[發明專利]電感耦合等離子處理裝置

有效

• 申請號: 201510589966.8
• 申請日: 2015-09-16
• 公開（公告）號: CN105451426B
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 吳守鎬
• 申請（專利權）人: 圓益IPS股份有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384
• 代理人: 鄭青松

1.一種感應場等離子處理裝置，其特征在于，包括：

腔室主體，其上側形成X軸方向長度及垂直于X軸方向的Y軸方向長度不同的長方形開口部；

電介質組裝體，設置成覆蓋所述長方形開口部，包括多個長方形電介質及支撐所述多個電介質的格子框架；

基板支架，設置在所述腔室主體而支撐基板；

氣體噴射部，向處理空間噴射氣體；

天線部，設置在所述電介質組裝體的上部，在所述處理空間形成感應場，

其中，所述格子框架具有n×m排列的長方形開口，其中n及m為3以上的自然數，且所述格子框架包括：

長方形形狀的最外廓框架，以所述X軸方向長度及垂直于X軸方向的Y軸方向的長度不同所述長方形開口部為基準而形成最外廓；

長方形形狀的一個以上的內側框架，位于所述最外廓框架的內側；

其中，所述內側框架為，從所述最外廓框架的內側到所述內側框架的外側的X軸方向以及Y軸方向的距離相同；

所述多個電介質中，位于所述腔室主體的開口部的頂點處的電介質，其平面形狀為正方形，且所述天線部，包括：

最外廓天線部件，配置在所述最外廓框架的內側；

一個以上的內側天線部件，配置在所述最外廓天線部件的內側；

其中，所述最外廓天線部件為，從所述最外廓框架的內側到所述最外廓天線部件的外側的X軸方向以及Y軸方向的距離相同；

一個以上的所述內側天線部件為，從所述內側框架的內側及外側中向著所述內側天線部件的一側到所述內側天線部件的內側以及外側中向著所述內側框架側的X軸方向以及Y軸方向的距離相同。

2.根據權利要求1所述的感應場等離子處理裝置，其特征在于，

所述最外廓天線部件及所述內側天線部件，被布置成平面上天線部件所占區域的中心線之間的X軸方向及Y軸方向的距離相同。

3.根據權利要求1所述的感應場等離子處理裝置，其特征在于，

所述最外廓天線部件及所述內側天線部件，被布置成平面上天線部件所占區域的最近的多個邊緣處之間的X軸方向及Y軸方向的距離相同。

4.根據權利要求1-3任一所述的感應場等離子處理裝置，其特征在于，

所述最外廓天線部件及所述內側天線部件，包括至少一部分相互分岔后重新匯合的一個以上的分岔部。