[發(fā)明專利]一種管式POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510718906.1 | 申請日: | 2015-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN105428226A | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚劍;韓曉輝;王廣為;邱江南;翟穎晗 | 申請(專利權(quán))人: | 晉能清潔能源科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/228 | 分類號: | H01L21/228;H01L31/18 |
| 代理公司: | 鎮(zhèn)江京科專利商標(biāo)代理有限公司 32107 | 代理人: | 夏哲華 |
| 地址: | 033000 *** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 pocl sub 擴散 自動 調(diào)整 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種晶體硅太陽能電池的制作方法,具體地說是一種管式POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法。
背景技術(shù)
目前,在晶體硅太陽電池制造行業(yè),P型襯底晶硅太陽能電池擴散制備pn結(jié)主要采用管式液態(tài)磷源高溫擴散方式;一般通過調(diào)整爐管溫度或攜帶磷源的小氮流量來調(diào)控小范圍內(nèi)的擴散方阻波動。爐管溫度調(diào)整的常見方法是在連續(xù)數(shù)管內(nèi),保持沉積步溫度不變,待方阻波動至一定范圍后,對沉積步溫度進行調(diào)整,然后再連續(xù)生產(chǎn)數(shù)管,以此反復(fù);另一種方法則基于實際測量的方阻與目標(biāo)方阻的差異,基于既有經(jīng)驗,通過小氮流量設(shè)定變化來調(diào)整擴散方阻。盡管這些方法在一定程度上起到了擴散方阻的穩(wěn)定工作,但受限于爐管自身差異、磷源源瓶液位高度的持續(xù)變化,這些方法均具有很大的局限性。同時,受限于工程師能力差異,上述調(diào)節(jié)方法本身更具有很大的風(fēng)險性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)過程擴散方阻的自動調(diào)節(jié)的管式POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的管式POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法,包括液態(tài)磷源擴散設(shè)備、自動上下料機器以及與液態(tài)磷源擴散設(shè)備、自動上下料機器連接的計算機,各個液態(tài)磷源擴散設(shè)備具有與之對應(yīng)的通過軟件程序自動生成的DLV文件,計算機內(nèi)存儲上述DLV文件并能夠?qū)Ω鱾€液態(tài)磷源擴散設(shè)備對應(yīng)溫區(qū)的方阻值進行計算處理,計算時各個溫區(qū)分開獨立計算,對應(yīng)公式如下:
CTEMPm=(A(R)m-Rtarget)×Kcorr+CTEMP+TEMde
其中A(R)m代表連續(xù)生產(chǎn)n舟的對應(yīng)溫區(qū)的方阻均值,Ri為第i舟對應(yīng)溫區(qū)的方阻計算值,CTEMPm為第m次的自動調(diào)整溫度值,Rtarget為預(yù)設(shè)目標(biāo)方阻值,Kcorr為與磷源液位高度相關(guān)的第m次溫度調(diào)整的溫度修正系數(shù),CTEMP為爐管初始設(shè)定沉積溫度,TEMde為爐管不同溫區(qū)的沉積溫度補償值;
在生產(chǎn)過程中,液態(tài)磷源擴散設(shè)備自動調(diào)用并讀取DLV文件的相關(guān)參數(shù),通過對DLV參數(shù)的調(diào)用,自動對液態(tài)磷源擴散設(shè)備內(nèi)不同溫區(qū)的擴散溫度進行調(diào)整。
所述計算機還與一個方阻測試設(shè)備連接,所述方阻測試設(shè)備能夠?qū)Ψ阶柚颠M行測試。
所述液態(tài)磷源擴散設(shè)備為管式擴散爐。
采用上述的方法后,由于各個液態(tài)磷源擴散設(shè)備具有與之對應(yīng)的通過軟件程序自動生成的DLV文件,計算機內(nèi)存儲上述DLV文件并能夠?qū)Ω鱾€液態(tài)磷源擴散設(shè)備對應(yīng)溫區(qū)的方阻值進行計算處理,由此建立的數(shù)據(jù)鏈接變量文件DLV,在生產(chǎn)過程中,通過DLV文件的自動調(diào)用,實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)過程擴散方阻的自動調(diào)節(jié);除能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定、均勻的爐管擴散方阻外,基于各個爐管單獨存儲的DLV文件,能夠詳細保存計算獲得的各管不同溫區(qū)的擴散沉積溫度;基于上述溫度匯總數(shù)據(jù),可以方便快捷地對比出不同爐管的沉積溫度差異,進而更有效地實現(xiàn)擴散工段的整體優(yōu)化。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施方式,對本發(fā)明的POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法作進一步詳細說明。
本發(fā)明的POCl3擴散方阻自動調(diào)整方法,包括液態(tài)磷源擴散設(shè)備、自動上下料機器、方阻測試設(shè)備以及與液態(tài)磷源擴散設(shè)備、自動上下料機、方阻測試設(shè)備連接的計算機,液態(tài)磷源擴散設(shè)備優(yōu)選為管式擴散爐,自動上下料機優(yōu)選為羅伯特科自動上下料設(shè)備,方阻測試設(shè)備優(yōu)選為Semilab方阻自動檢測(測試光電壓)設(shè)備,針對各個液態(tài)磷源擴散設(shè)備具有通過軟件程序自動生成的DLV文件,計算機內(nèi)存儲上述DLV文件并能夠?qū)Ω鱾€液態(tài)磷源擴散設(shè)備對應(yīng)溫區(qū)的方阻值進行計算處理,公式如下:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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