[發(fā)明專利]一種計(jì)算機(jī)斷層成像金屬偽影校正方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510660920.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-10-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105225208A | 公開(公告)日: | 2016-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王毅;曹文靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T5/00 | 分類號(hào): | G06T5/00;G06T7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201807 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 計(jì)算機(jī) 斷層 成像 金屬 校正 方法 裝置 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及計(jì)算機(jī)斷層成像技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種計(jì)算機(jī)斷層成像金屬偽影的校正方法及裝置。
【背景技術(shù)】
計(jì)算機(jī)斷層成像是用射線對(duì)人體的特定部位按一定厚度的層面進(jìn)行掃描,根據(jù)不同的人體組織對(duì)射線的吸收能力不同,利用計(jì)算機(jī)重建出斷層面圖像的技術(shù)。
在計(jì)算機(jī)斷層掃描過程中,因被掃描物體中含有金屬導(dǎo)致重建后的圖像中存在的偽影稱為金屬偽影。金屬偽影的存在會(huì)降低圖像質(zhì)量,并且可能會(huì)影響醫(yī)生的診斷。因此,在計(jì)算機(jī)斷層掃描的成像中,去金屬偽影(MetalArtifactReduction,MAR)即金屬偽影校正,所要解決的就是去除由于金屬的存在而引入的偽影,恢復(fù)被偽影破壞或掩蓋的組織。
現(xiàn)有技術(shù)中,存在各種金屬偽影的校正方法.這些校正方法大致可以分為迭代重建方法(迭代法)及投影插值方法(插值法)。其中,迭代法假設(shè)圖像是均勻的,開始時(shí)可設(shè)置矩陣中的值為任意值,然后將理論計(jì)算值與實(shí)測(cè)投影值進(jìn)行比較,并對(duì)二者之間的差進(jìn)行修正。如此不斷重復(fù),直至假設(shè)值與測(cè)量值相同或在可接受的誤差范圍內(nèi)為止,但迭代法運(yùn)算量非常大,速度慢,難以被實(shí)際應(yīng)用。而插值法的基本思想是:通過插值算法把破壞的數(shù)據(jù)擬合出來,通常認(rèn)為金屬經(jīng)過的數(shù)據(jù)即為被破壞的數(shù)據(jù),插值就是用“假”數(shù)據(jù)替換金屬經(jīng)過的原始數(shù)據(jù)。插值法具有計(jì)算量小,速度快,實(shí)用性更高的特點(diǎn),是目前主流的金屬偽影去除方法。但事實(shí)上,因金屬經(jīng)過的區(qū)域的原始數(shù)據(jù)中會(huì)包含一部分可以使用的數(shù)據(jù),而插值法這種完全替換的方式會(huì)使重建后的圖像丟失原有的信息,并且也有可能有引入新的偽影、破壞組織結(jié)構(gòu)的潛在風(fēng)險(xiǎn)。
因此,需要提出一種新的計(jì)算機(jī)斷層成像金屬偽影校正方法,能夠在保留原始圖像可使用信息的前提下,進(jìn)一步減少偽影,提高圖像質(zhì)量。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明解決的是計(jì)算機(jī)斷層成像中出現(xiàn)金屬偽影的問題。
為解決上述問題,本發(fā)明提出一種計(jì)算機(jī)斷層成像金屬偽影校正方法,包括:輸入待校正圖像;獲取所述待校正圖像的第一投影數(shù)據(jù);對(duì)所述待校正圖像進(jìn)行第一校正,根據(jù)第一校正結(jié)果獲取第二投影數(shù)據(jù);對(duì)所述第一及第二投影數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)處理,獲取第三投影數(shù)據(jù);根據(jù)第三投影數(shù)據(jù)獲得校正后圖像。
可選地,所述進(jìn)行第一校正包括:對(duì)所述待校正圖像進(jìn)行分割,獲得金屬圖像;對(duì)所述待校正圖像及金屬圖像進(jìn)行投影,并根據(jù)投影數(shù)據(jù)進(jìn)行插值校正。
可選地,在所述加權(quán)處理中,根據(jù)金屬圖像的投影值確定所述第一及第二投影數(shù)據(jù)的權(quán)重。
可選地,還包括:對(duì)所述第三投影數(shù)據(jù)進(jìn)行第二校正,根據(jù)第二校正結(jié)果獲得校正圖像。
可選地,所述第二校正包括:根據(jù)所述第三投影數(shù)據(jù)對(duì)所述第一投影數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑化處理及插值處理以獲得第四投影數(shù)據(jù);所述根據(jù)第二校正結(jié)果獲得校正圖像包括:對(duì)第一投影數(shù)據(jù)與所述第四投影數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)處理,獲得第五投影數(shù)據(jù);對(duì)第五投影數(shù)據(jù)進(jìn)行反投影,獲得所述校正后圖像。
可選地,根據(jù)金屬圖像形態(tài)確定所述加權(quán)處理的強(qiáng)度。
可選地,所述金屬圖像形態(tài),由所述金屬圖像在投影域的投影值所確定的形態(tài)指數(shù)表征。
可選地,所述形態(tài)指數(shù)與所述加權(quán)處理強(qiáng)度的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:當(dāng)所述形態(tài)指數(shù)不大于第一閾值時(shí),加權(quán)處理的強(qiáng)度為第一強(qiáng)度;當(dāng)所述形態(tài)指數(shù)大于第一閾值且不大于第二閾值時(shí),加權(quán)處理的強(qiáng)度為第二強(qiáng)度;當(dāng)所述形態(tài)指數(shù)大于第二閾值時(shí),加權(quán)處理的強(qiáng)度為第三強(qiáng)度。
可選地,還包括對(duì)校正后圖像進(jìn)行信息補(bǔ)償處理。
本發(fā)明還提供一種計(jì)算機(jī)斷層成像金屬偽影校正裝置,包括:
圖像輸入單元,用于輸入待校正圖像;第一圖像投影單元,用于獲取待校正圖像的第一投影數(shù)據(jù);第二圖像投影單元,用于對(duì)所述待校正圖像進(jìn)行校正,并根據(jù)校正結(jié)果生成第二投影數(shù)據(jù);加權(quán)單元,用于將第一及第二投影數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)處理,生成第三投影數(shù)據(jù);圖像生成單元,用于對(duì)第三投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,以生成校正后圖像。
本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果:
把含有可使用信息的待校正圖像投影數(shù)據(jù)和經(jīng)過初始校正后的投影數(shù)據(jù)通過不同的權(quán)重結(jié)合在一起形成新的校正數(shù)據(jù),該方法可以在保留原始信息的同時(shí)去除偽影,更真實(shí)的還原了圖像信息,提升了金屬偽影校正的質(zhì)量。
進(jìn)一步地,在本發(fā)明的可選實(shí)施方式中,可以根據(jù)金屬形態(tài)信息判斷是否需要進(jìn)行加權(quán)及加權(quán)的強(qiáng)度,因加權(quán)強(qiáng)度可以根據(jù)金屬形態(tài)做自適應(yīng)的改變,從而能夠靈活適用多種形態(tài)金屬的應(yīng)用場(chǎng)景。
【附圖說明】
圖1是本發(fā)明的計(jì)算機(jī)斷層成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司,未經(jīng)上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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