[發明專利]線柵偏振器以及制造線柵偏振器的方法

在審

• 申請號: 201510547985.4
• 申請日: 2015-08-31
• 公開（公告）號: CN105676334A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 金鎮洛;姜泰旭;金泰均
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王新華

技術領域

本申請涉及線柵偏振器(wiregridpolarizer)以及制造線柵偏振器的方 法。

背景技術

其中導線(conductorwire)被彼此平行地布置以使來自電磁波的某些光 偏振的平行導線陣列通常被稱為線柵偏振器。

響應于入射的非偏振光，具有比入射光的波長小的周期的線柵偏振器反 射平行于其線的方向的偏振光，并使垂直于其線(wire)的方向的偏振光從 其透射。線柵偏振器比吸收型偏振器更有益，因為其允許被反射的偏振光被 再利用。

發明內容

示例性實施方式提供具有優良的可加工性的線柵偏振器、具有該線柵偏 振器的顯示裝置以及制造該線柵偏振器的方法。

然而，示例性實施方式不限于這里闡述的那些。通過參照以下給出的詳 細描述，對于本申請所屬的領域中的普通技術人員而言，以上和其它的示例 性實施方式將變得更加明顯。

根據示例性實施方式，提供一種線柵偏振器，該線柵偏振器包括：襯底， 配置為具有設置在該襯底的第一表面上的多個凹進圖案；多個導電線圖案， 配置為分別設置在襯底的該多個凹進圖案中；以及氧化物層，配置為設置在 襯底和導電線圖案上。

根據另一示例性實施方式，提供一種線柵偏振器，該線柵偏振器包括： 襯底，被配置為具有設置在該襯底的第一表面上的多個第一凹進圖案以及也 設置在該襯底的第一表面上的第二凹進圖案，第二凹進圖案具有比第一凹進 圖案的寬度大的寬度；多個導電線圖案，配置為分別設置在襯底的該多個第 一凹進圖案中；反射層，配置為設置在襯底的第二凹進圖案中；以及氧化物 層，配置為設置在襯底、導電線圖案和反射層上。

根據另一示例性實施方式，提供一種制造線柵偏振器的方法，該方法包 括：在襯底的第一表面上形成多個凹進圖案；在襯底的第一表面上以及在該 多個凹進圖案內形成導電材料層；以及氧化導電材料層的在襯底上的部分以 形成氧化物層以及分別在該多個凹進圖案中的多個導電線圖案。

根據另一示例性實施方式，提供一種制造線柵偏振器的方法，該方法包 括：在襯底的第一表面上形成多個第一凹進圖案以及具有比第一凹進圖案的 寬度大的寬度的第二凹進圖案；在襯底的第一表面上以及在該多個第一凹進 圖案和第二凹進圖案內形成導電材料層；以及氧化導電材料層的在襯底上的 部分，以形成氧化物層以及分別在該多個第一凹進圖案中的多個導電線圖案 和在第二凹進圖案中的反射層。

根據示例性實施方式，可以提供具有優良的可加工性的線柵偏振器。

其它的特征和示例性實施方式將從以下的詳細描述、附圖和權利要求而 變得明顯。

附圖說明

圖1是根據示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖2是根據另一示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖3是根據另一示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖4是根據另一示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖5是根據另一示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖6是根據另一示例性實施方式的線柵偏振器的豎直截面圖。

圖7、8、9、10、11、12和13是示出根據示例性實施方式的制造線柵 偏振器的方法的截面圖。

圖14、15、16、17和18是示出根據另一示例性實施方式的制造線柵偏 振器的方法的截面圖。

圖19、20、21、22、23、24和25是示出根據另一示例性實施方式的制 造線柵偏振器的方法的截面圖。

圖26、27、28、29和30是示出根據另一示例性實施方式的制造線柵偏 振器的方法的截面圖。

具體實施方式

本發明構思的方面和特征以及用于實現所述方面和特征的方法將通過 參照關于附圖被詳細描述的實施方式而明顯。然而，本發明構思不限于在下 文中公開的實施方式，但是能夠以多種形式被實現。在該描述中限定的事物， 諸如詳細的構造和元件，不過是提供用來輔助本領域的普通技術人員對本發 明構思的綜合理解，本發明構思僅被限定在權利要求的范圍內。在整個描述 中，在不同的圖中，相同的附圖標記被用于相同的元件。在圖中，層和區域 的尺寸和相對尺寸可以被夸大以使說明清晰。