[發明專利]掩模圖形的制造方法和掩模圖形

有效

• 申請號: 201510516473.1
• 申請日: 2015-08-20
• 公開（公告）號: CN105093818B
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 王宇鵬;李小龍;田超;占紅明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F1/76
• 分類號: G03F1/76;G03F1/54;G03F7/00
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 鞠永善

本發明是關于一種掩模圖形的制造方法和掩模圖形，屬于顯示技術領域。所述方法包括：在曲面襯底基板上形成膜層；在所述膜層上形成目標掩模圖形，所述目標掩模圖形包含有多個圖形單元，每個所述圖形單元在第一平面上的正投影不等間距排布，所述第一平面為所述曲線襯底基板的兩條直線邊所確定的平面。本發明通過在曲面襯底基板上形成在第一平面上的正投影不等間距排布的掩模圖形，其中第一平面為曲線襯底基板的兩條直線邊所確定的平面，解決了相關技術中黑矩陣可能無法完全阻擋改變了方向的背景光的泄露，繼而會產生漏光的問題；達到了能夠更好的避免因為背景光方向改變而造成的漏光的效果。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種掩模圖形的制造方法和掩模圖形。

背景技術

黑矩陣(Black Matrix，BM)是沉積在襯底基板上的不透光部分。它的主要作用是防止背景光泄漏，提高顯示對比度，防止混色和增加顏色的純度。

相關技術中有一種BM制造方法，該方法首先在襯底基板上形成BM層，之后在形成有BM層的襯底基板上形成光刻膠層，之后通過包含有陣列排布的不透光區域的平面的BMMask對形成有光刻膠層的襯底基板進行曝光顯影，最后對曝光顯影后的襯底基板進行刻蝕，并去除剩余光刻膠完成BM的制造。

發明人在實現本發明的過程中，發現上述方式至少存在如下缺陷：在曲面顯示裝置中，背景光的照射方向會發生改變(相對于平面顯示裝置)，而通過上述BM Mask在曲面顯示裝置中的曲面襯底基板上形成的BM可能無法完全阻擋改變了方向的背景光的泄露，繼而會產生漏光的問題。

發明內容

為了解決相關技術中BM可能無法完全阻擋改變了方向的背景光的泄露，繼而會產生漏光的問題，本發明提供了一種掩模圖形的制造方法和掩模圖形。所述技術方案如下：

根據本發明的第一方面，提供一種掩模圖形的制造方法，所述方法包括：

在曲面襯底基板上形成膜層；

在所述膜層上形成目標掩模圖形，所述目標掩模圖形包含有多個圖形單元，每個所述圖形單元在第一平面上的正投影不等間距排布，所述第一平面為所述曲線襯底基板的兩條直線邊所確定的平面。

可選的，所述圖形單元之間的間距沿所述曲面襯底基板的曲面中部向外的方向逐漸增大。

可選的，所述在所述膜層上形成目標掩模圖形包括：

通過第一掩膜版在所述膜層上形成所述目標掩模圖形。

可選的，所述通過第一掩膜版在所述膜層上形成所述目標掩模圖形之前，所述方法還包括：

在透明基板上形成光阻擋層；

采用第二掩膜版在形成有所述光阻擋層的透明基板上形成掩模圖形，得到所述第一掩膜版，所述第二掩膜版上設置有不等間距排布的不透光區域。

可選的，所述采用第二掩膜版在形成有所述光阻擋層的透明基板上形成掩模圖形，得到所述第一掩膜版之前，所述方法還包括：

通過預設平面掩膜版在與所述曲面襯底基板形狀相同的曲面基板上形成所述掩模圖形，所述預設平面掩膜版上包含有陣列排布的不透光區域；

將所述掩模圖形平鋪在平面透明基板上構成所述第二掩膜版。

可選的，所述采用第二掩膜版在形成有所述光阻擋層的透明基板上形成掩模圖形，得到所述第一掩膜版，包括：

在形成有所述光阻擋層的透明基板上形成光刻膠層；

采用所述第二掩膜版對形成有所述光刻膠層的透明基板進行曝光；

對曝光后的透明基板進行顯影、刻蝕得到所述第一掩膜版。