[發明專利]真空蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201510607517.1
• 申請日: 2015-09-22
• 公開（公告）號: CN105463377B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 田村博之
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種真空蒸鍍裝置，其在真空槽內使從至少2個蒸發源蒸發的作為蒸鍍材料的有機材料沉積在基板表面上以形成薄膜，其特征在于，

在所述真空槽內具有至少2個用于控制各所述蒸發源而控制所述基板表面的膜厚或蒸鍍速度的石英振蕩式膜厚計，所述石英振蕩式膜厚計具有多個石英振子，一個蒸發源所具有的一個所述石英振蕩式膜厚計構成為具有多個帶有機材料基底膜的石英振子，該多個帶有機材料基底膜的石英振子在預先形成了一定膜厚的從其余的其它蒸發源蒸發的有機材料后，更換為下一個石英振子，由此，將該有機材料蒸鍍于該石英振蕩式膜厚計所具有的所述多個石英振子上，在進行利用該其余的其它蒸發源實施的蒸鍍工序中的膜厚監視的同時分別預先形成了一定膜厚的、材料與從所述一個蒸發源蒸發的蒸鍍材料不同的有機材料基底膜，在利用該其余的其它蒸發源實施的蒸鍍工序結束后，通過具有所述帶有機材料基底膜的石英振子的石英振蕩式膜厚計，進行利用所述一個蒸發源實施的蒸鍍工序中的膜厚監視。

2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述真空槽由多個有機蒸鍍室構成，在各有機蒸鍍室中配設有各所述蒸發源和所述石英振蕩式膜厚計，配設在其中一個有機蒸鍍室中的所述石英振蕩式膜厚計的所述多個石英振子構成為，在預先形成了一定膜厚的從其余的其它有機蒸鍍室的所述蒸發源蒸發的有機材料后，更換為下一個石英振子，由此，在該多個石英振子上分別形成所述有機材料基底膜，通過具有該帶有機材料基底膜的石英振子的石英振蕩式膜厚計，進行利用所述一個有機蒸鍍室的所述蒸發源實施的蒸鍍工序中的膜厚監視。

3.根據權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在各所述石英振子上形成的所述有機材料基底膜為至少2μm以上的膜厚。

4.根據權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在各所述石英振子上形成的所述有機材料基底膜為至少2μm以上的膜厚。

5.根據權利要求1～4中的任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述石英振子的正面和背面上形成的電極膜由Al或以Al為主成分的多種金屬形成。

6.根據權利要求1～4中的任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述真空蒸鍍裝置具有移動所述石英振蕩式膜厚計的移動機構，一邊控制膜厚或蒸鍍速度，一邊在各所述石英振子上蒸鍍從所述其余的其它蒸發源蒸發的有機材料而形成所述有機材料基底膜，在利用該其余的其它蒸發源實施的蒸鍍工序結束后，通過所述移動機構移動該石英振蕩式膜厚計，在所述帶有機材料基底膜的石英振子上形成從所述一個蒸發源蒸發的有機材料，由此，控制該一個蒸發源而控制所述基板表面的膜厚或蒸鍍速度，進行利用該一個蒸發源實施的蒸鍍工序中的膜厚監視。

7.根據權利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述真空蒸鍍裝置具有移動所述石英振蕩式膜厚計的移動機構，一邊控制膜厚或蒸鍍速度，一邊在各所述石英振子上蒸鍍從所述其余的其它蒸發源蒸發的有機材料而形成所述有機材料基底膜，在利用該其余的其它蒸發源實施的蒸鍍工序結束后，通過所述移動機構移動該石英振蕩式膜厚計，在所述帶有機材料基底膜的石英振子上形成從所述一個蒸發源蒸發的有機材料，由此，控制該一個蒸發源而控制所述基板表面的膜厚或蒸鍍速度，進行利用該一個蒸發源實施的蒸鍍工序中的膜厚監視。

8.根據權利要求1～4中的任意一項所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述有機材料是用于制造有機EL器件的有機材料。

9.根據權利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述有機材料是用于制造有機EL器件的有機材料。

10.根據權利要求6所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述有機材料是用于制造有機EL器件的有機材料。

11.根據權利要求7所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述有機材料是用于制造有機EL器件的有機材料。