[發(fā)明專利]隔墊物及其制造裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510583558.1 | 申請日: | 2015-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN105045034A | 公開(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉桓;王醉;郭晉波;羅時勲 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/54 | 分類號: | G03F1/54;G03F7/20;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 隔墊物 及其 制造 裝置 | ||
1.一種隔墊物制造裝置,其特征在于,包括光罩(10)和與所述光罩(10)正對的曝光裝置(20),所述光罩(10)包括中心透光區(qū)(10a)和設于所述中心透光區(qū)(10a)外圍的外圍透光區(qū)(10b),所述曝光裝置(20)發(fā)出的光線透過所述光罩(10)后照射到負向光阻材料上,透過所述外圍透光區(qū)(10b)的光線強度小于透過所述中心透光區(qū)(10a)的光線強度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述中心透光區(qū)(10a)的透光率大于所述外圍透光區(qū)(10b)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述外圍透光區(qū)(10b)設有交替設置的子透光區(qū)(11)和遮光區(qū)(12),一個所述遮光區(qū)(12)將所述中心透光區(qū)(10a)和所述子透光區(qū)(11)間隔開。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述子透光區(qū)(11)和所述遮光區(qū)(12)均為中心對稱結(jié)構(gòu),且二者的對稱中心與所述中心透光區(qū)(10a)相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述光罩(10)為多個,且每個所述光罩(10)上的所述子透光區(qū)(11)的數(shù)量不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述光罩(10)為多個,且每個所述光罩(10)上的所述子透光區(qū)(11)的寬度不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述光罩(10)為多個,且每個所述光罩(10)上的所述遮光區(qū)(12)的寬度不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,所述外圍透光區(qū)(10b)均勻分布有多個點狀的子透光區(qū)(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的隔墊物制造裝置,其特征在于,還包括曝光調(diào)節(jié)裝置(30),用于調(diào)節(jié)所述曝光裝置(20)的光照參數(shù)。
10.一種隔墊物,其特征在于,使用權(quán)利要求1-9任一所述的隔墊物制造裝置制成。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





