[發明專利]RH爐外精煉真空系統

有效

• 申請號: 201510587866.1
• 申請日: 2015-09-15
• 公開（公告）號: CN105200194B
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發明（設計）人: 樊書芳;杜善國;張小輝;王佳力;冀建立
• 申請（專利權）人: 北京首鋼股份有限公司
• 主分類號: C21C7/10
• 分類號: C21C7/10
• 代理公司: 北京華沛德權律師事務所11302
• 代理人: 劉杰

技術領域

本發明涉及RH爐外精煉真空系統技術領域，尤其涉及一種RH爐外精煉真空系統。

背景技術

真空系統是目前RH爐外精煉工藝的核心機構，系統真空返流內泄漏是真空系統常見故障之一，且難以排查，處理時間長，嚴重制約RH工藝設備整體生產率。冷凝水管道逆止閥內泄漏故障是造成系統真空返流內泄漏主要因素之一。

在現有技術中，真空系統運行時，在抽真空的初始階段，冷凝水主管道同時向C2和C3冷凝器提供側冷水，兩者共用一根進水管；進入深抽真空階段，C2和C3冷凝器側冷水關閉，C2冷凝器內真空度大于C3冷凝器內真空度，目前為防止真空度由C2冷凝器向C3冷凝器返流，在C3冷凝器提供側冷水管道安裝了機械逆止閥。但由于冷凝水一般使用濁環水，水質較臟，雜質多，閥板易結垢卡阻，經常導致逆止閥關不到位，密封不嚴，導致深抽真空時C3冷凝器內的廢氣返流到C2冷凝器中，致使真空返流內泄短路，整個系統出現真空度抽不下來或真空波動。

發明內容

本申請實施例通過提供一種RH爐外精煉真空系統，能夠有效解決現有真空系統返流內泄的的技術問題，能同時實現供水和防止真空返流雙重技術效果。

本申請實施例通過提供一種RH爐外精煉真空系統，應用于一真空系統中，其中所述真空系統包括供水主管路、第一供水支路、第二供水支路、C2冷凝器及C3冷凝器，其中，所述供水主管路通過所述第一供水支路與所述C2冷凝器連接，其特征在于，所述真空系統包括：

第一管段、第二管段及第三管段；

所述第一管段與所述第三管段垂直于水平面且平行設置，所述第三管段比所述第一管段長；

所述第一管段的一端與所述供水主管道連接，另一端與所述第二管段的一端連接；

所述第三管段的一端與所述第二管段的另一端連接，所述第三管段的另一端通過所述第二供水支路與所述C3冷凝器連接，阻止側冷水自所述C2冷凝器向所述C3冷凝器返流。

進一步地，所述第三管段比所述第一管段長9.7m以上。

進一步地，所述的RH爐外精煉真空系統，還包括：

一供水調節閥，所述供水調節閥設置在所述第一管段上。

進一步地，所述的RH爐外精煉真空系統裝置，還包括：

一泄水排污閥，所述泄水排污閥設置在所述第二管段底部。

本申請實施例中提供的一個或多個技術方案，至少具有如下技術效果或優點：

由于采用了述第三管段比所述第一管段長的結構設計，使RH爐外精煉真空系統管道中的殘留水自然形成的水柱自重壓力封閉真空壓力，未采用任何型式的閥門來密封真空，有效解決了現有技術中采用閥門控制中壓力損失大，閥板易卡阻，工作故障率高等問題，實現了供水密封雙重功能，且工作可靠，故障率低，0泄漏，供水沿程壓力損失小。

附圖說明

圖1為本申請實施例一提供的RH爐外精煉真空系統的結構示意圖。

圖2為圖1所示一種RH爐外精煉真空系統的在實施應用中的結構示意圖。

具體實施方式

實施例一

本發明的目的是提供一種RH爐外精煉真空系統，利用兩側管道具有高度差的U型管實現供水和防止真空返流雙重功能，相比現有的利用逆止閥防止真空返流的技術，工作更可靠，不會發生機械卡阻故障，不受水中雜質影響，供水阻力小，密封真空嚴密，能實現零泄漏。

如圖1所示，本發明實施例提供了一種RH爐外精煉真空系統，應用于一真空系統中，其中所述真空系統包括供水主管路1、第一供水支路2、第二供水支路3、C2冷凝器4及C3冷凝器5，其中，所述供水主管路1通過所述第一供水支路2與所述C2冷凝器4連接，所述真空系統包括：

第一管段6-1、第二管段6-2及第三管段6-3；所述第一管段6-1與所述第三管段6-3垂直于水平面且平行設置。所述第三管段6-3比所述第一管段6-1長9.7m以上，因為極限真空度為-1bar，即負1個單位大氣壓，也就等于0m海拔時9.7m水柱的自重壓力，所以利用高度差為9.7m的RH爐外精煉真空系統形成的水柱可有效的密封真空度。本實施例優選10m，實際使用中真空度有瞬間波動，導致水柱波動，多0.3m足以彌補，防止實際水柱高度不足，高度差過大，將造成管道浪費和安裝空間加大，而高度差小于9.7m將存在真空泄漏問題。