[發(fā)明專利]稀土金屬靶材及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510729783.1 | 申請日: | 2015-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN106637100B | 公開(公告)日: | 2020-03-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王志強(qiáng);吳道高;張小偉;陳德宏;張虎;程軍;楊宏博;楊秉政 | 申請(專利權(quán))人: | 有研稀土新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 趙囡囡;吳貴明 |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 稀土金屬 及其 制備 方法 | ||
1.一種稀土金屬靶材的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
步驟S1,采用水冷坩堝懸浮熔煉方法將稀土金屬熔煉成稀土金屬熔液;
步驟S2,對所述稀土金屬熔液進(jìn)行下拉鑄錠,得到稀土金屬鑄錠;以及
步驟S3,對所述稀土金屬鑄錠進(jìn)行鍛造軋制以及機(jī)械加工,獲得所述稀土金屬靶材;
所述步驟S3包括:
步驟S31,將所述稀土金屬鑄錠加熱到預(yù)定溫度,并在所述預(yù)定溫度下對所述稀土金屬鑄錠依次在X軸和Y軸方向上進(jìn)行自由鍛,得到自由鍛產(chǎn)物;
步驟S32,對所述自由鍛產(chǎn)物進(jìn)行冷軋,得到冷軋產(chǎn)物;以及
步驟S33,對所述冷軋產(chǎn)物進(jìn)行熱處理以及機(jī)械加工,得到所述稀土金屬靶材;
其中,所述熱處理采用在惰性氣氛保護(hù)下先淬火后回火的方式進(jìn)行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述稀土金屬為純度>99.99wt%的稀土金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述稀土金屬選自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Y以及Sc中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S1采用懸浮熔煉爐實(shí)施,所述懸浮熔煉爐內(nèi)的壓力高于大氣壓力300~500Pa。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述懸浮熔煉爐內(nèi)為氬氣氣氛。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S2在對所述稀土金屬熔液進(jìn)行下拉鑄錠的過程中進(jìn)行超聲處理;所述超聲處理的步驟中超聲波的頻率范圍為30~40kHz,超聲儀的功率小于或等于30kW。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S2中下拉的速度為0.5~1mm/min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,所述預(yù)定溫度為250~550℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,所述稀土金屬為La、Ce或Yb,所述預(yù)定溫度為250~310℃。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,所述稀土金屬為Nd或Pr,所述預(yù)定溫度為300~400℃。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,所述稀土金屬為Gd、Tb、Dy、Ho或Er,所述預(yù)定溫度為350~450℃。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,所述稀土金屬為Y或Sc,所述預(yù)定溫度為400~550℃。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S31中,每次所述自由鍛使得所述稀土金屬鑄錠的變形量大于20%。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S32中,每次所述冷軋的變形量大于15%。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述淬火采用油冷的方式進(jìn)行。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制備方法,其特征在于,所述淬火的溫度為450℃~650℃,所述回火的溫度為150℃~300℃,所述回火的時(shí)間為1~5h。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





