[發明專利]真空蒸鍍裝置有效
| 申請號: | 201510607517.1 | 申請日: | 2015-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN105463377B | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發明(設計)人: | 田村博之 | 申請(專利權)人: | 佳能特機株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 裝置 | ||
真空蒸鍍裝置。本發明提供一種具有石英振蕩式膜厚計的優良的真空蒸鍍裝置,通過在一個蒸發源的石英振蕩式膜厚計中使用預先形成了一定膜厚的從其余的其它蒸發源蒸發的有機材料的石英振子,從而不必設置基底膜形成工序,也能夠預先形成帶一定膜厚的有機材料基底膜的多個石英振子,并且,抑制了石英振子的等效串聯電阻的上升并實現了壽命延長。在真空蒸鍍裝置中,用于對一個蒸發源的膜厚和蒸鍍速度進行控制的石英振蕩式膜厚計的多個石英振子(4)是預先在利用其余的其它蒸發源實施的蒸鍍工序中在控制膜厚和蒸鍍速度的同時在該多個石英振子上形成了該有機材料的有機材料基底膜的帶有機材料基底膜的石英振子。
技術領域
本發明涉及在保持減壓環境的真空槽內在基板上形成薄膜、具有用于對膜厚或蒸鍍速度(膜厚率)進行控制的石英振蕩式膜厚計的真空蒸鍍裝置。
背景技術
在通過真空蒸鍍法在基板上形成薄膜的真空蒸鍍裝置中,使用膜厚計以便對膜厚和蒸鍍速度(膜厚率)進行控制。該膜厚計根據測定方式不同而存在各個種類,但是廣泛使用石英振子法。
使用石英振子法的石英振蕩式膜厚計利用了當在石英振子的表面附著有蒸鍍物質時,諧振振動根據其質量變化而變化的性質,例如,通過測定該諧振振動(振蕩頻率)的變化來測量膜厚和膜厚率,并將其反饋給蒸發源的加熱控制裝置,從而將蒸鍍薄膜在基板上的膜厚率控制為恒定以管理膜厚。
并且,在這樣的基于石英振動式膜厚計的膜厚測定(膜厚監視)時,當在石英振子的電極膜上較厚地蒸鍍薄膜時,會產生諧振振動不穩定、石英振子的等效串聯電阻(晶體阻抗)上升而流過石英振子的電流降低,從而無法測定諧振振動等現象。因此,當這樣較厚地蒸鍍而無法測定諧振振動時,判斷為石英振子達到壽命,將石英振子更換為新的石英振子。
具體而言,例如使保持多個石英振子的石英保持架旋轉并切換使用,以使得能夠在真空槽內連續進行該石英振子的更換。
以往,為了延長該石英振子的壽命,根據專利文獻1(日本特開2000-101387號公報)所述,為了使得在較厚地蒸鍍薄膜的情況下也不容易產生該膜的裂紋或剝離,通過預先在石英振子的成膜面的電極膜上形成軟質金屬膜,從而緩和膜的內部應力來防止膜的剝離或裂紋。
并且,根據專利文獻2(日本特開2014-70238號公報)所述,在真空腔內具有至少2個以上的蒸發源和與其對應的膜厚傳感器,并且構成為從一個蒸發源蒸發不容易附著于石英振子表面的材料,并且向對其進行監視的膜厚傳感器預先導入從另一個蒸發源蒸發的材料,由此,在對不容易附著的材料進行蒸鍍之前,利用密合性優良的材料預先在石英振子表面形成基底膜,從而在使用不容易附著的材料的情況下,也能夠檢測準確的蒸發率。
【專利文獻1】日本特開2000-101387號公報
【專利文獻2】日本特開2014-70238號公報
但是,通過專利文獻1而已知的在石英振子上預先形成金屬膜的方法是防止成膜材料的剝離、消除諧振振動的不穩定性、延長石英振子的壽命的方法,但是,即使石英振子上形成的膜未剝離,由于石英振子的等效串聯電阻上升而流過石英振子的電流降低,有時也無法測定諧振振動,所以,無法延長石英振子的壽命。
并且,在通過專利文獻2而已知的對設置于一個蒸發源中的不容易附著的材料的膜厚傳感器導入從另一個蒸發源蒸發的材料以預先形成基底膜的方法中,通過預涂用導入管對相對于所述一個蒸發源而配置在適當位置處的膜厚傳感器導入另一個蒸發源的材料,所以,無法確保充分的蒸鍍率,并且,預先形成于該膜厚傳感器(石英振子表面)上的基底膜容易變得不均。進而,從該另一個蒸發源導入容易附著的材料時未監視其膜厚,所以,無法形成準確的膜厚的基底膜。
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