[發明專利]屏蔽設備及其制造方法在審
| 申請號: | 201510616497.4 | 申請日: | 2015-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN105472955A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發明(設計)人: | 劉明岳;林藝申;曹瑞龍;徐斌峯 | 申請(專利權)人: | 萊爾德電子材料(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H05K9/00 | 分類號: | H05K9/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小東 |
| 地址: | 201108 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 屏蔽 設備 及其 制造 方法 | ||
1.一種屏蔽設備,該屏蔽設備包括:
框架,所述框架包括導電泡沫;以及
蓋,所述蓋能附接至所述框架;
其中,在基板上的一個或多個部件位于由所述框架和附接至所述框架的所述蓋共同限定的內部內時,所述屏蔽設備操作地屏蔽所述一個或多個部件。
2.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中:
所述框架包括由所述導電泡沫限定的一個或多個側壁,使得所述框架具有敞開頂部;并且
所述蓋被聯接至所述框架,使得所述框架的所述敞開頂部由所述蓋覆蓋。
3.根據權利要求2所述的屏蔽設備,其中,所述側壁由單件的所述導電泡沫一體地限定。
4.根據權利要求3所述的屏蔽設備,其中,所述側壁具有單件式或整體式結構,使得所述框架不包括位于相鄰的一對所述側壁之間的任何間隙和/或將各個側壁彼此連接的接頭。
5.根據權利要求3所述的屏蔽設備,其中,所述單件的所述導電泡沫由導電泡沫片材模切為所述框架的形狀。
6.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中,所述框架包括彎曲為所述框架的形狀的導電泡沫條。
7.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中,所述框架包括由所述導電泡沫限定的一個或多個內壁以及一個或多個外側壁,使得所述蓋以及所述框架的外側壁和內壁共同限定多個獨立的電磁干擾屏蔽隔室,其中當所述框架被裝設至基板時,所述基板的部件能被定位在不同的隔室中,并且所述基板的所述部件因為所述電磁干擾屏蔽隔室而被提供電磁干擾屏蔽,從而抑制電磁干擾進出每個電磁干擾屏蔽隔室。
8.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中:
所述蓋被附接至所述框架的第一面;并且
所述屏蔽設備進一步包括導電壓敏粘合劑,所述導電壓敏粘合劑被聯接至所述框架的第二面,該第二面與供附接所述蓋的所述第一面對置。
9.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中:
所述導電泡沫包括聚氨酯泡沫,所述聚氨酯泡沫的主體上覆有金屬;和/或
所述導電泡沫包括這樣的泡沫:該泡沫包括具有內部表面的內部空隙,所述內部表面由于布置在所述內部表面上的至少一個導電的金屬或非金屬層而是導電的。
10.根據權利要求1所述的屏蔽設備,其中,所述蓋包括導電片材、導電織物、金屬化膜、導電泡沫和/或金屬箔中的至少一者。
11.根據前述權利要求中的任一項所述的屏蔽設備,其中,所述框架僅由所述導電泡沫組成。
12.一種屏蔽設備,該屏蔽設備包括導電泡沫側壁,所述導電泡沫側壁被構造成大致圍繞基板上的一個或多個部件裝設至所述基板,以為所述基板上的所述一個或多個部件提供電磁干擾屏蔽。
13.根據權利要求12所述的屏蔽設備,其中,所述導電泡沫側壁由單件的導電泡沫一體地限定,使得所述導電泡沫側壁具有單件式或整體式結構。
14.根據權利要求13所述的屏蔽設備,其中,所述單件的導電泡沫由導電泡沫片材模切為包括所述導電泡沫側壁的框架的形狀,或者彎曲為所述框架的形狀。
15.根據權利要求12所述的屏蔽設備,所述屏蔽設備進一步包括一個或多個導電泡沫內壁,使得所述導電泡沫側壁和所述一個或多個導電泡沫內壁共同限定由一個或多個所述導電泡沫內壁彼此分隔的多個區域;和/或其中所述導電泡沫側壁包括覆有金屬的聚氨酯泡沫,和/或所述導電泡沫側壁包括這樣的泡沫,該泡沫包括具有內部表面的內部空隙,所述內部表面由于布置在所述內部表面上的至少一個導電的金屬或非金屬層而是導電的。
16.根據權利要求12至15中的任一項所述的屏蔽設備,其中,所述屏蔽設備是組合式屏蔽設備,該組合式屏蔽設備包括:
框架,該框架包括限定敞開頂部的所述導電泡沫側壁;以及
蓋,所述蓋在所述框架的所述敞開頂部上附接至所述框架,
其中,在基板上的一個或多個部件位于由所述框架和所述蓋共同限定的內部內時,所述組合式屏蔽設備操作地屏蔽所述一個或多個部件。
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