[發(fā)明專利]一種管式POCl3擴(kuò)散方阻自動(dòng)調(diào)整方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510718906.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105428226A | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚劍;韓曉輝;王廣為;邱江南;翟穎晗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 晉能清潔能源科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/228 | 分類號(hào): | H01L21/228;H01L31/18 |
| 代理公司: | 鎮(zhèn)江京科專利商標(biāo)代理有限公司 32107 | 代理人: | 夏哲華 |
| 地址: | 033000 *** | 國(guó)省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 pocl sub 擴(kuò)散 自動(dòng) 調(diào)整 方法 | ||
1.一種POCl3擴(kuò)散方阻自動(dòng)調(diào)整方法,其特征在于:包括液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備、自動(dòng)上下料機(jī)器以及與液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備、自動(dòng)上下料機(jī)器連接的計(jì)算機(jī),各個(gè)所述液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備具有與之對(duì)應(yīng)的通過(guò)軟件程序自動(dòng)生成的DLV文件,所述計(jì)算機(jī)內(nèi)存儲(chǔ)上述DLV文件并能夠?qū)Ω鱾€(gè)所述液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備對(duì)應(yīng)溫區(qū)的方阻值進(jìn)行計(jì)算處理,計(jì)算時(shí)各個(gè)溫區(qū)分開獨(dú)立計(jì)算,對(duì)應(yīng)公式如下:
CTEMPm=(A(R)m-Rtarget)×Kcorr+CTEMP+TEMde
其中A(R)m代表連續(xù)生產(chǎn)n舟的對(duì)應(yīng)溫區(qū)的方阻均值,Ri為第i舟對(duì)應(yīng)溫區(qū)的方阻計(jì)算值,CTEMPm為第m次的自動(dòng)調(diào)整溫度值,Rtarget為預(yù)設(shè)目標(biāo)方阻值,Kcorr為與磷源液位高度相關(guān)的第m次溫度調(diào)整的溫度修正系數(shù),CTEMP為爐管初始設(shè)定沉積溫度,TEMde為爐管不同溫區(qū)的沉積溫度補(bǔ)償值;
在生產(chǎn)過(guò)程中,液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備自動(dòng)調(diào)用并讀取DLV文件的相關(guān)參數(shù),通過(guò)對(duì)DLV參數(shù)的調(diào)用,自動(dòng)對(duì)液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備內(nèi)不同溫區(qū)的擴(kuò)散溫度進(jìn)行調(diào)整。
2.按照權(quán)利要求1所述的POCl3擴(kuò)散方阻自動(dòng)調(diào)整方法,其特征在于:所述計(jì)算機(jī)還與一個(gè)方阻測(cè)試設(shè)備連接,所述方阻測(cè)試設(shè)備能夠?qū)Ψ阶柚颠M(jìn)行測(cè)試。
3.按照權(quán)利要求1所述的POCl3擴(kuò)散方阻自動(dòng)調(diào)整方法,其特征在于:所述液態(tài)磷源擴(kuò)散設(shè)備為管式擴(kuò)散爐。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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