[發明專利]RH爐外精煉真空系統有效
| 申請號： | 201510587866.1 | 申請日： | 2015-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN105200194B | 公開（公告）日： | 2018-03-13 |
| 發明（設計）人： | 樊書芳;杜善國;張小輝;王佳力;冀建立 | 申請（專利權）人： | 北京首鋼股份有限公司 |
| 主分類號： | C21C7/10 | 分類號： | C21C7/10 |
| 代理公司： | 北京華沛德權律師事務所11302 | 代理人： | 劉杰 |
| 地址： | 100041 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 型管逆止 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種RH爐外精煉真空系統，其中所述真空系統包括供水主管路、第一供水支路、第二供水支路、C2冷凝器及C3冷凝器，其中，所述供水主管路通過所述第一供水支路與所述C2冷凝器連接，其特征在于，所述真空系統包括：
第一管段、第二管段及第三管段；
所述第一管段與所述第三管段垂直于水平面且平行設置，所述第三管段比所述第一管段長；
所述第一管段的一端與所述供水主管道連接，另一端與所述第二管段的一端連接；
所述第三管段的一端與所述第二管段的另一端連接，所述第三管段的另一端通過所述第二供水支路與所述C3冷凝器連接，阻止側冷水自所述C2冷凝器向所述C3冷凝器返流；
其中，所述第三管段比所述第一管段長9.7m以上；
其中，所述真空系統還包括：一供水調節閥，所述供水調節閥設置在所述第一管段上；
其中，所述真空系統還包括：一泄水排污閥，所述泄水排污閥設置在所述第二管段底部。
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