[發明專利]電潤濕顯示下基板的制備方法

有效

• 申請號: 201510512530.9
• 申請日: 2015-08-19
• 公開（公告）號: CN105044903B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 水玲玲;竇盈瑩;金名亮;周國富
• 申請（專利權）人: 華南師范大學;深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205
• 代理人: 唐致明

1.一種電潤濕顯示下基板的制備方法，包括在疏水絕緣層表面進行圖案化親水改性，然后在親水改性后的疏水絕緣層上形成像素墻的步驟，其特征在于，所述在疏水絕緣層表面進行圖案化親水改性的步驟包括：

制備第一模板，所述第一模板上設有與像素墻位置對應的凸起；

在所述第一模板的凸起表面涂布或沾浸改性液，形成一層改性液膜；

將具有改性液膜的第一模板的凸起與電潤濕顯示下基板的疏水絕緣層接觸，并保留一定時間進行親水改性。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述改性液為萘鈉溶液、氨鈉溶液、鈦酸丁酯-過氟辛酸和鈉聯苯二氧六環中的任一種。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述改性液膜的厚度為1nm-1mm。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述親水改性的時間為3s-3min。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述在親水改性后的疏水絕緣層上形成像素墻的步驟包括：

制備第二模板，所述第二模板具有與像素墻圖案相對應的凹形結構；

在疏水絕緣層親水改性后的表面涂布像素墻材料；

將第二模板與設置有像素墻材料的下基板接觸，并使像素墻材料充分填充到凹形結構中，利用第二模板的凹形結構對像素墻材料進行塑形；

固化后脫模，在電潤濕顯示下基板的表面得到像素墻圖案；

或，

制備第二模板，所述第二模板具有與像素墻圖案對應的凹形結構；

在所述第二模板的凹形結構內填充像素墻材料；

將第二模板壓印在親水改性后的電潤濕顯示下基板的疏水絕緣層表面；

固化后脫模，在電潤濕顯示下基板的表面得到像素墻圖案。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于：所述第一模板和第二模板為無機材料或聚合物材料。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述無機材料為玻璃或者單晶硅，所述聚合物材料為PDMS、PMMA、PI、PET、PEN、PC、PCO、PES和PAR中的任一種。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述第一模板和第二模板為柔性模板。

9.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述像素墻材料是采用旋涂、滾涂、狹縫涂、浸涂、噴涂、刮涂、凹印、凸印、絲網印和噴墨打印中的任一種方式進行涂布或填充。

10.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述的像素墻材料為親水性聚合物、親水性無機材料或親水性的有機/無機雜合材料。