[發(fā)明專利]一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的檢測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510570679.2
• 申請(qǐng)日: 2015-09-09
• 公開（公告）號(hào): CN105093856A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陸敏婷
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥芯碁微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 合肥天明專利事務(wù)所 34115
• 代理人: 婁岳;陳進(jìn)

1.一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的檢測(cè)方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)向激光直接成像設(shè)備輸入拼接誤差檢測(cè)圖形，該拼接誤差檢測(cè)圖形包括兩個(gè)直徑大小不同的圓；

2)安裝并調(diào)試基板；

3)對(duì)基板進(jìn)行曝光成像；

4)CCD圖像處理系統(tǒng)抓取左側(cè)圓心坐標(biāo)(x₁,y₁)；

5)CCD圖像處理系統(tǒng)抓取右側(cè)圓心坐標(biāo)(x₂,y₂)；

6)計(jì)算拼接誤差值，實(shí)際拼接誤差值在X方向計(jì)算公式為x₀＝x₂-x₁-△x，實(shí)際拼接誤差值在Y方向計(jì)算公式為y₀＝y(tǒng)₂-y₁-△y；其中△x和△y分別為步驟1)所述拼接誤差檢測(cè)圖形中兩個(gè)圓在X方向和Y方向上的圓心間距。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法，其特征在于，所述拼接誤差檢測(cè)圖形中兩個(gè)圓的在X方向上的圓心間距△x在0.5mm至10mm之間，兩個(gè)圓的在Y方向上的圓心間距△y在0至10mm之間，兩個(gè)圓直徑大小在0.1mm至5mm之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法，其特征在于，所述基板為表面覆有一層感光干膜的PCB板。