。

為了制造薄和/或柔性的OLED顯示器，近來已經使用了薄膜封裝 (TFE)，該薄膜封裝包括多個無機膜和有機膜以密封有機發光器件。

已經開展了對使用干涉儀的檢查設備的研究，從而精確地測量具有大面 積的表面的形狀。

發明內容

發明的一個方面是表面檢查設備及方法。

另一方面是一種表面檢查方法，該表面檢查方法包括：將物體放置在工 作臺上，該工作臺包括相對于一平面以預定角度傾斜的頂表面，該平面包括 彼此垂直的第一方向和第二方向；通過使用表面檢查單元照射光到物體上， 該表面檢查單元包括干涉儀和成像裝置，該干涉儀具有在實質上垂直于所述 平面的第三方向上對準的光軸，該成像裝置接收通過干涉儀形成的干涉光； 獲得通過成像裝置捕獲的包括第一干涉條紋的第一圖像；在第一方向和/或 第二方向上移動表面檢查單元和/或工作臺；獲得通過成像裝置捕獲的包括 第二干涉條紋的第二圖像；以及在第三方向上移動表面檢查單元，以修正第 二干涉條紋相對于第一干涉條紋的移動。

在一些實施方式中，表面檢查方法還可以包括，在放置物體之后，校準 表面檢查單元使得由表面檢查單元照射的光的焦點位于物體上。

在一些實施方式中，表面檢查方法還可以包括，在獲得第二圖像之后， 檢測并存儲相對于第一干涉條紋的第二干涉條紋的間隔和/或形狀上的變 化；以及重構物體的對應于所述變化的表面形狀。

在一些實施方式中，工作臺的頂表面可以相對于所述平面傾斜0.8度至 16度。

在一些實施方式中，在第三方向上移動表面檢查單元以修正第二干涉條 紋相對于第一干涉條紋的移動可以包括：計算第一干涉條紋和第二干涉條紋 的數目；以及在第三方向上移動表面檢查單元，使得第二干涉條紋的數目與 第一干涉條紋的數目相同。

在一些實施方式中，在第三方向上移動表面檢查單元可以包括通過使用 壓電元件在第三方向上移動表面檢查單元。

在一些實施方式中，干涉儀可以包括：用于發射光的光源單元；參考反 射鏡；分束器，用于將從光源單元發出的光分成朝向物體和參考反射鏡的兩 束光；以及聚焦透鏡，放置在由分束器分出的朝向物體的光的路徑上，其中 所述照射光包括：通過穿過聚焦透鏡使從光源單元發出的光聚焦在物體上。

在一些實施方式中，光源單元可以發射白光。

另一方面是一種制造顯示裝置的方法，該方法包括：在襯底上形成發射 器件；以及在發射器件上形成薄膜封裝層，其中薄膜封裝層包括至少一個無 機膜和有機膜，以及檢查薄膜封裝層中包括的無機膜的表面或者有機膜的表 面，其中檢查無機膜的表面或者有機膜的表面包括：將包括發射器件和至少 一部分薄膜封裝層的物體放置在工作臺上，該工作臺包括相對于一平面以預 定角度傾斜的頂表面，該平面包括彼此垂直的第一方向和第二方向；通過使 用表面檢查單元照射光到薄膜封裝層中包括的無機膜的表面或者有機膜的 表面上，表面檢查單元包括干涉儀和成像裝置，干涉儀具有在實質上垂直于 所述平面的第三方向上對準的光軸，成像裝置接收通過干涉儀形成的干涉 光；獲得通過成像裝置捕獲的包括第一干涉條紋的第一圖像；在第一方向和 /或第二方向上移動表面檢查單元和/或工作臺；獲得通過成像裝置捕獲的包 括第二干涉條紋的第二圖像；以及在第三方向上移動表面檢查單元，以修正 第二干涉條紋相對于第一干涉條紋的移動。

在一些實施方式中，形成薄膜封裝層可以包括：在發射器件上形成第一 無機膜；在第一無機膜上形成第一有機膜；檢查第一有機膜的表面；以及在 第一有機膜上形成第二無機膜。

在一些實施方式中，形成薄膜封裝層還可以包括：在形成第二無機膜之 后，在第二無機膜上形成第二有機膜；檢查第二有機膜的表面；以及在第二 有機膜上形成第三無機膜。

在一些實施方式中，形成薄膜封裝層還可以包括：在形成發射器件之后， 形成包層和覆蓋層，該包層用于改善從發射器件發出的光的特性，該覆蓋層 用于改善從發射器件發出的光的特性并保護發射器件。