[發(fā)明專利]用于流體供應(yīng)容器的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)和控制裝置及流體供應(yīng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510518383.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-06-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105047591B | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·D·斯威尼;A·M·阿維拉;M·J·沃德延斯基;J·R·德普雷斯;T·H·鮑姆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 恩特格里斯公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11287 | 代理人: | 齊楊 |
| 地址: | 美國(guó)馬*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 流體 供應(yīng) 容器 終點(diǎn) 監(jiān)測(cè) 控制 裝置 | ||
本申請(qǐng)是于2013年1月18日進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的國(guó)際申請(qǐng)日為2011年6月18日、國(guó)家申請(qǐng)?zhí)枮?01180036342.3(國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/US2011/041013)、名稱為“用于毛細(xì)管輔助的流動(dòng)控制的終點(diǎn)確定”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
根據(jù)美國(guó)法典第35篇第119節(jié),在此要求2010年6月18日提交的第61/356,451號(hào)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)和2010年7月21日提交的第61/366,523號(hào)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)權(quán)益。出于所有目的,第61/356,451號(hào)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)和第61/366,523號(hào)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容在此分別以參引方式全部納入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開內(nèi)容涉及在例如將半導(dǎo)體制造流體從該流體的源輸送至半導(dǎo)體制造工具的過程中,用于毛細(xì)管輔助的流動(dòng)控制的終點(diǎn)確定。
背景技術(shù)
在流體供應(yīng)容器的使用中,可以在裝置或操作中利用供應(yīng)的流體,在該裝置或操作中,操作的連續(xù)性對(duì)于該裝置或操作的經(jīng)濟(jì)特征是至關(guān)重要的。
作為一個(gè)實(shí)例,可向半導(dǎo)體制造設(shè)施的離子植入工具供應(yīng)摻雜劑流體。在工具操作期間,摻雜劑流體供應(yīng)的任何突然的意外耗竭都會(huì)迫使植入工具停止運(yùn)轉(zhuǎn),且接著需要在制造過程中丟棄或再制晶圓,以及由于安裝新的流體供應(yīng)容器來(lái)替代流體耗盡的容器而造成操作延遲。
這樣的流體供應(yīng)的突然意外耗竭以及伴隨的操作打亂對(duì)加工系統(tǒng)造成嚴(yán)重的經(jīng)濟(jì)損失。該問題與如下的流體供給容器的使用相關(guān),該流體供給容器利用對(duì)供應(yīng)的流體進(jìn)行的毛細(xì)管輔助的流動(dòng)控制。
發(fā)明內(nèi)容
本公開內(nèi)容涉及用于毛細(xì)管輔助的流動(dòng)控制的終點(diǎn)確定。
在一個(gè)方面,本公開內(nèi)容涉及一種確定流體供應(yīng)過程的終點(diǎn)的方法,該方法包括:
選擇性地建立來(lái)自一個(gè)流體供應(yīng)容器的流體流動(dòng);
當(dāng)建立流體流動(dòng)時(shí),采用一個(gè)靜態(tài)流動(dòng)限制設(shè)備和一個(gè)選擇性可致動(dòng)閥元件,控制流體流動(dòng)通過位于所述流體供應(yīng)容器的內(nèi)部容積中的流動(dòng)通道;以及
監(jiān)測(cè)所述流體供應(yīng)容器的或從該流體供應(yīng)容器分配的流體的至少一個(gè)特性,以確定終點(diǎn);
其中所述靜態(tài)流動(dòng)限制設(shè)備和所述選擇性可致動(dòng)閥元件沿著所述流動(dòng)通道布置。
在另一方面,本公開內(nèi)容涉及一種用于流體供應(yīng)容器的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)和控制裝置,在該裝置中,當(dāng)建立流體流動(dòng)時(shí),采用一個(gè)靜態(tài)流動(dòng)限制設(shè)備和一個(gè)選擇性可致動(dòng)閥元件,控制通過位于所述流體供應(yīng)容器的內(nèi)部容積中的流動(dòng)通道的流體流動(dòng)。所述終點(diǎn)監(jiān)測(cè)和控制裝置包括一個(gè)監(jiān)測(cè)單元和一個(gè)CPU,該監(jiān)測(cè)單元適于監(jiān)測(cè)所述流體供應(yīng)容器的或從流體供應(yīng)容器供應(yīng)的流體的至少一個(gè)特性,并產(chǎn)生一個(gè)輸出信號(hào),該CPU以接收輸出信號(hào)的關(guān)系操作性地聯(lián)接至該監(jiān)測(cè)單元。該CPU具有存儲(chǔ)在其中的終點(diǎn)條件信息,并響應(yīng)于從所述監(jiān)測(cè)單元接收到指示終點(diǎn)條件的輸出信號(hào)而產(chǎn)生一個(gè)控制信號(hào),該控制信號(hào)用于終止來(lái)自所述流體供應(yīng)容器的流體供應(yīng)。
本公開內(nèi)容的又一方面涉及一種流體利用裝置,該流體利用裝置適于執(zhí)行上文概述的本公開內(nèi)容的方法。
本公開內(nèi)容的再一方面涉及一種如上文概述的方法,其中所述方法由一個(gè)流體利用裝置執(zhí)行。
在另一方面,本公開內(nèi)容涉及上述的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)和控制裝置,該終點(diǎn)監(jiān)測(cè)和控制裝置與至少一個(gè)流體供應(yīng)容器一起操作性布置。
本發(fā)明的另一方面涉及一個(gè)流體供應(yīng)系統(tǒng),包括:流體供應(yīng)容器,所述容器具有用于容納流體的內(nèi)部容積;在該內(nèi)部容積中的第一流動(dòng)回路,該第一流動(dòng)回路被布置以在從容器供應(yīng)流體期間控制流體的流動(dòng),所述第一流動(dòng)回路包括靜態(tài)流動(dòng)限制設(shè)備和選擇性可致動(dòng)閥元件;以及第二流動(dòng)回路,該第二流動(dòng)回路與所述容器聯(lián)接以從所述容器中排出流體,其中所述系統(tǒng)包括下列元件中的至少一個(gè):
(ⅰ)所述容器的內(nèi)部容積中的緩沖貯存器,該緩沖貯存器與所述第一流動(dòng)回路聯(lián)接,被布置以容納流體,用于對(duì)流體釋放至所述第一流動(dòng)回路進(jìn)行緩沖;
(ⅱ)所述容器外部的緩沖貯存器,該緩沖貯存器與所述第二流動(dòng)回路聯(lián)接,被布置以容納流體,用于對(duì)流體釋放至所述第二流動(dòng)回路進(jìn)行緩沖;
(ⅲ)壓力調(diào)節(jié)器,被布置以調(diào)節(jié)所述第二流動(dòng)回路中的流體壓力;
(ⅳ)壓力傳感器,被布置以監(jiān)測(cè)所述第二流動(dòng)回路中的流體壓力;
(ⅴ)質(zhì)量流控制器,被布置以控制所述第二流動(dòng)回路中的流體的質(zhì)量流;
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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