[發明專利]隔墊物及其制造裝置在審
| 申請號: | 201510583558.1 | 申請日: | 2015-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN105045034A | 公開(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發明(設計)人: | 劉桓;王醉;郭晉波;羅時勲 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/54 | 分類號: | G03F1/54;G03F7/20;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 隔墊物 及其 制造 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及液晶面板用的隔墊物,尤其涉及一種隔墊物及其制造裝置。
背景技術
隨著顯示技術的進步,液晶顯示面板得到越來越廣泛的應用,然而,液晶顯示面板通常采用在陣列基板和彩膜基板之間灌入液晶的方法形成,液晶顯示面板本身的結構決定了其產品會隨著外界溫度的變化而導致玻璃基板和液晶等材料膨脹或者收縮,另外,這些產品經常受到如觸摸等外力的沖擊,很容易造成液晶顯示面板的基板錯位,造成面板漏光問題,將給顯示效果帶來顏色不正、效果不佳等等很多不良影響。
為了增加液晶顯示裝置周邊區域的支撐效果,同時也為了防止液晶顯示裝置在其后期模組制備過程中受外力發生變形的情況,現有技術通常會在彩膜基板上設置凸柱狀的隔墊物(PostSpacer,簡稱PS)來支撐陣列基板和彩膜基板之間的液晶間隙,從而實現均一盒厚。PS有MainPS(主隔墊物)和SubPS(副隔墊物)之分,MainPS的高度高于SubPS,當顯示屏的陣列基板和彩膜基板貼合后,頂住陣列基板的PS為MainPS,沒有頂住陣列基板的PS為SubPS。MainPS是液晶顯示面板正常工作環境下一直起支撐作用的PS,當液晶顯示面板受到外界壓力過大時,可通過SubPS頂住陣列基板來增加PS柱子整體的支撐強度。
一般的MainPS和SubPS均為棱臺或棱柱等截面為梯形的結構,MainPS支撐在陣列基板上,SubPS懸空以實現輔助支撐作用,但是此種設計的MainPS和SubPS需要單獨制造,與之配合的陣列基板表面制造工藝不同會導致粗糙度不同,MainPS和SubPS的段差難以精確控制。有人在此基礎上設計了一種“凸”字狀PS,即在普通PS的端面直接形成尺寸更小的延伸部,此種PS自身帶有一定的梯度,當面板受到擠壓時,第二梯度會頂住陣列基板,起到SubPS的作用,與MainPS和SubPS單獨設計的結構相比,此種結構無需在陣列基板表面單獨制造臺階部以實現MainPS和SubPS的段差,從而可以提高像素開口率。但是,此種PS的制造工藝通常采用兩次曝光工藝成型,首先通過第一次曝光制造出具有第一梯度的SubPS,然后通過第二次曝光在SubPS上制造出臺階部,形成第二梯度的MainPS。然而,兩次曝光需要兩張PS光罩,同樣需要兩次曝光工藝,制造成本依然較高。
發明內容
鑒于現有技術存在的不足,本發明提供了一種像素開口率高、制造工藝簡單、制造成本低的隔墊物及其制造裝置。
為了實現上述的目的,本發明采用了如下的技術方案:
一種隔墊物制造裝置,包括光罩和與所述光罩正對的曝光裝置,所述光罩包括中心透光區和設于所述中心透光區外圍的外圍透光區,所述曝光裝置發出的光線透過所述光罩后照射到負向光阻材料上,透過所述外圍透光區的光線強度小于透過所述中心透光區的光線強度。
其中,所述中心透光區的透光率大于所述外圍透光區。
或者,所述外圍透光區設有交替設置的子透光區和遮光區,一個所述遮光區將所述中心透光區和所述子透光區間隔開。
其中,所述子透光區和所述遮光區均為中心對稱結構,且二者的對稱中心與所述中心透光區相同。
其中,所述光罩為多個,且每個所述光罩上的所述子透光區的數量不同。
或者,所述光罩為多個,且每個所述光罩上的所述子透光區的寬度不同。
或者,所述光罩為多個,且每個所述光罩上的所述遮光區的寬度不同。
或者,所述外圍透光區均勻分布有多個點狀的子透光區。
其中,所述隔墊物制造裝置還包括曝光調節裝置,用于調節所述曝光裝置的光照參數。
本發明的另一目的在于提供一種隔墊物,使用上述的隔墊物制造裝置制成。
本發明的隔墊物制造裝置在同一個光罩上制作出能夠透射出不同光線強度的中心透光區和外圍透光區,使得經曝光裝置發出的光線照射至負向光阻材料后中心的光線強度與外圍的光線強度存在差別,在中心區形成的隔墊物高度大于外圍形成的隔墊物高度,只需一次曝光工藝即可實現“凸”字狀隔墊物的制作,工藝簡單,制造成本低。同時,該制造裝置內還可包括多個配套使用的光罩,每個光罩的外圍透光區具有不同的形狀和尺寸,還可以通過增加外圍透光區的子透光區密度和寬度或調節曝光裝置的光照參數,使得外圍透光區的光罩均勻性可調,最終實現“凸”字狀隔墊物的凸肩部的平整度可調,可以滿足不同規格的隔墊物制造需求。
附圖說明
圖1為本發明實施例的顯示面板的結構示意圖。
圖2為本發明實施例的隔墊物制造裝置的結構示意圖。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





