[發明專利]電潤濕顯示下基板的制備方法

有效

• 申請號: 201510512530.9
• 申請日: 2015-08-19
• 公開（公告）號: CN105044903B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 水玲玲;竇盈瑩;金名亮;周國富
• 申請（專利權）人: 華南師范大學;深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205
• 代理人: 唐致明

技術領域

本發明涉及電潤濕顯示技術領域；具體涉及電潤濕顯示下基板的制備方法。

背景技術

電潤濕顯示技術（EFD，Electrofluidic Display），又名電濕潤，是通過控制電壓來調控基板表面材料的潤濕性從而控制油墨運動的顯示技術。參照圖1和圖2，電潤濕顯示器件包括上基板1、封裝膠框2和下基板4，其中下基板4包含導電層3（TFT、ITO基板、金屬電極基板）、疏水絕緣層5、像素墻6。上基板1和下基板4組成的密封腔體中填充有不導電的第一流體7（烷烴、硅油等），和導電的第二流體8（水、鹽溶液或離子液），流體相互接觸且不可混溶。電潤濕顯示器的疏水絕緣層5是其核心功能結構，該層覆蓋下基板4的導電層3，在其之上設置有壁圖案即像素墻6，由像素墻6所圍成的像素格9結構即為顯示區域，電潤濕顯示裝置就在這個顯示區域上產生顯示效果。疏水絕緣層5必須具有良好的疏水性即一定的親油性，才能保證電潤濕顯示器件中第一流體7及第二流體8這兩種互不相溶液體界面的穩定性。由于疏水絕緣層5具有較強的疏水性，使得在其之上直接制備像素墻6時會出現粘附性不好而分層剝離的現象。

現有的電潤濕工藝中常采用反應離子刻蝕等手段對疏水絕緣層5進行預處理，使其表面變親水，以提高其黏附性，然后再進行像素墻材料的涂布，制備像素墻6，在完成像素墻6的曝光顯影后，再將顯示下基板4置于氣氛爐中回爐熱處理，恢復像素格9內的疏水絕緣層5的表面疏水。此種工藝不僅流程復雜，且回爐熱處理工藝易導致像素墻6的變色及像素格9變形，會直接影響顯示器的效果。同時，疏水絕緣層5被改性后再恢復，即回流工藝過程往往不能做到完全的恢復，也就是說回流完成后的疏水絕緣層表面與未經改性的表面可能存在性質上的差異，也就導致了得到的電潤濕器件出現質量或者壽命的問題。

專利CN201080050951X中提出采用局部疏水改性然后設置壁材料的方案，但其提出的常規的局部改性方法為局部反應離子刻蝕或局部等離子體改性，這種局部改性的方法，精度難以控制，目前僅能做到毫米級的精確度，因此得到的器件質量并不理想。因此本申請進一步改進，提供一種模板法化學改性的方法，以提高局部改性的精度，從而提高器件質量。

發明內容

本發明的目的在于提供一種電潤濕顯示下基板的制備方法。

本發明所采取的技術方案是：一種電潤濕顯示下基板的制備方法，包括在疏水絕緣層表面進行圖案化親水改性，然后在親水改性后的疏水絕緣層上形成像素墻的步驟，其中，所述在疏水絕緣層表面進行圖案化親水改性的步驟包括：

制備第一模板，所述第一模板上設有與像素墻位置對應的凸起；

在所述第一模板的凸起表面涂布或沾浸改性液，形成一層改性液膜；

將具有改性液膜的第一模板的凸起與電潤濕顯示下基板的疏水絕緣層接觸，并保留一定時間進行親水改性。

優選地，所述改性液為萘鈉溶液、氨鈉溶液、鈦酸丁酯-過氟辛酸和鈉聯苯二氧六環中的任一種。

優選地，所述改性液膜的厚度為1nm-1mm。

優選地，所述親水改性的時間為3s-3min。

作為上述方案的進一步改進，所述制備方法中，在親水改性后的疏水絕緣層上形成像素墻的步驟包括：

制備第二模板，所述第二模板具有與像素墻圖案相對應的凹形結構；

在疏水絕緣層的親水改性后的表面涂布像素墻材料；

將第二模板與設置有像素墻材料的下基板接觸，并使像素墻材料充分填充到與凹形結構中，利用第二模板的凹形結構對像素墻材料進行塑形；

固化后脫模，在電潤濕顯示下基板的表面得到像素墻圖案；

或者，

制備第二模板，所述第二模板具有與像素墻圖案對應的凹形結構；

在所述第二模板的凹形結構內填充像素墻材料；

將第二模板壓印在親水改性后的電潤濕顯示下基板的疏水絕緣層表面；

固化后脫模，在電潤濕顯示下基板的表面得到像素墻圖案。

優選地，所述第一模板和第二模板為無機材料、金屬材料或聚合物材料。優選地，所述無機材料為玻璃或者單晶硅，所述聚合物材料為PDMS、PMMA、PI、PET、PEN、PC、PCO、PES和PAR中的任一種；所述金屬材料為鋁、銅或鋼等，優選為鋁。進一步優選地，所述第一模板和第二模板為柔性模板。

優選地，所述像素墻材料的涂布或填充方式為旋涂、滾涂、狹縫涂、浸涂、噴涂、刮涂、凹印、凸印、絲網印和噴墨打印中的任一種。