[發(fā)明專利]直接曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510617271.6
• 申請(qǐng)日: 2015-09-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105467773B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 橋本典夫;森田亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社ORC制作所
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

直接曝光裝置，在將圖案曝光于從供給卷軸送出并被卷繞到卷繞卷軸上的長(zhǎng)條狀工件的直接曝光裝置中，能夠在抑制曝光輥直徑增大的同時(shí)，擴(kuò)大曝光圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)區(qū)，并使描繪圖案的線條變細(xì)。該直接曝光裝置具有：圓筒部件，其在上述供給卷軸與卷繞卷軸之間，在其周面的一定范圍內(nèi)保持長(zhǎng)條狀工件的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；引導(dǎo)構(gòu)件，其在長(zhǎng)條狀工件從上述圓筒部件脫離的脫離位置處，沿與上述圓筒部件的軸垂直截面中的徑向垂直的切線方向引導(dǎo)長(zhǎng)條狀工件；以及曝光構(gòu)件，其在包含上述脫離位置的輸送方向的前后一定范圍內(nèi)，對(duì)從上述圓筒部件脫離并沿上述切線方向延伸的長(zhǎng)條狀工件描繪圖案。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及所謂的卷對(duì)卷方式的直接曝光裝置，在從供給卷軸送出并被卷繞卷軸卷繞的長(zhǎng)條狀工件的輸送中，對(duì)其正反的一個(gè)面描繪圖案。

背景技術(shù)

通常，作為用于移動(dòng)電話和移動(dòng)設(shè)備等的電子電路基板(印刷電路基板)的基底材料，例如使用將厚度為0.1mm以下且長(zhǎng)度為500mm以上(例如，100m)的長(zhǎng)條狀工件(感光性長(zhǎng)條膜(在正反的至少一個(gè)面上涂覆感光體而成的合成樹(shù)脂制柔軟膜))形成為卷狀的工件。此外，近年來(lái)，不使用轉(zhuǎn)印掩模地將描繪光直接照射到基板而描繪出圖案的直接曝光裝置在市場(chǎng)中涌現(xiàn)出，對(duì)長(zhǎng)條狀工件也采用這種曝光方式的要求日益強(qiáng)烈。

作為這種卷對(duì)卷方式的直接曝光裝置，為了進(jìn)行連續(xù)的長(zhǎng)條狀工件的輸送和曝光，公知有如下的直接曝光裝置：利用位于供給卷軸與卷繞卷軸之間的平板狀的輸送機(jī)(曝光輸送機(jī))，保持長(zhǎng)條狀工件，并在該輸送機(jī)上進(jìn)行曝光(專利文獻(xiàn)1)。

此外，還公知有如下的直接曝光裝置：對(duì)在位于供給卷軸與卷繞卷軸之間的輥(曝光輥)的圓筒面上行進(jìn)的長(zhǎng)條狀工件進(jìn)行曝光(專利文獻(xiàn)2)。

【專利文獻(xiàn)1】日本特開(kāi)2006-098720號(hào)公報(bào)

【專利文獻(xiàn)2】日本特開(kāi)2014-035412號(hào)公報(bào)

如果對(duì)在平面狀的輸送機(jī)上進(jìn)行曝光的方式與在圓筒狀的輥上進(jìn)行曝光的方式進(jìn)行比較，輸送機(jī)方式在使工件的整個(gè)被曝光區(qū)域?yàn)槠矫鏍畹姆矫姹容^優(yōu)異，但是，由于流水線長(zhǎng)度增長(zhǎng)，曝光裝置容易大型化，并且在曝光位置處局部進(jìn)行觀察的情況下的面精度較差。與此相對(duì)，由于輥方式能夠縮短流水線長(zhǎng)度，所以能夠?qū)崿F(xiàn)曝光裝置的小型化，并且在面精度(面的平滑性)和工件進(jìn)給精度的方面優(yōu)異。另一方面，輥方式由于在圓筒面(曲面)上進(jìn)行曝光，所以存在曝光圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)區(qū)窄，細(xì)線的描繪較困難的問(wèn)題。如果增大曝光輥直徑，則該問(wèn)題得到緩解，但犧牲了小型化。

此外，從工件的進(jìn)給精度的觀點(diǎn)來(lái)看，在輸送機(jī)方式中，由于輸送帶的曲折或伸縮等影響，進(jìn)給精度有可能降低。另一方面，對(duì)于輥方式，雖然在將工件吸附到輥上的吸附區(qū)中能夠獲得較高的進(jìn)給精度，但如上所述，由于吸附區(qū)不是平面(為圓筒面)，所以存在曝光圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)區(qū)窄的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的第一目的在于獲得一種直接曝光裝置，在曝光輥方式的直接曝光裝置中，能夠在抑制曝光輥直徑增大的同時(shí)，擴(kuò)大曝光圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)區(qū)，并使描繪圖案的線條變細(xì)。

此外，本發(fā)明的第二目的在于獲得一種直接曝光裝置，在吸附工件地進(jìn)行移動(dòng)的輥方式的直接曝光裝置中，能夠靈活運(yùn)用吸附輸送工件的圓筒部件的高進(jìn)給精度，保持工件的平面性來(lái)提高曝光圖像的精度，并使描繪圖案的線條變細(xì)。

本發(fā)明是一種直接曝光裝置，其使用了光調(diào)制元件陣列，將圖案曝光于從供給卷軸送出并被卷繞到卷繞卷軸上的長(zhǎng)條狀工件，所述直接曝光裝置的特征在于，具有：圓筒部件，其在上述供給卷軸與卷繞卷軸之間，在其周面的一定范圍內(nèi)保持長(zhǎng)條狀工件的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；切線方向引導(dǎo)構(gòu)件，其在長(zhǎng)條狀工件從上述圓筒部件脫離的脫離位置處，沿與上述圓筒部件的軸垂直截面中的徑向垂直的切線方向引導(dǎo)長(zhǎng)條狀工件；以及第1曝光構(gòu)件，其至少在包含上述脫離位置的輸送方向的前后一定范圍內(nèi)，對(duì)從上述圓筒部件脫離并沿上述切線方向延伸的長(zhǎng)條狀工件描繪圖案。