[發明專利]一種復合銀帶的制造方法和制造設備

有效

• 申請號: 201510539621.1
• 申請日: 2015-08-28
• 公開（公告）號: CN105225856B
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 孫珂楊
• 申請（專利權）人: 寧波科揚貴金屬合金科技有限公司
• 主分類號: H01H1/04
• 分類號: H01H1/04;H01H11/04
• 代理公司: 北京君恒知識產權代理事務所(普通合伙)11466
• 代理人: 黃啟行,張璐

技術領域

本發明涉及電觸點材料技術領域，尤其是一種銀金屬氧化物-銅復合電觸點的制造方法。

背景技術

電觸點是電器開關、儀器儀表的接觸元件，它主要承擔接通和分斷電流

的作用，它對電器的安全運行有決定性作用，在生產電觸點的材料中，銀金屬氧化物(如銀氧化錫AgSnO₂、銀氧化鎘AgCdO)材料由于具有較好的耐電磨損，抗熔焊性和導電性，在低壓電器中得到廣泛應用。銀氧化錫／銅復合材料是由銀金屬氧化物與銅兩種材料通過特殊的復合工藝組合而成的新型功能材料，它既保留銀金屬氧化物和基材銅的主要特色，又可通過復合效應獲得原組分所不具備的性能，既節約白銀、發揮銀觸點耐電磨損，抗熔焊性和導電性等優點，又能提高機械性能，是一項重要的節銀技術。然而銀金屬氧化物與銅的結合強度較差，目前國內在銀銅復合材料方面的研究重點是銀銅合金與無氧銅的條復合、面復合，這些基本都不是銀的氧化物與銅的復合。現在個別企業生產銀金屬氧化物與銅的復合材料時的生產方式是先用氬弧焊把銀金屬氧化物板錠與厚銅錠兩材料的邊緣焊接起來，然后在還原性氣體的保護下用熱軋機進行反復熱軋復合，在熱軋過程中，銀金屬氧化物會和還原性氣體反應，還原出銀金屬，這樣生產出來的銀銅復合材料中銀的氧化物含量不高，同時這種生產方式不能規模化生產，每次只能加工出一段長度很小的帶材，利用該種工藝不能連續加工，生產：效率極低。

發明內容

本發明針對現有技術中的不足，提供了一種復合銀帶的制造方法和制造設備，能夠在加熱過程中讓銀金屬氧化帶不和外界接觸，避免了保護氣氛與銀金屬氧化帶發生還原反應，造成銀金屬氧化物被還原降低復合銀帶性能的問題。同時銀金屬氧化帶放入開設在銅帶的槽內然后進行熱壓軋，使得復合銀帶結合強更高，復合牢度更好。

為了解決上述技術問題，本發明通過下述技術方案得以解決：一種復合銀帶的制造方法，其特征包含以下幾個步驟：步驟A）：對銅帶和銀金屬氧化帶表面進行清洗，去除其表面的油污和雜質，然后在所述的銅帶上開設與所述銀金屬氧化帶相匹配的槽，再然后對銅帶和金屬氧化帶進行拋光處理；步驟B）：對所述銅帶端部進行切削處理，使得所述銅帶具有所述槽的一面的端部形成斜面，同時在所述銅帶具有所述槽的一面開設若干條波紋槽；步驟C）：將所述銀金屬氧化帶放入到所述銅帶的槽內形成待處理帶，然后將兩條待處理帶以上下層疊的方式放入到連續加熱爐內，兩條所述的待處理帶兩側對齊且暴露有銀金屬氧化帶的一面相互貼靠使得所述銀金屬氧化帶不接觸外界，所述連續加熱爐內加熱溫度為550℃~750℃，走帶速度為1.0~3.0m/min，加熱區內設置有起保護作用的保護氣氛，所述保護氣氛流量為2~12m³/h；步驟D）：兩個所述的待處理帶加熱完成后通過分離裝置進行分離，然后分別通過軋輥進行壓軋，使得所述待處理帶內所述銀金屬氧化帶通過壓軋熱鑲嵌到所述銅帶上的槽內與所述銅帶復合形成銀金屬氧化物-銅復合帶；步驟E）：將兩條所述銀金屬氧化物-銅復合帶以上下層疊的方式放入到擴散爐內進行退火處理，兩條所述銀金屬氧化物-銅復合帶兩側對齊且暴露有銀金屬氧化帶的一面相互貼靠使得所述銀金屬氧化帶不接觸外界，退火溫度在500℃~650℃之間，退火時間在1h~2h之間；步驟F）：對退火完后的兩個所述銀金屬氧化物-銅復合帶通過所述分離裝置進行分離，分離后進行拋光和清洗處理，然后通過冷軋機進行數次軋制，每道次的變形量不大于10%；步驟G）：對壓軋完的所述銀金屬氧化物-銅復合帶放入所述的擴散爐內進行消除應力處理，加熱溫度在250℃~400℃之間，加熱時間在1h~1.5h之間；步驟H）：對消除應力后的所述銀金屬氧化物-銅復合帶進行抗氧化處理，在所述銀金屬氧化物-銅復合帶上對暴露在外的銅材上涂抹抗氧化劑；步驟I）：對所述銀金屬氧化物-銅復合帶兩端進行切除，然后根據實際情況對所述的銀金屬氧化物-銅復合帶進行分條；步驟J）：對所述分完條的銀金屬氧化物-銅復合帶進行檢驗測試。

上述技術方案中，優選的，所述的步驟A）中所述銅帶上開設的所述槽的寬度與所述銀金屬氧化帶寬度相等，所述槽的深度是所述銀金屬氧化帶高度的100%~110%。

上述技術方案中，優選的，所述的步驟C）中所述的保護氣氛是純氮氣或者純氫氣。

上述技術方案中，優選的，所述的步驟E）中所述的擴散爐內充有保護氣氛，所述的保護氣氛為純氮氣，所述的氮氣流量為1.5~~10.5m³/h。