[發明專利]一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201510660959.2
• 申請日: 2015-10-12
• 公開（公告）號: CN105182598A
• 公開（公告）日: 2015-12-23
• 發明（設計）人: 高錦成;曹占鋒;張鋒
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，包括多個透光區，以及圍繞每個所述透光區的遮光區，其特征在于，所述遮光區上包括依次層疊設置的第一電極、光電轉換薄膜和第二電極，所述第一電極、所述光電轉換薄膜和所述第二電極構成光電轉換單元，所述第一電極為透明電極。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述透光區上包括像素電極和公共電極；

所述像素電極與所述第一電極同層設置，和/或，所述公共電極與所述第二電極同層設置。

3.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述透光區上包括像素電極和公共電極；

所述像素電極與所述第二電極同層設置，和/或，所述公共電極與所述第一電極同層設置。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述透光區上包括彩色濾光層。

5.根據權利要求1-3任一項所述的陣列基板，其特征在于，所述遮光區上還包括彩色濾色層，作為平坦層；所述彩色濾色層、所述第一電極和所述光電轉換薄膜依次層疊設置。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述遮光區上還包括第三電極，所述光電轉換薄膜、所述第二電極和所述第三電極依次層疊設置，所述第三電極為非透明電極。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-6任一項所述的陣列基板。

8.一種陣列基板的制作方法，所述陣列基板包括多個透光區，以及圍繞每個所述透光區的遮光區，其特征在于，所述方法包括：

形成第一電極層，經過構圖工藝在所述遮光區上形成包括第一電極的圖形；

形成光電轉換薄膜層，經過構圖工藝在所述遮光區上形成包括光電轉換薄膜的圖形；

形成第二電極層，經過構圖工藝在所述遮光區上形成包括第二電極的圖形；

其中，所述第一電極、所述光電轉換薄膜和所述第二電極構成光電轉換單元，且所述第一電極為透明電極。

9.根據權利要求8所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，還包括：在所述透光區上形成像素電極和公共電極；其中，

所述像素電極與所述第一電極同時形成，和/或，所述公共電極與所述第二電極同時形成。

10.根據權利要求8所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，還包括：在所述透光區上形成像素電極和公共電極；其中，

所述像素電極與所述第二電極同時形成，和/或，所述公共電極與所述第一電極同時形成。

11.根據權利要求9或10所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述透光區上形成彩色濾光層。

12.根據權利要求11所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，在透光區上形成彩色濾色層時，所述方法還包括：

在所述遮光區上形成彩色濾色層，其中，所述彩色濾光層、所述第一電極和所述光電轉換薄膜依次層疊設置。