[發(fā)明專利]碳化硅納米線?石墨復(fù)合陰極及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510546908.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105244245B | 公開(公告)日: | 2017-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳興宇;萬(wàn)紅;白書欣;張為軍;華葉;劉卓峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01J1/30 | 分類號(hào): | H01J1/30;H01J9/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙)43008 | 代理人: | 趙洪,黃麗 |
| 地址: | 410073 *** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 碳化硅 納米 石墨 復(fù)合 陰極 及其 制備 方法 | ||
1.一種碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極,其特征在于,所述碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極是由石墨陰極坯體和碳化硅納米線組成,所述碳化硅納米線原位生長(zhǎng)且均勻分布于所述石墨陰極坯體的刃口部位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極,其特征在于,所述石墨陰極坯體是由石油焦石墨、鱗片石墨、炭黑中的一種或多種構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極,其特征在于,所述石墨陰極坯體的形狀為環(huán)狀或者平板狀;所述碳化硅納米線的直徑為100nm~600nm,長(zhǎng)徑比為100~2000。
4.一種如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極的制備方法,包括以下步驟:
(1)以Si粉和SiC粉的混合物或者Si粉為硅源,以石墨陰極坯體為碳化硅納米線生長(zhǎng)的基體,將所述硅源和所述石墨陰極坯體置于一反應(yīng)容器中,使所述石墨陰極坯體的刃口部位靠近硅源;
(2)將上述放置有硅源和石墨陰極坯體的反應(yīng)容器置于燒結(jié)爐中,先抽真空至爐內(nèi)氣壓不大于50Pa,然后通入惰性氣體,再加熱升溫至1300℃~1500℃,經(jīng)保溫后,降溫至室溫,得到碳化硅納米線-石墨復(fù)合陰極。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中,所述Si粉和SiC粉的混合物中Si粉的含量為10wt%~100wt%,其余為SiC粉。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中,所述加熱升溫的速率為2℃/min~5℃/min,所述保溫的時(shí)間為0.5h~2h。
7.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中,所述降溫過程包括先以2℃/min~5℃/min的降溫速率降溫至400℃,再自然冷卻至室溫。
8.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中,所述石墨陰極坯體是由石墨塊體經(jīng)機(jī)械加工制備得到。
9.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中,所述反應(yīng)容器為石墨坩鍋;所述步驟(2)中,所述燒結(jié)爐為真空碳管燒結(jié)爐。
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