[發(fā)明專利]陣列基板及制作方法、液晶顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510732914.1 | 申請日： | 2015-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN105242435A | 公開（公告）日： | 2016-01-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 林建宏;李亞鋒 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京聿宏知識產(chǎn)權代理有限公司 11372 | 代理人： | 張文娟;朱繪 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陣列 制作方法 液晶顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板，包括：
基底；
第一鈍化層，其設置于所述基底上；
觸控信號層，其設置于所述第一鈍化層上；
第二鈍化層，其設置于所述觸控信號層和裸露的第一鈍化層上；
第一電極層，其設置于所述第二鈍化層上；
第三鈍化層，其設置于所述第一電極層和裸露的第二鈍化層上；
第二電極層，其設置于所述第三鈍化層上。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一電極層為像素電極層，所述第二電極層為公共電極層。
3.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一電極層為公共電極層，所述第二電極層為像素電極層。
4.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述觸控信號層與所述像素電極層具有重合區(qū)域，其通過貫通所述第二鈍化層、所述第一電極層和所述第三鈍化層的過孔與所述公共電極層連通。
5.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述觸控信號層與所述像素電極層具有重合區(qū)域，其通過貫通所述第二鈍化層的過孔與所述公共電極層連通。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的陣列基板，其特征在于，所述第一電極層中的電極為面狀電極，所述第二電極層中的電極為條狀電極。
7.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述基底包括：
遮光層，其設置于基板上；
第一絕緣層，其設置于所述遮光層和裸露的基板上；
多晶硅主動層，其設置于所述第一絕緣層上；
第二絕緣層，其設置于所述多晶硅主動層和裸露的第一絕緣層上；
柵極層，其設置于所述第二絕緣層上，用以形成薄膜晶體管的柵極；
第三絕緣層，其設置于所述柵極層和裸露的第二絕緣層上；
信號層，其設置于所述第三絕緣層上，用以形成薄膜晶體管的源極和漏極及與所述源極和漏極連接的信號線；
平坦層，其設置于所述信號層和裸露的第三絕緣層上，
其中，所述源極通過貫通所述平坦層、所述第一鈍化層、所述觸控信號層和所述第二鈍化層的過孔與所述像素電極層連通。
8.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述基底包括：
遮光層，其設置于基板上；
第一絕緣層，其設置于所述遮光層和裸露的基板上；
多晶硅主動層，其設置于所述第一絕緣層上；
第二絕緣層，其設置于所述多晶硅主動層和裸露的第一絕緣層上；
柵極層，其設置于所述第二絕緣層上，用以形成薄膜晶體管的柵極；
第三絕緣層，其設置于所述柵極層和裸露的第二絕緣層上；
信號層，其設置于所述第三絕緣層上，用以形成薄膜晶體管的源極和漏極及與所述源極和漏極連接的信號線；
平坦層，其設置于所述信號層和裸露的第三絕緣層上，
其中，所述源極通過貫通所述平坦層、所述第一鈍化層、所述觸控信號層、所述第二鈍化層、所述第一電極層和所述第三鈍化層的過孔與所述像素電極層連通。
9.一種用于以上權利要求1-8中任一項所述陣列基板的制作方法，包括：
在基板上形成遮光層；
在所述遮光層和裸露的基板上形成第一絕緣層；
在所述第一絕緣層上形成多晶硅主動層；
在所述多晶硅主動層和裸露的第一絕緣層上形成第二絕緣層；
在所述第二絕緣層上形成與所述多晶硅主動層對應的柵極層，用以形成薄膜晶體管的柵極；
在所述柵極層和裸露的第二絕緣層上形成第三絕緣層；
在所述第三絕緣層上形成信號層，用以形成薄膜晶體管的源極和漏極及與所述源極和漏極連接的信號線；
在所述信號層和裸露的第三絕緣層上形成平坦層；
在所述平坦層上形成第一鈍化層；
在所述第一鈍化層上形成觸控信號層；
在所述觸控信號層和裸露的第一鈍化層上形成第二鈍化層；
在所述第二鈍化層上形成第一電極層；
在所述第一電極層和裸露的第二鈍化層上形成第三鈍化層；
在所述第三鈍化層上形成第二電極層。
10.一種采用以上權利要求1-8中任一項所述陣列基板的液晶顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的
