[發(fā)明專利]準備載體元件的要與摩擦體材料配合連接的表面的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510566588.1
• 申請日: 2015-09-08
• 公開（公告）號: CN105462508A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設計）人: 斯特凡·斯坦梅茨;帕爾米羅·蘭齊洛蒂
• 申請（專利權(quán)）人: 舍弗勒技術(shù)股份兩合公司
• 主分類號: C09J5/02
• 分類號: C09J5/02;F16D13/64
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 張春水;丁永凡

技術(shù)領域

本發(fā)明涉及一種用于準備載體元件的要與摩擦體材料配合地連接 的至少一個表面的方法。本發(fā)明還涉及一種具有至少一個載體元件的離 合器盤，所述載體元件具有至少一個根據(jù)這種方法準備的表面，所述表 面與摩擦體、尤其摩擦片材料配合地連接。

背景技術(shù)

從德國公開文獻DE102005003507A1中已知一種用于對配設有 至少一個環(huán)形的襯片載體盤的離合器的構(gòu)件進行后處理的方法，其中至 少將覆層涂覆到襯片彈簧區(qū)段的表面的一部分上。從德國公開文獻DE 102011086521A1中已知一種用于制造摩擦體、尤其機動車中的濕式 摩擦片的方法，其中襯片載體是板，其中第一紙坯件和第二紙坯件和襯 片載體在包含在紙坯件中的用于摩擦體的粘結(jié)劑加熱和反應的情況下 在摩擦區(qū)域中擠壓成預設厚度上，其中包含在紙坯件中的粘結(jié)劑在擠壓 之前處于尚能反應的狀態(tài)下。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是：簡化具有載體元件的盤、尤其離合器盤的制造， 所述載體元件具有要與摩擦體材料配合地連接的至少一個表面。

所述目的在用于準備載體元件的要與摩擦體材料配合地連接的至 少一個表面的方法中通過如下方式實現(xiàn)：所述表面經(jīng)受等離子預處理。 摩擦體優(yōu)選為摩擦襯片，所述摩擦襯片基本上具有帶有矩形的環(huán)橫截面 的圓環(huán)盤的構(gòu)型。具有載體元件的摩擦襯片也稱作為片。載體元件優(yōu)選 為載體板，所述載體板具有用于與摩擦體材料配合地連接的圓環(huán)形的 面。在應用根據(jù)本發(fā)明的方法時，優(yōu)選載體元件的全部面或表面經(jīng)受等 離子預處理。在優(yōu)選在封閉的腔室中執(zhí)行的等離子預處理中，例如離子 化的原子以及電子到達到載體元件的全部表面上。在此，以簡單的方式 和方法無化學制品地且無接觸地從載體元件的要與摩擦體連接的表面 移除載體元件上的不期望的材料附著物。通過等離子處理，能夠改進載 體元件的要與摩擦體材料配合地連接的表面的極性、可潤濕性和化學制 品親和力。此外，能夠通過等離子預處理改進載體元件和摩擦體之間的 用于展現(xiàn)材料配合連接的粘膠的附著力。這提供如下優(yōu)點：摩擦體以簡 單的方式和方法持久地和可靠地能夠固定在載體元件的被等離子預處 理的表面上。在此，根據(jù)本發(fā)明的方法以尤其有利的方式和方法實現(xiàn)大 規(guī)模的工業(yè)制造，更確切地說以與應用常規(guī)方法的情況相比顯著更小的 環(huán)境負荷實現(xiàn)大規(guī)模的工業(yè)制造。

該方法的一個優(yōu)選的實施例的特征在于：在封閉的腔室中執(zhí)行載體 元件的表面的等離子預處理。由此，可靠地防止流體或氣體的不期望的 排出，能夠在執(zhí)行等離子預處理時應用所述流體或氣體。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：在等離子預處理載體元件 的表面時在封閉的腔室中產(chǎn)生真空。由此以簡單的方式和方法實現(xiàn)反應 氣體的導出，所述反應氣體在封閉的腔室中執(zhí)行等離子預處理時出現(xiàn)。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：在等離子預處理載體元件 的表面時在封閉的腔室中產(chǎn)生0.1至1毫巴的真空。真空例如能夠借助 于真空泵產(chǎn)生，所述真空泵連接到封閉的腔室上。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：為了等離子預處理將工藝 氣體導入到封閉的腔室中。工藝氣體優(yōu)選為離子化的工藝氣體。工藝氣 體優(yōu)選經(jīng)由閥裝置輸送到封閉的腔室中。于是借助真空泵將反應氣體從 封閉的腔室中抽出。由此產(chǎn)生穿過封閉的腔室的連續(xù)的氣流。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：將工藝氣體在封閉的腔室 中離子化。離子化例如借助發(fā)生器進行。用于對封閉的腔室中的工藝氣 體離子化的發(fā)生器例如具有四十千赫。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：將在等離子預處理時出現(xiàn) 的反應氣體從封閉的腔室中導出。反應氣體如上面描述的那樣例如借助 于真空泵導出。

該方法的另一優(yōu)選的實施例的特征在于：在等離子預處理時用低壓 等離子加載載體元件的表面。低壓等離子在稀薄的氣體中產(chǎn)生，所述氣 體的壓強顯著低于大氣壓強。但是為了等離子預處理，能夠在根據(jù)本發(fā) 明的方法的范圍中也應用大氣等離子。