[發明專利]一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法

在審

• 申請號: 201510634015.8
• 申請日: 2015-09-29
• 公開（公告）號: CN105274503A
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發明（設計）人: 李遠剛;馮娟;李華靜;張卓;楊淑麗;史永宏;魏小亮;王榮榮
• 申請（專利權）人: 西安科技大學
• 主分類號: C23C18/16
• 分類號: C23C18/16;C25B11/04
• 代理公司: 西安創知專利事務所 61213
• 代理人: 譚文琰

1.一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一、將六氯化鎢溶解于無水乙醇中，攪拌均勻后得到前驅體溶液；所述前驅體溶液中六氯化鎢的摩爾濃度為5mmol/L～60mmol/L；

步驟二、采用滴涂法將5μL～100μL步驟一中所述前驅體溶液滴涂于襯底表面并吹干，再將所述襯底在溫度為80℃～150℃的條件下熱處理3min～5min后冷卻至室溫；

步驟三、重復步驟二，直至所述襯底表面得到膜層；

步驟四、將步驟三中所述膜層加熱至400℃～550℃高溫煅燒2h～6h，高溫煅燒后在襯底表面得到三氧化鎢納米薄膜。

2.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟四中所述高溫煅燒的升溫速率為6℃/min～10℃/min。

3.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟四中所述高溫鍛造的溫度為400℃～450℃，時間為4h～5h。

4.按照權利要求3所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，所述高溫鍛造的溫度為450℃，時間為4h。

5.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟一所述前驅體溶液中六氯化鎢的摩爾濃度為30mmol/L～50mmol/L。

6.按照權利要求5所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，所述前驅體溶液中六氯化鎢的摩爾濃度為40mmol/L。

7.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟二所述滴涂法的過程中采用微量移液器吸取所述前驅體溶液。

8.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟二中所述襯底為FTO導電玻璃。

9.按照權利要求1所述的一種三氧化鎢納米薄膜的制備方法，其特征在于，步驟四中所述三氧化鎢納米薄膜的厚度為200nm～5000nm。